- 现行
- 正在执行有效
- 2013-10-17 颁布
- 2014-03-01 实施
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文档简介
ICS7715040
H62..
中华人民共和国有色金属行业标准
YS/T936—2013
集成电路器件用镍钒合金靶材
Sputteringnickelvanadiumalloytargetusedinintegratedcircuitdevice
2013-10-17发布2014-03-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
YS/T936—2013
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国有色金属标准化技术委员归口
(SAC/TC243)。
本标准负责起草单位有研亿金新材料股份有限公司
:。
本标准参加起草单位北京有色金属研究总院宁波江丰电子材料股份有限公司中国有色金属工
:、、
业标准计量质量研究所
。
本标准主要起草人董亭义何金江刘红宾张涛姚力军王学泽向磊徐学礼朱晓光丁照崇
:、、、、、、、、、、
吕超雷继峰熊晓东张殿凯李娜
、、、、。
Ⅰ
YS/T936—2013
集成电路器件用镍钒合金靶材
1范围
本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求试验方法检验规则和标志包装运输
、、、、、
贮存质量证明书及合同或订货单内容
、。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材
。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
产品几何技术规范表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值
GB/T1031(GPS)
金属平均晶粒度测定法
GB/T6394
金属材料中氢氧氮碳和硫分析方法通则
GB/T14265、、、
变形金属超声检验方法
GJB1580A
溅射靶材背板结合质量超声波检验方法
YS/T837-
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件
。
31
.
靶材target
溅射沉积技术中的阴极部分该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子原子或离子的形式
。、
脱离阴极而在阳极表面沉积
。
32
.
靶坯targetblank
阴极上用作目标材料的部分
。
33
.
背板backingplate
用来支撑或固定靶坯的部分靶材与背板可以通过焊接如钎焊电子束焊扩散焊等机械复合
。(、、)、、
粘接等方式连接
。
4要求
41产品分类
.
411按照结构形式分为单体和复合两种
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