电池线知识汇总.doc

电池线知识归纳一、 生产流程一次清洗扩散二次清洗PECVD丝网印刷测试分选二、 各工序作用一次清洗（制绒工序国产设备）：将硅片表面进行化学腐蚀，去除硅片表面的损伤层并形成绒面。一次清洗（酸洗工序国产设备）：去除硅片表面的金属离子和氧化层，使硅片表面洁净达到扩散要求。一次清洗（RENA设备）：将硅片进行化学腐蚀，去除硅片表面的损伤层并形成绒面。扩散：在清洗后的P型硅片表面通过高温扩散的方式形成一层N型，使整个硅片形成PN结。二次清洗（等离子刻蚀工序国产设备）：通过气体辉光放电的方式形成等离子体，将扩散后的硅片边缘N型去掉，防止边缘漏电。二次清洗（清洗工序国产设备）：对等离子刻蚀后的硅片表面进行化学清洗，去除硅片表面的磷硅玻璃。二次清洗（RENA设备）：对扩散后的硅片表面进行化学刻蚀及化学清洗。PECVD:通过等离子化学沉积的方法形成氮化硅薄膜，以增加表面的光吸收和减少硅片表面的载流子复合。丝网印刷：通过丝网印刷的方法，将导电浆料印刷到硅片上，以引出太阳能电池的电极，最后通过烧结炉对硅片进行烧结，使电极材料和硅形成良好的欧姆接触。测试分选：对烧结后的电池片的电性能进行测试，并根据其转换效率进行分选，最后按档位分别包装入库。三、 各工序所用设备和工具以及原辅料工序名所用设备和工具 所用原辅料一次清洗（制绒工序国产设备）制绒清洗机、花篮、片盒、推车NAOH 、 HF、 Na2SiO3 、IPA 氮气、去离子水一次清洗（酸洗工序国产设备）酸洗清洗机、甩干机、花篮、片盒、推车HF 、HCl 、氮气、去离子水一次清洗（RENA设备）RENA一次清洗机、片盒、周转车、推车HF、HNO3 、氮气、去离子水、 KOH、 H2SO4扩散石英舟、石英吸笔、舟叉套管、净化插片台、卸片台、扩散炉、承载片盒、方块电阻测试仪、少子寿命测试仪三氯氧磷、三氯乙烷、氧气氮气、氢氟酸、盐酸、去离子水二次清洗（等离子刻蚀工序国产设备）夹具、垫板、等离子刻蚀机、冷热探针四氟化碳、氧气、氮气二次清洗（清洗设备）二次清洗机、甩干机、花篮、片盒、推车HF、氮气、去离子水二次清洗（RENA设备）RENA清洗机、片盒、周转车硝酸、HF、KOH、HCL 氮气、去离子水PECVD（板式）板式PECVD镀膜设备、石墨框、片盒硅烷、氮气、氨气PECVD（管式）管式PECVD镀膜设备、石墨舟、片盒石英吸笔、周转车氨气、硅烷、氮气丝网印刷印刷机、烘干炉、网版浆料搅拌机、烧结炉单晶：PV147、儒兴铝浆、PV149多晶: PV505、儒兴铝浆、PV16A测试分选测试分选仪、塑封机、包装机泡沫盒、瓦楞板、封箱带四、 主要设备工艺参数1、 一次清洗（制绒工序国产设备）片源1#预清洗3#去损伤5#8#制绒槽初始配比时间(S)温度()初始配比时间(S)温度()初始配比时间(S)温度()自动补液手动补液硅切部片源3KG柠檬酸120902KG氢氧化钠60701.25KG氢氧化钠6L IPA.0.7L制绒辅助品110076每过一篮补625ml氢氧化钠 250ml IPA每过3篮补100ml制绒辅助品外购片3KG柠檬酸609015KG氢氧化钠80801.25KG氢氧化钠6L IPA.0.7L制绒辅助品90076每过一篮补625ml氢氧化钠 250ml IPA每过3篮补100ml制绒辅助品一、 二线工艺参数对照表片源1#预清洗3#去损伤5#8#制绒槽初始配比时间(S)温度()初始配比时间(S)温度()初始配比时间(S)温度()自动补液手动补液硅切部片源3KG柠檬酸120902KG氢氧化钠60701.25KG氢氧化钠6L IPA.0.7L制绒辅助品110076每过一篮补1250ml氢氧化钠 300ml IPA每过3篮补100ml制绒辅助品外购片3KG柠檬酸609015KG氢氧化钠80801.25KG氢氧化钠6L IPA.0.7L制绒辅助品90076每过一篮补900ml氢氧化钠 300ml IPA每过3篮补100ml制绒辅助品三、 七、八线工艺参数对照表2、 一次清洗（酸洗工序国产设备）槽位功能配比液位时间1#HClHCl 20L最上面刻度120s2#漂洗/120s5#混合酸洗HF 20LHCl 8L最上面刻度120s6#喷淋/100s7#漂洗/100s8#慢提拉/30s9#烘干/300s10#烘干/300s适用于一中心扩散前酸洗备注：各槽位温度都在常温下，酸槽换液频率为12小时槽位功能配比液位时间鼓泡流量1#HClHCl 20L中间刻度120s0.3-0.7m3/h(配液时开，酸洗时关)2#漂洗/120s0.1-0.4m3/h3#混合酸洗HF 20LHCl 8L中间刻度120s0.3-0.7m3/h(配液时开，酸洗时关)4#喷淋/100s/5#漂洗/100s0.1-0.4m3/h6#喷淋/100s/适用于二、五中心扩散前酸洗备注：1#-7#槽位温度都在常温下，3#、4#屏蔽,8#槽温度为60;9#.10#槽温度为80酸槽换液频率都为12小时3、 甩干机工艺参数瑞能甩干机项目低速高速喷水时间吹气时间温度喷氮延时蜂鸣延时参数180-205rpm360-430rpm30s200s12055s10s4、一次清洗（多晶中联设备）槽位配比温度时间自动补液漂洗DI Water:120L常温120-240s/制绒HF：40-50LHNO3:200-250LDI:120-150L8-12120-180sHNO3:1.0-2.0L/篮HF：0.6-1.2L/篮DI:0.1-0.5L/篮漂洗DI:120L常温120s溢流漂洗DI:120L常温120s溢流碱洗kOH:8LDI:115L20520-60sKOH:0.15-0.3L/篮DI:1.4-2.0L/篮漂洗DI:120L常温180s溢流漂洗DI:120L常温180s溢流HCl酸洗HCl:16LDI:64L常温120sHCl:0.2-0.3L/篮DI：0.4-0.6L/篮漂洗DI:120L常温120s溢流 HCl+HF酸洗HCl:22.5LHF:7.5LDI:60L常温120sHCl:0.2-0.3L/篮HF:0.15-0.25L/篮DI:0.3-0.6L/篮漂洗DI:120L常温120s溢流 漂洗DI:120L常温120s溢流 慢提拉DI:120L603-4min溢流 烘干氮气80-903-8min/一次清洗（多晶RENA设备）槽位配比温度速度自动补液循环流量制绒槽HF:54.7LHNO3:272.5LDI water:152.8L6-131.10.2m/minHNO3:1.20.5L/100片HF:0.50.2L/100片DI water:0.55L/100片18020L/吹干压缩空气/1.10.2m/min/25Nm3/H漂洗DI Water:80L常温1.10.2m/min/58L/min碱洗KOH:6-8LDI water:92L2051.10.2m/minkoH:0.8-1.6L/HDI water:162L/H2800-3500L/H漂洗DI water:92L常温1.10.2m/min/58L/min酸洗HF:23LHCl:61LDI water:92L常温1.10.2m/min4700L/H漂洗DI water:92L常温1.10.2m/min/58L/min吹干压缩空气/1.10.2m/min/25Nm3/H换液频率类型制绒槽碱洗槽酸洗槽漂洗槽156多晶305万片换一次15万片换一次15万片换一次每班交接班及用餐间换液125多晶455万片换一次15万片换一次15万片换一次每班交接班及用餐间换液扩散方块电阻要求类型单点控制上下限单片平均值控制上下限单晶125/156455453多晶125/156546543扩散炉开机后升温程序88#工艺号步号时间各炉区温度小N2(sccm)大N2(sccm)O2(sccm)清洗小N2(sccm)舟速88#1400150/25000/35025100850/25000/3400850/25000/扩散炉开机后清洗饱和工艺工艺号步号时间各温区温度小N2(sccm)大N2(sccm)O2(sccm)清洗小N2(sccm)舟速02#1400850/20000/35028001050/10000/36001050/10000/436001050/100001000/536001050/100001000/61200900/1000010000/742009001800200002400/8900900/20000/9400900/25000/350单晶工艺参数步骤时间(min)温度()扩散大氮(L/min)小氮(L/min)氧气(L/min)源温()进炉5850-89025-300020稳定15850-89025-300020通源2850-89025-300.60.920通源20850-89025-301.6-2.01.8-2.520吹氮15850-89025-300020出炉5850-89025-300020多晶工艺参数步骤时间(min)温度()扩散大氮(L/min)小氮(L/min)氧气(L/min)源温()进炉6830-86025-300020稳定15830-86125-300220通源5830-86225-302320预沉积30830-86325-302-2.53-5.520驱入15830-86425-300220降温580025-300020出炉680025-300020等离子刻蚀时间参数预抽120sec辉光720sec主抽120sec清洗60sec送气180sec充气30sec工艺参数工艺压力100pa辉光功率600w氧气流量30sccmCF4流量250sccm二次清洗（国产设备）单晶三槽去磷硅玻璃1#去磷硅玻璃槽初始配液去离子水180升、氢氟酸8升、去离子水加至液面从上而下第2条刻度过程中加液不排液、不加液反应时间2.5min反应温度常温鼓泡氮气流量0.7-1.1m3/h换液频率正常生产时每12小时换液2#漂洗槽时间5min氮气鼓泡流量0.1-0.4m3/h温度常温换液频率12小时喷淋槽时间5min温度常温单晶六槽去磷硅玻璃1#去磷硅玻璃槽初始配液氢氟酸8升去离子水加至液面从上而下第2条刻度过程中加液不排液、不加液反应时间130s反应温度常温鼓泡氮气流量0.3-0.7m3/h (配液时开启，清洗时关闭)换液频率正常生产时每12小时换液2#、3#漂洗槽时间100s温度常温鼓泡氮气流量不鼓泡换液频率12小时4#、5#喷淋槽时间100s温度常温二次清洗（RENA设备）槽位配比温度速度自动补液循环流量刻蚀HF:14.5L HNO3102L H2SO4:80L DIWater:213.5L821.10.2m/minHNO3:0.2-0.25L/400片 HF:0.08-0.2L/400片25-45L/min吹干压缩空气/1.10.2m/min/25Nm3/h漂洗DI water:80L常温1.10.2m/min58L/min碱洗KOH:8LDI water:92L2051.10.2m/minKOH:1-1.5L/hDI water:10-15L/h3500L/h漂洗DI water:60L常温1.10.2m/min/58L/min酸洗HF:39LDI water:396L常温1.10.2m/minHF:1.2L/hDI water: 6L/h4700L/h漂洗DI Water:60L常温1.10.2m/min/58L/h吹干压缩空气/1.10.2m/min/25Nm3/h备注：156多晶：制绒槽每150万片换液一次，漂洗槽每5万，