重大关键核心关键技术研发综合项目资金申请说明报告

重大关键关键技术研发项目资金申请汇报项目名称高端微纳光刻装备研发和产业化项目负担单位苏州苏大维格光电科技股份项目责任人陈林森联络电话-826项目主持部门江苏省发展和改革委员会申报日期3月11日江苏省推进战略性新兴产业发展工作领导小组办公室二○一五年一月目录一、项目标背景和必需性 3（一）中国外现实状况： 3（二）技术发展趋势： 5（三）拟处理关键技术和问题： 6（四）对产业发展作用和影响： 7（五）市场分析： 8二、项目法人基础情况 9三、项目标技术基础 13（一）结果起源及知识产权情况 13（二）产学研合作情况 15（三）已完成研究开发工作及中试情况和判定年限 17（四）技术或工艺特点和和现有技术或工艺比较所含有优势 22（五）重大关键技术突破对行业技术进步关键意义和作用 24四、项目建设方案 26（一）建设关键内容、建设规模 26（二）工艺技术路线和技术工艺特点 27（三）设备选型及关键技术经济指标 28（四）产品市场估计 30（五）建设地点、建设周期和进度安排、建设期管理等 32五、项目投资 34（一）项目总投资规模、资金起源、投资使用方案 34（二）资金筹措方案 35六、项目财务分析、经济分析及关键指标 36（一）财务分析 36（二）风险分析 38（三）经济效益分析 39（四）社会效益分析 39八、资金申请汇报附件 41

本项目符合《江苏省“十二五”培育和发展战略性新兴产业计划》中产业发展关键：（七）高端装备制造产业-智能制造装备，同时也是（二）新材料产业中上游关键设备，负责工艺步骤中前端制程，含相关键支撑作用。一、项目标背景和必需性中国外现实状况和技术发展趋势，拟处理关键技术和问题，对产业发展作用和影响，市场分析。（一）中国外现实状况：高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半导体、MEMS、生物芯片、精密电路、平板显示、固态照明等领域技术研发和产品生产必需设备。现在，一场新型柔性功效材料革命性改变正在发生：超薄柔性材料功效化，成为推进行业发展革命性力量，使得精密加工制造技术向微米-纳米结构和智能制造发展。伴随移动互联高速发展，便携、可穿戴光电子器件需要深入处理节能、低成本问题。柔性电子制造领域国家计划和政府投入：美国FDCASU计划、在美国“总统汇报”中将柔性电子制造作为优异制造11个优先发展尖端领域、NASA制订柔性电子战略、成了柔性混合电子器件制造创新中心；欧盟（第7研究框架、地平线计划）印刷技术在柔性塑料基底上进行制备、英国（“抛石机”计划、建设英国未来计划）将塑料电子作为制造业关键发展领域；德国投资数十亿欧元建立柔性显示生产线；韩国《韩国绿色IT国家战略》投资720亿美金发展AMOLED；日本TRADIM计划在成立优异印刷电子技术研发联盟；中国电子信息制造业“十二五”发展计划，新型显示器件、太阳能光伏等作为发展关键方向，国家自然科学基金12-5、13-5计划中将柔性电子作为微纳制造关键研究领域。柔性光电功效材料含有数以千亿计潜在市场需求。在下一代裸眼3D显示、大尺寸柔性触控屏、OLED照明纳米衬底、可穿戴电子器件，含有微米级线宽-纳米结构，现有光刻设备达不到这种精度加工要求。微纳光刻装备是高端技术密集型微纳产业中关键设备，负责工艺步骤中前端制程。这些产业发展，离不开微纳光刻装备。高端微纳光刻设备，对于科学研究中工艺试验研究、新品研发、产品生产，实现跨越发展全部含有重大意义。现在高端微纳光刻装备领域研发和产业化工作开展很好企业在国外，如德国HeidelbergInstruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美国AppliedMaterial，能够对市场需求和设备研发制造形成良性循环，另外，韩国、日本等部分研发型企业也在进行该项工作推进。中国科研院所在微纳光刻领域研究，关键模式是采购国外科研型设备，进行工艺和器件开发，对高端装备技术研究开展较少。中国产业环境发展，产品创新对高端微纳直写光刻和加工装备含有大量需求；和国外企业相比，在技术沟通、服务响应能力方面含有优势；中国还缺乏“微纳等级”高端智能激光直写光刻装备研发和制造企业，苏大维格企业经过国家863计划关键项目标资助，掌握了微纳直写装备关键技术，拥有些人才团体，依靠于国家发改委同意“国家地方联合工程研究中心”，企业在高端微纳智能装备研发含有，同时企业也是创业板上市企业在产业化上也有优势。值得一提是，本企业（苏大维格）在国家863计划和江苏省攀登计划支持下，在高端微纳光刻设备研发上卓有成效，积累了若干光机电关键技术，激光智能SLM干涉直写仪器等设备填补行业空白，在100nm特征尺寸直写系统上，研发成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化仪器设备，含有行业领先水平，在中国著名高等研究院所应用，并出口日本、以色列等国。获国家科技进步二等奖，省科技进步一等奖。（二）技术发展趋势：微纳米技术产业作为先导性领域，对中国新兴产业创新发展中含有不可或缺先导作用，高端微纳光刻装备是进行微纳技术科学研究、新器件、新功效材料研发和应用关键仪器，含相关键支撑作用。举例说明，“光电转换效率提升”是新型光电器件（LED，太阳能、新型照明、低耗能材料）研究关键问题，除了材料本身光电特征之外，微纳结构分布和高效制备是推进高性能器件研制关键方向，比如，在LED领域，纳米图形化技术是提升器件发光效率关键路径，目标达成每瓦150流明以上，纳图形理论和试验研究是关键领域；薄膜太阳能电池效率提升需纳米陷光结构衬底制备；在平板立体显示领域，纳米线栅结构、3D位相延迟片偏振片、滤光片是提升显示光能利用率关键研究方向；在光电子、微机电系统器件等科学研究领域，需要有高分辨、高效、3D曝光多功效图形化手段和检测仪器，尤其在大尺寸纳米结构器件无损检测是急需处理重大问题；在国防领域，超大幅面光栅研制，需要有愈加好检测仪器。在纳米印刷研究和开发领域，高端图形化和检测是提供无油墨纳米色彩图像品质必由之路。所以，该类型高端微纳图形化仪器设备研制，可打破国外技术垄断，含有重大战略意义。微纳图形直写和检测仪器设备研制，对于科学研究中工艺试验研究、新品研发中图形快速制备和检测，实现跨越发展含有重大意义。（三）拟处理关键技术和问题：紫外大视场平场成像光学系统研制：光学系统是微纳光刻装备基础性关键部件，对装备总体性能含相关键影响。针对多种不一样影响，设备光学系统将做对应设计和研制。本企业在紫外位相-空间混合调制微纳光学系统含有自主知识产权，是高效微纳米图形光刻有效处理手段。自动化多轴控制技术：基于可编程多轴控制器自动化控制技术，是精密光刻设备运行关键技术。经过编写程序实现设备光、机、电协调运行，实现设备预期功效。控制技术包含了同时曝光技术、数据分割和上载技术、图像处理技术、高速多轴平台闭环控制技术等。本企业在基于PMAC、ACS等控制器控制技术有了长久研发基础，研发了飞行曝光技术、Z-校正自动聚焦技术、积分曝光技术等，为设备功效多样化开发积累了经验。微纳数据处理技术：大幅面微纳结构图形数据是海量，比如，以数据解析分辨率为0.25um计算，1000mm×1000mm图形数据量将达成16TB。微纳结构数据，采取含有行业共性GDSII、DXF、GERBER、CIF等格式。数据处理技术，步骤是：数据格式转换数据图形化图形数据切割和组合。光刻是数据分批分队列上载到光刻设备，经过控制软件将图形光刻输出。工艺开发和优化：针对具体应用方向，需要对光刻工艺进行探索和研究，经过测试和分析结果，对工艺控制参数、部件参数进行优化，最终满足应用需求。（四）对产业发展作用和影响：“十二五”期间，国家和江苏省激励新兴产业发展，江苏省及苏州地方将纳米技术产业作为主导发展产业，迫切需要研究并处理产业发展中缺乏上游微纳制造技术共性问题。，国家发展改革委深入落实落实创新驱动战略，以加紧经济结构战略转型为主攻方向，以改革创新促发展，切实推进高技术产业和战略性新兴产业平稳健康发展。其中一个关键就是深入推进新型平板显示、高性能医学诊疗设备等重大创新发展工程建设，扩大节能环境保护、信息惠民、卫星导航、智能制造等领域示范应用，关键突破深刻影响产业发展关键关键技术，推进传统产业改造升级，加紧培育新经济增加点。高端微纳光刻装备是上述领域上游所需关键设备，含相关键支撑作用。中国版工业4.0计划－《中国制造业发展纲要(~2025)》立即于出台。作为牵头制订中国制造业2025计划部门，工信部已着手研究制订装备制造领域相关专题计划，计划关键实施领域为新一代信息技术产业、生物医药和生物制造产业、高端装备制造产业、新能源产业等四大产业领域。本项目突破大尺度幅面、纳米结构及纳米精度、微纳结构器件和材料低成本制造关键技术，开发高端微纳制造装备，满足提升产业创新能力，促进区域经济发展方面需求，建设微纳结构器件功效设计、微纳米柔性制造关键技术和装备、材料应用及加工检测创新平台。对区域纳米技术创新体系完善，对相关产业转型升级、高技术企业孵化、高端人才培养和引进含有重大作用。高端微纳光刻装备对多个产业发展含相关键作用：平板显示和触控屏：用于光掩模版制备、大幅面触摸屏电路图形化光刻，比如55寸大尺寸电容触控屏电路制备等。TV超薄背光源（BLU）：平板电脑、液晶显示器、电视机超薄化趋势，用于超薄导光板热压模具制备（比如70寸微透镜金属压印模具）。高密度柔性电路、IC载板：10μm以下线宽工艺，是下一代集成电路3D封装必需关键技术，现在需要0.25微米分辨率高精度直写光刻设备。MEMS芯片：MEMS芯片制备，需要处理厚胶图形化光刻工艺。公共安全：特殊微纳结构视读特征，是实现证卡安全、产品保护、金融安全等领域公共安全有效手段。科研、国家项目需求：微纳加工技术，是很多科研领域共性技术，小型微纳光刻设备，可用于高等院所试验室，特殊定制微纳光刻装备，能够服务于国家重大项目。（五）市场分析：柔性电子技术已经并将开辟出很多创新电子产品应用领域，从而，带来一场电子信息技术革命。据IDTechEx估计，柔性电子市场销售额将高达49.3亿美元，为469.4亿美元，2028年为3010亿美元。柔性电子制造技术和装备是穿戴式电子、新能源、高端显示、物联网和智能家居领域发展关键技术，可提供原创性柔性电子器件、知识产权和关键技术，能为新兴市场培育、高层次人才培养提供新机遇，服务并推进相关信息产业跨越发展。二、项目法人基础情况项目法人全部制、主营业务，近三年销售收入、利润、税收、固定资产、资产负债率、银行信用等级、企业技术开发、经营管理、资金筹集、市场开拓等情况。企业名称：苏州苏大维格光电科技股份企业性质：股份制企业，深交所创业板上市企业（代码：300331）企业地址：苏州工业园区新昌路68号；资本：9300万人民币主营业务：激光光刻直写系统和纳米压印装备、LED纳米图形光刻设备、OGS掩膜和灰度光刻设备；光学（镭射）膜：定制光学（镭射）印材、防伪处理方案和材料；平板显示照明：超薄导光板、大尺寸电容触控屏（非ITO）；光掩模板。企业已于6月在深交所创业板上市（股票代码：300331），银行信用等级：AA级近三年财务情况：（万元）年度销售收入利润税收固定资产资产负债率21871.82459.281871.355030.3319.16%24572.321936.681084.9412388.616.83%27661.863012.93.4614087.2417.50%企业建有国家级研究平台“数码激光成像和显示国家地方联合工程研究中心”（国家发改委同意，），设有“江苏省微纳柔性制造工程技术研究中心”（，省政府同意），拥有6000平米用于工程研究和产品中试试验室。图1企业场地含有面向新型显示、照明和成像领域微纳制造工程研发和检测条件。设有四个研发方向：优异光学显示器件、微纳制造技术和装备、柔性材料和器件和纳米印刷技术。企业建有江苏省院士工作站和全国博士后工作站。图2国家工程中心和院士工作站企业拥有国际一流创新团体，江苏省科技创新团体。重大结果取得：国家科学技术进步二等奖（）、江苏省科技进步一等奖（，）、第十二届、十四届“中国优异专利奖”（，）、第七届江苏省专利金奖等奖项。为此，企业荣获首届江苏省企业技术创新奖（全省19家企业）。图3重大科技获奖企业拥有授权发明专利49项，其中和本项目相关自主研发设备和技术已取得发明专利16项。企业建立了以市场为导向、自主创新为推进力经营管理制度，从产品设计、品质管理、用户沟通和服务、到产品质量体系认证、新品导入和跟踪，有完整管理制度，力图和国际体系接轨。形成了一个研发、设计、装备改善、制程提升、各户认证快速反应能力。对于新品导入项目，成立项目领导小组，以董事长为责任人，总经理实施人项目领导组，协调和处理项目研发、市场实施过程中多种问题。业内第一个研发成功并批量化14寸@0.5mm厚度LED超薄导光板卷对卷产线，实现产业应用；发明并实现消色差光学膜高效光刻方法；发明了“宽幅衍射光变图像高速光刻方法和设备”：处理了微纳结构工业化制备行业难题；率先建立了“微纳柔性制造生产线”，从“微纳结构设计、材料特征研究、重大装备研发和结果产业化”工艺链；第一个研制成功“3D光变图像全息制版系统”实现了全息图像微纳结构表示，并推进了立体图像工业化应用；发明“定位激光转移纸张”（印刷第一色概念），实现产业化；

第一个研发成功数字化“数码激光全息制版系统”，中国外广泛使用；提出并实现了导模共振纳米光子晶体变色薄膜。

三、项目标技术基础结果起源及知识产权情况，产学研合作情况，已完成研究开发工作及中试情况和判定年限，技术或工艺特点和和现有技术或工艺比较所含有优势，该项技术突破对行业技术进步关键意义和作用。（一）结果起源及知识产权情况关键技术起源于苏大维格企业技术积累和产学研合作，企业在高精度激光微纳米直写和加工技术方面开展了长久研发创新，关键包含微光学元器件开发、纳米精度光机结构研发、4-6轴运动控制技术、CCD影像检测处理技术、海量图形数据处理和传输技术等，为本项目开发积累了大量关键和关键技术。依靠单位是本行业内惟一建有国家工程研究中心“”数码激光成像和显示国家地方联合工程研究中心（国家发改委同意，），表明了行业领先地位。现在，中国唯一含有大面积（微纳金属模具制备能力、能够实现大尺寸纳米尺度图形掩模、配套纳米压印全制程、拥有自主知识产权，现在支持42”尺寸微纳透明导电材料。依靠单位在微纳制造装备应用基础研究、技术创新、材料研发和高端装备研制方面，形成了完整创新链，并已在多个产业实现规模应用。本项目经过国家重大863专题支持，已经完成了技术攻关，立即进入产业化阶段。在激光直写和加工技术领域，取得发明专利授权16项：专利名称专利号光学加工系统和方法ZL.4光学加工系统和方法ZL.3光学加工系统和方法ZL.0一个步进式光学加工系统和加工方法ZL.9一个透明导电膜及其制作方法ZL.9一个光刻装置和光刻方法ZL.X一个金属母板制作方法ZL.3一个导光膜制作装置ZL.3一个卷对卷紫外纳米压印装置及方法ZL.5并行光刻直写系统ZL.4用于紫外激光干涉光刻直写系统光学镜头ZL.1多视角图形输入三维图形直写方法ZL.7一个彩色滤光片制作方法和装置ZL.2一个精密数字化微纳米压印方法ZL.6对光滑表面进行微米结构光刻蚀方法及装置ZL.8衍射光变图像高速激光直写方法和系统ZL.2受剪发明专利17项。专利名称申请号一个导光膜制作装置PCT/CN/079736APPARATUSFORMANUFACTURINGLIGHTGUIDEFILMUS13583290一个紫外固化微纳米结构拼版装置及拼版工艺.X三维激光打印方法和系统.1分束器件、多光束干涉光路系统.X纳米图形化衬底制备装置和方法.5一个标签签注方法和系统.8连续可调结构光照明超分辨显微成像方法和系统PCT/CN/087883超薄触控传感器及其制作方法.9一个三维码及其制作方法.5一个激光直写系统和光刻方法.9一个变色烫印膜及其制造方法.X掩膜版及其制备方法和图形化方法.8彩色动态图激光打印装置及方法.2一个无掩膜激光直写叠加曝光方法.6一个多视角像素指向型背光模组及裸眼3D显示装置.3基于大面积多台阶二元光学元件激光直写方法.9软件著作权4项：登记号软件名称SR037129基于DXF并行激光直写加工图形处理软件V1.0SR037127基于DirectX空间光调制器图形发生软件V1.0SR041635苏大维格频闪曝光直写系统SR017923HoloMakerIIICSystemV1.0获奖清单以下：项目名称奖励名称获批时间大幅面微纳图形制造技术及产业化应用国家科技进步二等奖.12卷对卷纳米压印关键技术及应用江苏省科学技术进步一等奖.2面向微纳柔性制造创新工程江苏省企业技术创新奖.2衍射光变图像高速制作方法和系统中国专利优异奖.11微光变图像激光直写方法及装置中国专利优异奖.11宽幅智能激光SLM光刻系统和应用江苏省科学技术进步一等奖.5亚波长光学制造技术研究和应用教育部科学技术进步二等奖.1一个消色差变色银衍射图像制作方法江苏省专利金奖.12微结构制造高效光刻技术和应用教育部技术发明二等奖.1（二）产学研合作情况“十二五”期间，在国家高技术研究（863计划）计划重大项目、国家自然基金关键项目标资助下，苏州苏大维格光电科技股份和相关业内企业和高校协同合作，攻克了“微纳柔性制造工艺装备”、“3D成像纳米印刷技术”、“彩色全息显示基础问题”方面关键基础问题和技术难题，取得中国外瞩目标重大结果，引发中国外同行高度关注。第一，前瞻性重大技术创新取得突破。从原理上，现有技术手段（如金刚石加工仅能加工柱光栅膜模具）不能加工全息原理裸眼3D显示，必需突破纳米加工技术瓶颈。苏大维格在高端微纳装备及关键技术方面取得重大研究进展，在国际上率先实现“四独立变量微纳结构快速制造”、“大幅面微纳混合光刻”等新技术方法，研发成功“纳米级制造设备”，使得中国在“大幅面微纳结构制造”方面拥有了自主高端装备。前后获国家科技进步二等奖（）、江苏省科技一等奖（）和中国专利奖（）。所以，在纳米加工设施、知识产权方面，为本项提议任务提供关键手段支撑。第二，需求牵引组织模式创新。经过运行机制创新，纳米技术从试验室走向产业应用，形成上下游创新链，协同产业和高校共同推进在纳米印刷（3D图像印刷）、柔性电子（微结构透明导电膜）、平板显示（超薄导光板）产业应用，并取得重大进展，培育了1家上市企业（上市）和5家国家高新技术企业。从基础步骤创新、整个过程技术工艺创新，直至推进产业应用，探索了产业链创新成功路径，为取得颠覆性重大目标产品提供了组织上经验。第三，以重大任务（目标产品）为目标创新能力建设。苏大维格企业组建了“国家地方联合工程研究中心”（数码激光成像显示）（国家发改委同意），6000平米研发场所，1万平米中试平台。在重大目标产品取得突破，得到同行教授、领导和市场高度评价。华为科技、京东方科技、龙腾光电、苏大维格光电等一批企业含有合作推进裸眼3D显示关键技术和部件研制基础能力。为以后以重大任务位目标组织实施，提供了愈加好创新平台和产业合作基础。第四、培养一支勇于负担风险和奉献、能负担重大任务团体。经过协同合作和体制机制改革，培养了一支高素质团体，团体组员以中青年组员为主，包含国家863计划重大项目首席教授，千人计划人才、海外特聘教授和中国杰出年轻人才组成充满活力创新和创新混合团体。在“裸眼3D显示基础问题”，“纳米结构3D成像原理”、“纳米导光板研究”方面做了大量工作，勇于突破和自主创新。（三）已完成研究开发工作及中试情况和判定年限1、依据不一样行业应用需求和加工尺度不一样，已完成四种类型样机研发：（1）、高速激光图形直写光刻装备应用样机：iGrapher系列iGrapher专门用于精密电路、光掩模（光罩MASK）、微纳结构无掩模光刻“高端激光直写设备(UVlaserpatterngenerator)。幅面：8英寸-65英寸，应用90nm-130nm节点（0.22um-0.5um光学分辨率）柔性电路和光掩膜板制备。iGrapher突破了一系列关键难题技术，实现了上述大幅面微图形高速直写功效，对光掩模文件、集成电路文件全兼容。iGrapher采取高速空间光调制器（spatiallightmodulation），阵列图形输入模式（可达8k帧），3D导航飞行曝光（3Dnavigationflyingexposure）、纳秒时序平铺曝光（parallelism、nano-secondpatterning）技术，专用于光掩模、柔性电子微图形（线宽1um-10um）、LIGA工艺、微纳模具高效光刻。

（2）、多功效微图形光刻设备工程样机：MicrolabMicroLab100是一款适应微结构图形光刻名副其实小型微加工试验室，系统操作方便在微纳结构功效器件、生物和微纳界面作用（微流控、基因芯片、探针）和光电子、微光学等研究中，MicroLab

是一个理想、高性价比微加工手段。尤其适合于小尺寸精密掩膜、CGH、微光学器件、光束整形、MEMS、衍射和折射光学阵列研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscalelithography，拖曳曝光（形状光阑积分曝光）laserdragging，图形化parallelpatterning，3D形貌等高级加工，比如，闪耀槽型、微透镜阵列、多台阶图形、点阵图形等，支持薄胶和厚胶工艺。支持DXF，GDSII，位图文件。只要有基础计算机背景和图像知识，合适培训后，就能够上机操作。支持二十四小时不间断运行，运行成本低，占地4平方米，基础免维护。适合于科学研究、硕士培养之用途。

（3）、大幅面微纳金属模具激光加工设备工程样机：iEngraver大幅面激光精密微加工设备，用于超薄TV背光源金属模具制备。可实现幅面15~70寸。大尺寸精密导光板模具光学性能为业内做好水平，精密模具加工设备和工艺成熟度得到充足验证，加工超薄导光板光学效率、导光均齐度为业内最高水准。性能参数：最小微结构尺寸15um激光光源：30kHz@10W机台：花岗石机台光学头单次扫描面积：10mmx10mm-15mmx15mm加工速率：4-10小时（不一样模具尺寸和光学网点）运动平台：直线电机驱动定位精度：0.1um行程：依据型号确定软件：光学设计文档格式，或*.DXF；*.ARR配套：整套网点设计和处理工艺

（4）、激光动态图形签注系统实现了不需要位移和旋转3D动态图形实时签注方法和关键技术。采取曲面扩散片实现3D动态图像签注景深改变，实现签注动态聚焦，同时设计不一样棱角位置和棱角锲角，经过软件控制统计图形位置，分别对应在对应锲形棱镜位置，一次性签注将能取得不一样再现视角角度和方向效果。签注效率高，适合工程化应用。能够同时满足变景深、多视角签注要求，提升了签注图形技术门槛。图形签注仅需5秒至10秒，能满足激光签注工程化应用。在工业化应用方面，可应用在银行卡、护照、等证卡个性化序列号和动态图形签注，号牌激光安全防伪签注，食品安全三维码溯源签注技术等公共安全领域上。2、完成场地建设：平方米场地。（1）、机械部件装配间（2）、电气部件装配间（3）、总装调试间（4）、部件、材料、成品仓库（5）、职员培训室（6）、生产调度室判定年限：本项目标判定年限为3月。（四）技术或工艺特点和和现有技术或工艺比较所含有优势技术特点：（1）攻克了空间-位相调制图形化技术，微米-纳米混合光场调制，从而能实现/4结构分辨率国际领先水平（在355波长下，实现100nm结构）；（2）纳秒时序3D导航飞行曝光，实现大面积微纳米结构快速光刻，定位精度达成20nm；（3）海量数据处理和直写软件和硬件技术；支持40TB数据处理。（4）4-6轴纳米精度控制技术；（5）微纳功效材料加工工艺：力图在国际上率先实现3D纳米印刷技术，为柔性材料功效化提供关键技术手段。在应用工艺上，关键攻克在显示、新型照明和触控传感材料低成本制造技术，推进行业合作和潜在重大应用，和相关产业（比如华为）共同研发攻关“微纳米结构手机功效”光刻工艺研究。技术优异性优势：1、微纳直写光刻和加工设备，综合了微纳光学、精密机械、数控电气、纳米精度控制，利用计算机或工作站进行4-5轴光机电联合控制，高端技术集成度高，设备自动化化运行，属于高端智能装备。2、该类加工装备，加工宏观尺寸达成米级，微结构尺寸达成亚微米级，部件运行精度、数据分辨率定义，均需达成100纳米以下等级，实现大幅面、微结构、高精度特征统一。3、海量数据：以0.1微米分辨率电路为例，200mmx200mm电路数据量为4.0TB,一幅600mmX1000mm电路数据达60Tb,所以，这种精密电路图形海量处理技术和软件、数据传输和压缩、光电转换和光刻模式等，含有极高难度。4、微纳直写光刻和加工设备，是多行业生产工艺步骤中关键关键装备，用于提供光掩模板、微米线宽电路制备和模板、或进行直接图形结构加工，比如超薄导光板模具，是微纳功效材料（裸眼3D显示、柔性电路、触控）、器件（背光源等）等行业不可缺乏工具。工艺优势：本项目申请单位，长久从事微纳制造领域研发创新和产业化，尤其在超精密大幅面光刻直写等装备制造方面含有10余年工艺积累，企业是中国唯一含有整套微纳米柔性制造产线企业，含有国际领先水平。中国外同行和教授参观后给充足赞赏和肯定，为此，企业曾负担了国家863计划和电子发展基金等项目，并圆满完成。在微纳精密制造领域，项目申请单位无疑在中国同行中含有领先地位，并在国外同行中含有影响。工艺设备上：申请单位是中国唯一含有独立研制“高端激光直写光刻和纳米压印设备”企业，厚胶曝光设备（800mmx1300mm），拥有自主研发“大型紫外激光直写设备”（iGrapher820-1500，1100mmx1300mm），支持5.5代线光掩模板制备，在光刻分辨率、CD和综合写入速率等，含有国际同行优异水准。图4高端装备试验场地中国产业环境发展，对高端微纳装备含有大量需求；和国外企业相比，在技术沟通、服务响应能力方面含有优势；中国还缺乏微纳装备企业，维格企业掌握了关键技术，拥有些人才团体，依靠于“国家地方联合工程研究中心”，维格企业含有高端装备产业化优势。图5国家地方联合工程中心配套生产条件（五）重大关键技术突破对行业技术进步关键意义和作用中国信息显示、光电子等行业已经有很大产业基础，江苏省纳米产业在全国含有优势地位。“十二五”期间，江苏省大力发展战略新兴产业，关键发展新能源、新材料、高端制造、生物技术和新医药、节能环境保护和新一代信息技术等六大新兴产业。在这些产业中，新型显示、固体照明、纳米印刷和柔性光电子等是国家中长久科技发展计划、江苏省科技计划中关键发展领域，和“柔性微纳材料和制造技术”紧密相关。苏州工业园区布局了国际科技园、苏州纳米城等载体，提供了孵化等系列服务，是苏州纳米技术产业化基地。苏州纳米城将占地约100公顷，计划建筑面积约130万平方米，于11月开启建设，关键发展纳米新材料、纳米光电子、微纳制造、纳米生物医药和纳米环境保护等五大产业领域，以构建产业生态圈。苏大维格在高端微纳装备上自主研发能力，无疑提升了本身竞争优势和可连续发展性，基础不依靠于国外设备限制。为此，国家、省部相关领导和业内教授数次视察和调研本项目申请单位高端装备和平板显示关键器件研发和产业化进展和做法。国家发改委副主任朱之鑫、工信部副部长苏波、科技部副部长曹健林等关键领导视察后，均给充足肯定和激励。国家发改委祁司长等领导视察，对申请单位在高端微纳光刻设备和平板显示领域研发创新和产业化给肯定。工信部苏波部长考察苏大维格人大副委员长视察苏大维格并题词科技部曹健林副部长视察维格企业图6领导肯定四、项目建设方案项目建设关键内容、建设规模、采取工艺路线和技术特点、设备选型及关键技术经济指标、产品市场估计、建设地点、建设周期和进度安排、建设期管理等。（一）建设关键内容、建设规模面向平板显示和大尺寸电容触控屏、精密柔性电路、精密PCB及封装、MEMS、公共安全、科研等不一样行业应用，用3年时间建设达产业化阶段，开发出相对应、含有国际优异水平及满足工厂产业需求微纳加工装备，完成四种型号设备研发及产业化：1、大幅面掩模版制版光刻设备：大型紫外高速图形化直写设备，用于55英寸以上平板显示、大尺寸电容触控屏生产用掩模版制备。关键技术指标：经典线宽2um，图形化光刻速度4000mm2/min。

2、MEMS、封装光刻机：中小型紫外图形化直写设备，用于6-8英寸MEMS、封装等工艺制程，可适适用于厚胶工艺。可用于科研院所器件工艺研究和小批量制备。关键技术指标：经典线宽1um，精密图形光刻速度500mm2/min，可适用厚胶光刻工艺大于10um。

3、精密柔性电路、PCB无掩模光刻机：高速无掩模曝光机，用于下一代10um以下精密电路生产。关键技术指标：最小线宽5um，光刻速度大于0mm2/min。

4、背光模具光刻机：大幅面激光精密微加工设备，用于超薄TV背光源金属模具制备。关键技术指标：导光结构最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。

建设期内新增场地建设平米，累计完成销售1.25亿元，利润1664万元，税收1165万元。项目建设完成后，形成年销售规模大于1亿元高端微纳光刻直写装备制造和销售能力，同时带动下游相关应用行业，产生10亿左右经济效益。基于企业在高端智能装备研发和应用技术积累，整合资源，合理利用自有和外部资金、人才资源，建立高端成套微纳光刻装备研发、产业化、销售、服务条件，面向国际市场，扩充面向多领域产品线，建设国际一流综合性微纳装备企业，和德国HeidelbergInstruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech等进行市场竞争，成为国际微纳装备领域关键供给商。（二）工艺技术路线和技术工艺特点1、设备制造工艺路线：总体方案设计—光、机、电分解设计—设计综合评审—图纸—加工采购—设备组装—编程调试—测试检验—交付。2、技术工艺特点：技术和知识密集型工艺。无化学试剂、无排放、无污染。低能耗。场地占用面积小。（三）设备选型及关键技术经济指标1、检测设备选型（1）共焦显微镜：型号：奥林巴斯OLS4100关键技术指标：最高横向分辨率0.12μm、纵向分辨率1nm。（2）激光干涉仪型号：雷尼绍XL-80关键技术指标：线性测量精度±0.5ppm、分辨率1nm。（3）激光功率计型号：Vega+3A/30A关键技术指标：10uw-3w/20mw-30w（4）自动图形检测仪型号：LI712关键技术指标：检测分辨率0.5μm；检测速度0.19sec/cm2。（5）扫描电镜型号：Sigma/VP关键技术指标：分辨率1.3nm@20KV、1.5nm@15KV、2.8nm@1KV。

2、技术经济指标（还是要补充一下技术指标）：（1）技术指标：1、大幅面掩模版制版光刻设备：关键技术指标：经典线宽2um，图形化光刻速度4000mm2/min。

2、MEMS、封装光刻机：关键技术指标：经典线宽1um，精密图形光刻速度500mm2/min，可适用厚胶光刻工艺大于10um。

3、精密柔性电路、PCB无掩模光刻机：关键技术指标：最小线宽5um，光刻速度大于0mm2/min。

4、背光模具光刻机：关键技术指标：导光结构最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。(2)经济指标项目面向不一样行业市场需求，完成四种型号高端微纳制造装备研发和产业化，实施期内累计完成销售额1.25亿元，净利润1,665万元，税收1165万元。（四）产品市场估计中国市场：（1）高校科研院所和研究结构，各大测试加工平台。现在已经成功推广代表性用户有哈工大、南开大学、苏州大学、中科院纳米所、上海通用识别研究所等。而多年来，伴随各大高校和研究机构对微纳学科加大投入，本项目将有更大应用市场替换国外进口设备。（2）企业：因为现在中国企业升级转型本身发展需求，也在研发和测试仪器上加大了投入，同时，企业端用户认证需要，对产品本身测试要求提升。比如，在平板显示行业，需要对各类材料表面结构形貌参数进行测量，在微加工行业，需要对加工微结构尺寸进行标定。据估计，仅中国就有数百台市场需求。为此，本项目会依据用户对仪器设备具体要求，开发不一样类型仪器。确保能够满足行业应用需求，替换进口。国外市场：因为前期本企业已经开展了仪器设备产品开发工作，经过市场反馈能够看出，因为各国全部将微纳制造作为关键发展领域，国外很多高校、企业全部对本企业现有纳米图形化仪器表现出高度关注。现在，现有仪器设备已经出口日本、韩国、以色列企业，作为研究工具。因为本企业在这方面领先技术基础和有力价格竞争优势，国外市场也将作为以后本项目标目标市场。项目目标产品采取部分型号市场推广，部分型号提供给合作企业新兴产业应用方向进行产品培育模式。合作企业光导膜、大尺寸电容触摸屏等产品，目前服务企业大于30家。企业技术积累和新品和开发能力得到合作企业好评和认可，并和业内一批企业形成长久紧密合作关系。图7行业合作

（五）建设地点、建设周期和进度安排、建设期管理等1、建设地点：建设地点在苏州苏大维格光电科技股份新厂区（苏州工业园区新昌路68号）。企业在苏州工业园区拥有110亩建设用地。现在，建有4.5万平米厂房。其中，本项现在期投入已建设了平米厂房，拟增加面积平米净化面积。其中，黄光净化区1500平米、检测面积500平米。图8项目已建设场地2、建设工期和进度安排：项目完成期限：自项目下达之日起3年内完成。进度安排：第十二个月，完成4套工程样机制造，二台为紫外高速图形直写光刻设备，另二台为532nm绿光，大功率微纳直接加工设备。以这些样机作为试验平台，用于设备应用开发性能测试和验证、产品市场展示和应用，和各个功效模块研发。建立高水平专业销售团体，贮备人才队伍。企业现有微纳光刻设备产品，本年度实现销售2500万元。第二年，连续开拓新市场，开发面向3-4个行业微纳光刻设备。建立完整设备销售、量产和服务团体，实现设备在精密柔性电路、大尺寸液晶面板背光源等行业应用，实现销售大于4000万元。第三年，开拓TFT掩模版、MEMS等行业，实现高端光刻设备规模化量产，实现销售收入大约6000万元。项目建设完成后，形成年销售规模大于1亿元高端微纳光刻直写装备制造和销售能力，同时带动下游相关应用行业，产生10亿左右经济效益。3、建设期管理：企业已经过ISO9001质量管理体系认证和ISO14001环境管理体系认证。产品包含大尺寸触控屏、光掩模版、高端装备、国家公共安全证卡和包装印刷。企业地处中国-新加坡合作苏州工业园区科教创新区，所以，企业对产品品质和原材料环境保护极其关注，有严格质量保障和检测体系，购置了优异检测仪器，建有净化车间和检测分析试验室，在原料、生产制程和过程管控等各个步骤均建立了环境保护控制程序。项目实施将严格根据质量管理体系建立标准化工艺步骤。建立项目责任人和项目进展汇报制度。对于项目工程建设严格实施“四制”，即法人责任制、工程监理制、项目招投标制、项目协议制。本项目标建设将根据企业现有质量及环境保护体系严格管理。五、项目投资项目总投资规模，资金起源及筹措方案、投资使用方案、贷款偿还计划。（一）项目总投资规模、资金起源、投资使用方案本项目总投资10000万元，前期已投入万元企业自筹资金（包含基建和装配车间，部分样机设备紫外激光直写光刻设备、激光签注设备、扫描光刻设备等）。类别投资额（万元）设备106基础建设(厂房、配电、污水、道路、装修)727原材料227试制费940累计新增投资8000万元，为企业自筹资金投入。申请专题经费补助万元。类别金额(万元)建筑工程费（净化）1100设备购置及试制费1700其它工程和费用200铺底流动资金5000累计8000附:关键设备购置清单万元序号设备名称设备型号拟引进国别单价台数总价

1

共焦显微镜

lext4000

日本75

2

140

2

激光干涉仪

xl80

英国1002

200

3

激光功率计

NOVA2

以色列45

20

4

自动图形检测仪

lasertecx700

日本1000

1

1000

5

扫描电镜

zeissEiGMA

日本3001

300累计111660（二）资金筹措方案项目总投资10000万元，前期企业自筹已投入万元。新增投资8000万元，起源于企业自筹资金。申请专题经费补助万元。企业自筹资金起源于企业自有资金和利润积累再投入，企业股东会议一致经过该项出资方案。

六、项目财务分析、经济分析及关键指标内部收益率、投资利润率、投资回收期、贷款偿还期等指标计算和评定，项目风险分析，经济效益和社会效益分析。（一）财务分析生产和销售估计：单位：（万元）年度第十二个月第二年第三年第四年第五年累计年销售量（套）5050486593306销售单价(未税)50.0080125154161570.14销售收入(未税)25004000600010,00015,00037,500.00生产成本1,452.02,192.43,407.05647.8847421173.2主营业务税金及附加5265384163331期间费用1,500.00120010007700其中:营业10001000管理150012001,000.00100010005700财务0营业利润-457.00581.601,540.002,268.204,363.008,295.80

项目三年财务现金流量表：万元项目第十二个月第二年第三年第四年第五年累计1现金流入2,7004,2507,30010,30015,30039,8501.1产品销售收入25004,0006,00010,00015,00037,5001.2折旧2002503003003001,3501.3回收固定资产余值-1.4回收流动资金10001,0001.5营业外收入-2现金流出5000.524542.7565,372.788,877.6012,498.3436,2922.1固定资产