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文档简介

头部断层解剖,（一）,一、头部断层常用基线,Reid基线 Reids base line，RBL 眦耳线 canthomeatal line，CML 眶耳线 orbitomeatal line，OML 上眶耳线 supraorbitomeatal line ，SML 连合间线 intercommissural line，AC-PC线,Reid基线（RBL）：为眶下缘至外耳道中点的连线，为头部断层标本制作的常用基线。,外耳道,眶上缘,眶下缘,上眶耳线（ SML ） ：为眶上缘至外耳道中点的连线，通过该线的断层面约与颅底平面一致。,外眦,眦耳线（CML）或眶耳线（OML）：为外眦与外耳道中点的连线，为头部横断层扫描的常用基线。,上眶耳线 SML,眦耳线 CML,Reid基线 RBL,头部断层常用基线,连合间线,连合间线（intercommissural line）：前连合（anterior commissure ,AC）后缘与后连合posterior commissure,PC）前缘中点的连线，又称AC-PC线。用于人脑立体位断层解剖研究与脑立体定向手术。,前连合,后连合,以眦耳线为基线的连续横断层,连续冠、矢状断层,以 Reid 基线的选择性横断层,二、脑和脑室的断层面解剖,脑的位置与分部,端脑,小脑,小脑,脑干,端脑,间脑,中 脑,脑 桥,延髓,脑的位置与分部,端脑,小脑,端 脑,间脑,中脑,脑桥
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