ELA基础介绍课件

ELA基础知识介绍Array-MFG2015/09/10Locfe南城ELA基础介绍Outline1.ELA与LTPS制程2.准分子激光退火系统3.ELA工艺技术4.ELA工艺测试ELA基础介绍ELA简介准分子就是一种处于激发态的复合粒子，在标准状态下，即在基态时，它处于分离状态，而在激发态处于分子状态。常见的准分子有：XeF*、KrF*、ArF*、XeCl*、XeBr*

ELA基础介绍ELA简介为什么选用准分子激光？准分子激光对应的紫外波段，a-Si薄膜对紫外光有大的吸收系数紫外光的注入深度较小，可以减小激光对玻璃基板的作用ELA基础介绍ELA与LTPS制程ELA基础介绍ELA与LTPS制程ELA基础介绍ELA与LTPS制程ELA基础介绍2.准分子激光退火系统(2)准分子激光原理、结构及参数(1)准分子激光退火系统的结构(3)光学系统构成简介(4)退火腔结构简介ELA基础介绍ELA系统基本组成准分子激光退火系统ELA基础介绍TCZ&JSWELASystemoverview准分子激光退火系统-ELASystemoverviewELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-激光器原理ELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-激光器原理ELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-LasertubedesignELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-LasertubedesignELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数LasingIonbranchDischargeXe，F2Xe，Xe*

，Xe+

，F2

，F-Xe*，F2

Xe+

，F-(XeF)*Xe，FNeutralbranch351nme-+Xe→Xe++e-+e-e-+Xe→Xe*+e-

e-+F2→F-+FXe++F-+M→(XeF)*+MXe*+F2→(XeF)*+FPumping:Stimulated:(XeF)*+hν→Xe+F+2hν(351nm)Losses:(XeF)*→Xe+F+hν(351nm)(XeF)*+M→Xe+F+M(XeF)*+M+Xe→Xe2F+MX+hν(351nm)→X*ELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-LaserarchitectureELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-GaslifetimeELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-参数ELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-参数PeaktoPeakEnergyFluctuationELA基础介绍准分子激光原理、结构及参数-参数PulsedurationELA基础介绍PulsedurationELA基础介绍准分子光学系统简介光学系统示意图ELA基础介绍准分子光学系统简介Monitorsystem示意图ELA基础介绍准分子光学系统简介BeamShortAxis&LongAxisELA基础介绍ShortAxisSlope准分子光学系统简介ELA基础介绍退火腔结构简介退火腔室结构ELA基础介绍退火腔结构简介ScanProcessELA基础介绍3.ELA工艺技术(1)晶化机制(2)主要参数ELA基础介绍薄膜吸收与加热薄膜表层熔融热能传导部分熔融接近完全熔融完全熔融激光照射多晶硅晶化过程ELA基础介绍ELA工艺技术-晶化机制ELA基础介绍ELA工艺技术-主要参数EnergyDensityVsMeltregimeELA基础介绍ELA工艺技术-主要参数OverlapVsPitchOverlap—相邻两个shot之间的重合程度Pitch—相邻两个shot之间的距离Overlap=(BeamWidth-Pitch)/BeamWidthELA基础介绍OverlapVs.GrainSizeELA工艺技术-主要参数ELA基础介绍ELA工艺技术-主要参数CVDThinFilmConcernELA基础介绍ELA工艺技术-主要参数DehydrogenELA基础介绍4.ELA工艺测试(2)SEM测试(3)AFM测试(1)宏观检查(4)ｕ-PCD测试ELA基础介绍ELA工艺技术-宏观检查宏观检查-MuraELA基础介绍ELA工艺技术-SEM测试ELA基础介绍ELA工艺技术-AFM测试E