- 现行
- 正在执行有效
- 2013-10-17 颁布
- 2014-03-01 实施
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文档简介
ICS7715050
H64..
中华人民共和国有色金属行业标准
YS/T893—2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
High-puritysputteringtitaniumtargetusedinelectronicfilm
2013-10-17发布2014-03-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
YS/T893—2013
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国有色金属标准化技术委员归口
(SAC/TC243)。
本标准起草单位有研亿金新材料股份有限公司宁波江丰电子材料有限公司
:、。
本标准主要起草人何金江董亭义袁海军罗俊锋滕海涛喻洁贺昕钱红兵周辰刘丹
:、、、、、、、、、、
陆灵芝王学泽熊晓东
、、。
Ⅰ
YS/T893—2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
1范围
本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求试验方法检验规则和标志包装运输贮存及
、、、、、
质量证明与合同订单等内容
()。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材
。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
产品几何技术规范表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值
GB/T1031(GPS)
海绵钛钛及钛合金化学分析方法氧量氮量的测定
GB/T4698.7、、
海绵钛钛及钛合金化学分析方法碳量的测定
GB/T4698.14、
海绵钛钛及钛合金化学分析方法氢量的测定
GB/T4698.15、
金属平均晶粒度测定方法
GB/T6394
变形金属超声检验方法
GJB1580A
溅射靶材背板结合质量超声波检验方法
YS/T837-
高纯钛化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法
YS/T891
高纯钛化学分析方法痕量杂质元素的测定电感耦合等离子体质谱法
YS/T892
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件
。
31
.
靶材target
在溅射沉积技术中的阴极部分该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子原子或离子的形
。、
式脱离阴极而在阳极表面沉积
。
32
.
靶坯targetblank
阴极上用作溅射材料的部分
。
33
.
背板backingplate
用来支撑或固定靶材的部分靶坯与背板可以通过焊接如钎焊扩散焊等机械复合粘接等方
。(、)、、
式连接
。
4要求
41产品分类
.
411产品按照结构形式分为单体和复合两种
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