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文档简介

XPS分析方法原理XPS仪器基本结构XPS主要分析技术 第六章 X射线光电子谱是重要的表面分析技术之一 它不仅能探测表面以及深度的化学组成 而且可以确定各元素的化学状态 因此 在化学 材料科学及表面科学中得以广泛地应用 X射线光电子能谱分析方法原理 光电效应根据Einstein的能量关系式有 h EB EK其中 为光子的频率 EB是内层电子的轨道结合能 EK是被入射光子所激发出的光电子的动能 实际的X射线光电子能谱仪中的能量关系 其中以真空能级算起的结合能即EBV与以Fermi能级算起的结合能EBF间有因此有 SP和 S分别是谱仪和样品的功函数 光电子的特征性当一束光子辐照到样品表面时 光子可以被样品中某一元素的原子轨道上的电子所吸收 电子脱离原子核的束缚 以一定的动能从原子内部发射出来 自由的光电子 对于特定的单色激发源和特定的原子轨道 其光电子的能量是特征的 其光电子的能量仅与元素的种类和所电离激发的原子轨道有关 X射线光电子能谱分析方法原理 1 根据光电子的能量 确定样品表面存在的元素 2 根据光电子的数量 确定元素在表面的含量 3 X射线束在表面扫描 可以测得元素在表面的分布 4 采用离子枪溅射及变角技术 得到元素在深度方向的分布 5 根据不同化学环境下光电子峰位移动 峰型 峰间距变化 获得化学信息 Bindingenergy eV 4f 4d 4p 4p 4s AuXPSspectrum 横坐标为结合能 纵坐标为光电子的计数率 谱峰为光电子特征结合能 一 固体样品 样品尺寸的限制 真空隔离要求的传递杆技术 注意表面的成分的状态的保护 二 粉体样品 双面胶带固定 压片法 加热 表面反应 表面处理等动态分析要求 三 特殊样品预处理 1 含挥发性物质的样品 加热或溶剂清洗 2 表面有机污染的样品 有机溶剂清洗 除有机溶剂 3 带有微弱磁性的样品 退磁处理 禁止带有磁性样品进入分析室 四 绝缘样品和导电性不好的样品 仪器必须进行样品荷电校准 XPS谱仪的基本结构框图 1 2 3 4 5 影响仪器特性的最主要部件和因素一 仪器灵敏度 激发源强度 能量分析器的入口狭缝有效面积 立体接收角 电子传输率 电子检测器类型 二 仪器分辨率 X射线源的自然线宽 能量分析器的线宽 受激样品原子的能级线宽 一 X射线激发源 要求强度大 单色性好 激发源做单色化处理 大面积源 Al Mg双阳极靶 微聚焦源 单色源Al靶 二 快速进样室 气体隔离室技术 预处理室 加热 蒸镀 刻蚀 三 能量分析器 电子传输率 能量分辨率 CMA SDA 在高分辨下有较高的灵敏度 减速 聚焦透镜 加大多功能能谱仪空间 浸入式磁透镜 四 检测器 数据采集 脉冲计数方法 电子倍增器 单粒子计数器 位置灵敏检测器 PSD 在聚焦面上同时平行安装 一组增加分析器 出口处电子检测面积倍增 形成多元检测系统 平行成像技术 五 超真空系统 防气体覆盖 能量损失 三级真空泵联用 机械泵 分子泵 溅射离子泵 钛升华泵 六 其他附件 荷电中和枪 离子枪 X射线光电子能谱仪关键部件 8 表面 界面成分分析能力 较好的元素价态分析能力化学位移分析 由于元素所处化学环境不同 内层电子的轨道结合能也不同 通过测得元素的结合能和化学位移 鉴定元素的化学价态 结合能校准 标准样品测定化学位移 谱图上测量峰位位移 测量双峰间的距离变化 测量半峰高宽变化 成分深度的分析能力1 变角XPS深度分析 利用采样深度的变化获得元素浓度与深度的对应关系 非破坏性分析 适用于1 5nm表面层 2 Ar离子剥离深度分析 交替方式 循环数依据薄膜厚度及深度分辨率而定 破坏性分析 X射线光电子能谱主要分析技术 射线光电子能谱数据处理及分峰步骤 一 在Origin中作图步骤 1 打开文件 可以看到一列数据 找到相应元素 如N1s 对应的Region 一个Region对应一张谱图 一个文件有多个Region 2 继续向下找到KineticEnergy 其下面一个数据为动能起始值 即谱图左侧第一个数据 用公式BE始 1486 6 KE始 换算成结合能起始值 是一个常数值 即荷电位移 每个样品有一个值在邮件正文中给出 3 再下面一个数据是步长值 如0 05或0 1或1 每张谱图间有可能不一样 4 继续向下 可以找到401或801这样的数 该数为通道数 即有401或801个数据点 5 再下面的数据开始两个数据是脉冲 把它们舍去 接下来的401或801个数据都是Y轴数据 将它们copy到B Y 6 X轴 点A X 再点右键 然后点setcolumnvalues 出现一个对话框 在from中填1 在to中填401 通道数 在col A 中填BE始 0 05 i 1 或直接填1486 6 KE始 0 05 i 1 最后点doit 7 此时即可以作出N1s谱图 8 画出来的图有可能有一些尖峰 那是脉冲 应把它们去掉 方法为点Data MoveDataPoints 然后按键盘上的或箭头去除脉冲 二 分峰步骤 1 将所拷贝数据转换成TXT格式 把所需拟合元素的数据引入Origin后 将columnA和B中的值复制到一空的记事本文档中 即成两列的格式 左边为结合能 右边为峰强 并存盘 如要对数据进行去脉冲处理或截取其中一部分数据 需在Origin中做好处理 19 可编辑 2 打开XPSPeak 引入数据 点Data Import ASCII 引入所存数据 则出现相应的XPS谱图 3 选择本底 点Background 因软件问题 HighBE和LowBE的位置最好不改 否则无法再回到Origin 此时本底将连接这两点 Type可据实际情况选择 一般选择Shirley类型 4 加峰 点Addpeak 出现小框 在PeakType处选择s p d f等峰类型 一般选s 在Position处选择希望的峰位 需固定时则点fix前小方框 同法还可选半峰宽 FWHM 峰面积等 各项中的constraints可用来固定此峰与另一峰的关系 如Pt4f7 2和Pt4f5 2的峰位间距可固定为3 45 峰面积比可固定为4 3等 点Deletepeak可去掉此峰 然后再点Addpeak选第二个峰 如此重复 5 拟合 选好所需拟合的峰个数及大致参数后 点Optimiseregion进行拟合 观察拟合后总峰与原始峰的重合情况 如不好 可以多次点Optimiseregion 6 参数查看 拟合完成后 分别点另一个窗口中的RigionPeaks下方的0 1 2等可看每个峰的参数 此时XPS峰中变红的为被选中的峰 如对拟合结果不region满意 可改变这些峰的参数 然后再点Optimise 7 点SaveXPS存图 下回要打开时点OpenXPS就可以打开这副图继续进行处理 8 数据输出 点Data Printwithpeakparameters可打印带各峰参数的谱图 通过峰面积可计算此元素在不同峰位的化学态的含量比 点Data Exporttoclipb

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