标准解读
《GB/T 44935-2024 纳米技术 二硫化钼薄片的层数测量 拉曼光谱法》是一项国家标准,主要针对使用拉曼光谱技术来测定二硫化钼(MoS₂)薄片层数的方法进行了详细规定。该标准适用于实验室环境中对不同层数二硫化钼材料进行精确表征的需求。
标准首先定义了适用范围,明确了其内容适用于通过拉曼光谱分析方法确定二硫化钼薄膜或纳米片层结构特征的应用场景。接着,在术语和定义部分,给出了与本标准相关的专业词汇解释,包括但不限于“拉曼光谱”、“二硫化钼”以及“层数”等概念的具体含义。
在原理章节中,描述了利用拉曼散射现象来识别并区分不同层数二硫化钼样品的基本理论依据。具体来说,当激光照射到物质上时,由于分子振动模式的不同,会产生特定频率的散射光,这些散射光经过收集和分析后可以用来判断样品的物理特性,如厚度、应力状态等。
对于实验设备的要求,《GB/T 44935-2024》规定了所需使用的仪器类型及其性能指标,比如拉曼光谱仪需具备高分辨率以准确捕捉微弱信号;同时强调了光源的选择应考虑激发效率及对样品可能造成的影响等因素。
在样品制备方面,标准提供了详细的指导步骤,包括如何正确地准备待测样品、确保表面清洁度和平整性等,这些都是保证测试结果准确性的重要前提条件。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
....
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- 即将实施
- 暂未开始实施
- 2024-12-31 颁布
- 2025-07-01 实施





文档简介
ICS1718030
CCSN.35.
中华人民共和国国家标准
GB/T44935—2024
纳米技术二硫化钼薄片的层数测量
拉曼光谱法
Nanotechnologies—MeasurementofthenumberoflayersofMoS2flakes—
Ramanspectroscopymethod
2024-12-31发布2025-07-01实施
国家市场监督管理总局发布
国家标准化管理委员会
GB/T44935—2024
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范围
1………………………1
规范性引用文件
2…………………………1
术语和定义
3………………1
原理
4………………………4
仪器
5………………………7
样品准备
6…………………8
测量步骤
7…………………8
层数判定
8…………………9
测试报告
9…………………11
附录资料性典型拉曼峰的光谱参数示意图
A()………12
附录资料性转移操作步骤
B()…………13
附录资料性基于剪切模和层间呼吸模的峰位测量薄片层数的拉曼光谱法法的
C()MoS2(A)
表征示例
………………14
附录资料性基于1模和模的峰位差测量薄片层数的拉曼光谱法法的表征
D()E2gA1gMoS2(B)
示例
……………………16
附录资料性基于氧化硅片衬底的硅拉曼模峰高测量薄片层数的拉曼光谱法法的
E()MoS2(C)
表征示例
………………18
附录资料性测试报告示例
F()…………20
参考文献
……………………21
Ⅰ
GB/T44935—2024
前言
本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任
。。
本文件由中国科学院提出
。
本文件由全国纳米技术标准化技术委员会归口
(SAC/TC279)。
本文件起草单位中国科学院半导体研究所河北大学泰州巨纳新能源有限公司东南大学厦门
:、、、、
凯纳石墨烯技术股份有限公司堀场中国贸易有限公司中国科学院物理研究所天津大学国家纳米
、()、、、
科学中心
。
本文件主要起草人谭平恒刘雪璐林妙玲李晓莉丁荣章琦倪振华黄卫明沈婧杨洋何清
:、、、、、、、、、、、
高洁邵悦
、。
Ⅲ
GB/T44935—2024
引言
作为二维层状材料的代表之一二硫化钼如无特殊说明以下简写为薄片以其优异的电
,(,“MoS2”)
学光学力学热学等性能已成为新一代高性能纳米光电子器件和后硅基半导体时代延续摩尔定律的
、、、,
候选材料之一薄片的层数对其光学和电学等性能有显著的影响例如单层为直接带
。MoS2。,MoS2
隙具有显著的发光效率在光电探测器光电二极管等光电领域中有着良好的应用前景但多层
,,、,MoS2
的间接带隙随层数增加而逐渐减小相对于单层而言多层的载流子迁移率和电流密度随
;MoS2,MoS2
层数提高在场效应晶体管等电子器件中具有更显著的应用优势所以快速表征薄片的层数对
,。,MoS2
于其生产制备和相关产品开发具有重要的指导意义也是深入研究薄片的物理和化学性质的基
,MoS2
础和其开发应用的核心
。
拉曼光谱作为一种快速无损和高灵敏度的光谱表征方法已被广泛地应用于薄片的层数测
、,MoS2
量[1,2]比如单层和多层薄片的拉曼光谱中高频拉曼振动模1模和模的峰位差值随
。,MoS2,———E2gA1g
的层数增加而递增[3]两层及以上的薄片中低频拉曼振动模层间呼吸模和剪切模的峰
MoS2,MoS2———
位与薄片的层数具有确定的对应关系[4]此外当薄片制备在氧化硅片衬底即表面经氧
MoS2。,MoS2(
化形成有二氧化硅薄膜的单晶硅基片衬底如无特殊说明以下简称为氧化硅片衬底上时其下氧化
,,“”),
硅片衬底的硅拉曼模峰高与薄片的层数也呈现单调变化的关系[5]因此利用上述拉曼光谱参
MoS2。,
数特征就能测量薄片的层数
,MoS2。
由于不同方法制备的薄片在结晶性和微观结构上存在较大差异现有表征方法均不是具有
MoS2,
确定意义的通用手段在实际应用中应根据薄片的结晶性和微观结构特点来选择一种或多种
。,MoS2
合适的表征方法对其层数进行综合分析
。
本文件的制定将为利用拉曼光谱法对机械剥离方法制备的薄片进行层数测量提供科学可
,MoS2
靠的依据以及标准的试验方法并促进拉曼光谱在纳米技术领域及二维材料产业中的推广应用为
,,
薄片等二维材料的生产和研究提供技术指导
MoS2。
Ⅳ
GB/T44935—2024
纳米技术二硫化钼薄片的层数测量
拉曼光谱法
警示本文件涉及使用激光器其产生的激光对眼睛可能产生不可逆的损伤使用激光器时应佩戴
:,。
对应的激光防护眼镜严禁用眼睛直视激光避免激光经光学元件反射进入人眼操作人员应接受过相
,,。
关安全培训
。
1范围
本文件描述了使用拉曼光谱法测量薄片层数的方法
MoS2。
本文件适用于面内尺寸大于或等于的堆垛的本征薄片的层数测量
2μm2HMoS2。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文
。,
件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于
,;,()
本文件
。
纳米科技术语第部分石墨烯及相关二维材料
GB/T30544.13—201813:
椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
GB/T31225
纳米技术激光共聚焦显微拉曼光谱仪性能测试
GB/T33252
纳米技术石墨烯相关二维材料的层数测量拉曼光谱法
GB/T40069—2021
3术语和定义
界定的以及下列术语和定义适用于本
GB/T33252、GB/T30544.13—2018、GB/T40069—2021
文件
。
31二硫化钼相关术语
.
311
..
二维材料two-dimensionalmaterial2Dmaterial
;
由一层或几层构成其中每一层内的原子与所在层内的邻近原子紧密成键结合有一个维度即其
,,
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