薄膜,讨论分组以及习题思考题.doc

讨论小组分组名单第一组第二组第三组第四组第五组第六组第七组第八组第九组第十组唐小云朱静茹李 璟吴国威朱良宇沈春芳石媛媛侯 婷徐 梦邓昌琴胡汉成胡光平刘朝江伍 锋李 航王 斐谭正林向未极王 康江 健彭 红唐迪东李侯双舒 陈耿世杰李林洁陈 智刘增勋刘志昂曹 康满 磊魏 晖徐超群宁 锋俞佳敏王大育李红林涂添哲甘 睿宋 勇师 帅彭世强常海旭刘庆伟苗 航赵尤川陈郑奇李彝波翁鸿翔牛文甫第1章 讨 论 作 业（11月1日-周五上午1.2节）第1、 二组：P29，公式2-35，dt积分第3、 四组：第5、 六组：第七、八组：第9、 十组：第2章 习题思考题（10月29日-周二上午1.2节提问）1、什么是饱和蒸气压、蒸发温度？（第一组、第九组）2、克-克方程及其意义？（第二组、第十组）3、蒸发速率、温度变化对其影响？（第三组）4、平均自由程与碰撞几率的概念。（第四组）5、点蒸发源和小平面蒸发源特性？（第五组）6、拉乌尔定律？如何控制合金薄膜的组分？（第六组）7、MBE的特点？（第七组）8、膜厚的定义？监控方法？（第八组）第3章 习题思考题（10月29日-周二上午1.2节提问）1、溅射镀膜与真空镀膜相比，有何特点？（第一组、第九组）2、辉光放电原理；正常辉光放电和异常辉光放电的特征。（第二组、第十组）3、溅射率及影响因素；溅射原子的能量、角速度分布。（第三组）4、为什么入射为电子时不能发生溅射？（第四组）5、二极直流溅射、三极或四极溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射的结构和原理。（第五组）6、射频溅射原理。（第六组）7、磁控溅射电子的运动轨迹。（第七组）8、反应溅射和蒸发反应高能量粒子分布几率和反应速率的差别。（第八组）第四章 离子镀膜技术1、离子镀膜系统工作的必要条件？（第一组、第九组）2、离子镀膜的原理及薄膜形成条件？（第二组、第十组）3、离子镀膜技术的分类？（第三组）4、直流二极离子镀、三极、多阴极离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀的原理和特点？（第四组-二极、第五组-三极、第六组-多阴极、第七组-活性、第八组-射频 ）第五组 化学气相沉积1、CVD热力学分析的主要目的？（第一组）2、CVD过程自由能与反应平衡常数的过程判据？（第二组）3、热分解反应、化学合成反应及化学输运反应及其特点？（第三组-反应、第八组-特点）4、CVD的必要条件？（第四组）5、什么是冷壁CVD？什么是热壁CVD？特点是什么？（第五组-冷壁CVD及特点、第九组-热壁CVD及特点）6、什么是开管CVD？什么是闭管CVD？特点是什么？（第六组-开管、第十组-闭管）7、什么是低压CVD和等离子CVD？（第七组）第六章 溶液镀膜技术1、什么是化学镀？它与化学沉积镀膜的区别？（第一组-化学镀、第九组-区别）2、自催化镀膜的特点？（第二组）3、Sol-Gel镀膜技术的特点和主要过程？（第三组-特点、第十组-主要过程）4、阳极氧化镀膜和电镀的原理和特点？（第四组-阳极氧化、第八组-电镀）5、什么是LB技术？LB薄膜的种类？LB薄膜的特点？（第五组-技术、第六组-种类、第七组-特点）第七章 薄膜的形成1、薄膜形成的基本过程描述？（第一组）2、什么是凝聚？入射原子滞留时间、平均表面扩散时间、平均扩散距离的概念？（第二组）3、什么是捕获面积？对薄膜形成的影响？（第三组）4、凝聚过程的表征方法？（第四组）5、核形成与生长的物理过程。（第五组）6、核形成的相变热力学和原子聚集理论的基本内容？（第六组）7、什么是同质外延、异质外延？失配度？（第七组）8、形成外延薄膜的条件？（第八组）第八章 薄膜的结构和