• 现行
  • 正在执行有效
  • 2013-09-06 颁布
  • 2014-05-01 实施
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文档简介

ICS7712010

H61..

中华人民共和国国家标准

GB/T29658—2013

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

High-puritysputteringaluminiumandaluminium

alloytargetusedinelectronicfilm

2013-09-06发布2014-05-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T29658—2013

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国有色金属标准化技术委员归口

(SAC/TC243)。

本标准负责起草单位有研亿金新材料股份有限公司

:。

本标准参加起草单位宁波江丰电子材料有限公司新疆众和股份有限公司

:、。

本标准主要起草人万小勇罗俊锋廖赞尚再艳杨华朱晓光孙秀霖何金江熊晓东王兴权

:、、、、、、、、、、

王学泽钱红兵喻洁刘杰洪涛努力古宋玉萍

、、、、、、。

Ⅰ

GB/T29658—2013

电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

1范围

本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求试验方法检验规则及标志包装运

、、、、

输存贮订货单或合同等内容

、、()。

本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材以下简称铝靶

()。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本标

。,

准凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本标准

。,()。

一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差

GB/T1804

金属平均晶粒度测定方法

GB/T6394

金属材料中氢氧氮碳和硫分析方法通则

GB/T14265、、、

无损检测氦泄漏检测方法

GB/T15823

铝及铝合金化学分析方法第部分电感耦合等离子体原子发射光谱法

GB/T20975.2525:

变形金属超声检验方法

GJB1580A

铝制焊接容器

JB/T4734

溅射靶材背板结合质量超声波检验方法

YS/T837-

高纯铝化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法

YS/T871

3要求

31产品分类

.

311按照应用领域分为半导体布线用高纯溅射靶材半导体封装用高纯溅射靶材平板显示器用高

..:、、

纯溅射靶材和太阳能电池用高纯溅射靶材

。

312按照结构形式分为单体和焊接两种

..。

313按外形分为圆形矩形和三角形等

..、。

32合金成分与纯度

.

321根据合金材料不同可分为纯铝靶铝硅合金靶铝铜合金靶铝硅铜合金靶四种靶材

..,、、、。

322高纯铝合金靶中合金元素含量应不超过规定成分的

..±10%。

323铝靶合金成分及杂质元素要求应符合表规定

..1。

表1铝靶合金成分和对应的杂质元素

成分

AlAlSiAlCuAlSiCu

或合金含量不小于

AlAl

99.9999.99999.999599.99599.99999.999599.99999.999599.99999.999

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