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农林学类论文-浅谈西瓜营养特性与施肥技术.doc

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农林学类论文-浅谈西瓜营养特性与施肥技术.doc

农林学类论文浅谈西瓜营养特性与施肥技术论文关键词西瓜;营养特性;施肥技术论文摘要介绍了西瓜的营养特性和施肥技术,以期为西瓜生产者提供参考。随着农业产业结构调整的不断深入和人们生活水平的提高,西瓜作为一种经济作物,越来越受到人们的青睐,种植面积逐年扩大。西瓜是一种需肥量较大的作物,施肥是其产量和质量提高的重要手段。1营养特性西瓜在整个生长发育时期对氮、磷、钾养分的钾吸收最多,氮次之,磷最少。不同生长发育时期对氮、磷、钾养分的吸收量,幼苗较少,伸蔓期吸收量增多,果实膨大期吸收量达到最高峰,成熟期趋于缓慢。西瓜对氮、磷、钾的吸收量随植株生长和干物质积累的增加而提高。第2雌花开花以前57D内,干物质的积累占总量的76,钾的吸收量占总吸收钾量的89;第2雌花开花到果实褪毛共6D时间,西瓜植株生长和养分吸收都逐渐加快,干物质积累占总量的46,氮素的吸收量占总吸氮量的34,磷素的吸收量占总吸磷量的07,钾素的吸收量占总吸钾量的28;从果实褪毛到果实膨大后期共20D时间,西瓜植株物质积累和养分的吸收达到高峰,干物质积累占总量的678,氮素的吸收量占总吸氮量的681,磷素的吸收量占总吸磷量的642,钾素的吸收量占总吸收钾量的663;从果实膨大结束到成熟,干物质的积累和氮、磷、钾养分的吸收趋于缓慢,干物质的积累占总量的202,氮、磷、钾的吸收量分别占总吸收量的155、276和220。西瓜生长发育全期氮、磷、钾养分的吸收累积表现为前期少、中期多、后期少的吸收特点。中产地块生产1T西瓜果实吸收氮(N)246KG、磷(P2O5)09KG、钾(K2O)302KG,N、P2O5、K2O的比例为1∶037∶123。在西瓜生长发育的不同时期,植株吸收氮、磷、钾的比例抽蔓期以前为1∶021∶083,吸氮多、钾少、磷最少;果实褪毛期为1∶08∶087,磷的比例提高幅度较大,钾的比例稍有提高;果实膨大期为1∶03∶113,磷的吸收比率又有所下降,钾的吸收比例有所提高;成熟期为1∶026∶122,整个生长发育前期需氮多、钾少、磷较少,中后期需钾多。因此,在西瓜生长前期增施氮肥配施磷、钾肥,促进植株营养生长,坐瓜期追施氮、钾肥,对于提高西瓜产量和品质十分重要。西瓜各器官氮、磷、钾累积与分配,因生育期不同而不同。在抽蔓期以前西瓜叶片中的氮素含量占茎叶总含量的83以上,可见叶是西瓜生长前期氮素的分配中心;从累积量上看,膨大期叶的含氮量达到高峰,比成熟期叶片含氮量还要高,充分证明后期叶片中的氮素被果实再利用;膨大期至成熟期氮素的分配中心是果实,而果实中瓜瓤又是氮素的分配中心。因此,后期氮素的供应水平将是西瓜品质的决定因素。西瓜各器官磷素的积累分配基本和氮素相同,但其累积数量比氮素少。抽蔓期以前磷素的积累分配中心是叶子,植株含磷量的80集中在叶片中;果实膨大期植株含磷量达较高值,到成熟期减少,说明茎叶中的磷素到西瓜生长后期被再利用;果实在成熟期成为磷素的累积分配中心。西瓜植株各器官对钾素的吸收量、积累量比氮、磷高得多,但累积分配中心基本相同,即在西瓜生长发育前期钾素的累积分配中心是叶子;果实是钾素后期累积分配中心;茎叶中的钾素在后期也被果实再利用。2施肥技术西瓜的栽培方式分为露地栽培和保护地栽培2种,其施肥方法大体相同,一般可分为基肥和追肥。基肥施用方法有撒施、沟施和穴施3种。撒施与沟施或穴施相结合效果较好。撒施一般施优质农家肥30T/HM2左右,并结合施入过磷酸钙300450KG/HM2、硫酸钾4560KG/HM2。沟施是按定植或播种的行距开沟,在播种或定植前2周施肥,一般施优质农家肥225T/HM2左右、饼肥2250KG/HM2。穴施是在播种或定植前1周左右,按行向每穴施优质农家肥15KG或饼肥02KG左右。根据西瓜生长发育的需求分次进行追肥,确保西瓜植株稳健生长,果实迅速膨大。西瓜追肥可分3次进行第1次在幼苗长出23片真叶时,在距苗15CM处每株追氮(N)810G;第2次在西瓜伸蔓后施催蔓肥,追氮(N)4560KG/HM2、磷(P2O5)90120KG/HM2、钾(K2O)75120KG/HM2,或腐熟饼肥1500KG/HM2左右;第3次在果实膨大期追氮(N)4560KG/HM2、磷(P2O5)90120KG/HM2、钾(K2O)150180KG/HM2。除土壤追肥外,还可以叶面喷施氮、磷、钾肥,对微量元素缺乏的土壤,可喷施微肥,以补充西瓜从土壤中吸收量的不足。在西瓜抽蔓期和坐果期喷施02磷酸二氢钾或尿素溶液和02硼砂溶液,可防止茎叶早衰,提高产量,改善西瓜品质。参考文献1孙慧丽优质高产西瓜合理施肥技术J现代农业科技,2008(9)492柳琳,吴玉明西瓜施肥关键技术J西北园艺(蔬菜专刑),2008(4)39403孙忠坤,吴昊,徐永杰北方大棚小兰西瓜施肥技术J现代农业科技,2008(14)98

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