FK61玻璃抛光总结.ppt

,fk61抛光经验总结,2012年5月18日,fk61玻璃抛光中的难点,很容易受温度的影响而炸裂 抛光过程容易出现“白点” 超软材质，容易出现划伤 抛光后容易出现光圈“水波纹”,高精度抛光材料的运用才是解决问题的关键,研磨率低,高分散,高浓度、低分散（凝集）,高浓度 ,高分散,分散性对研磨率相关性分析,）研磨过程：玻璃表面与抛光液表面的物理、化学反应决定,结果：抛光速率与有效抛光粒子的表面积成正比关系 抛光粒子表面积与浓度分散性的相关性,研磨率高,低浓度,研磨率高,抛光液作用原理,抛光液配方原理,j: 聚合物分散剂，能有效分散单体颗粒均匀悬浮于水中 u: 分散稳定剂，能稳定稀土氧化物的分子，使得“抱团”氧化物颗粒能稳定分开 n：助溶剂，利用化学作用提高抛光液磨削速率 o：消泡剂，有效去除抛光液在流动过程中的泡沫，避免抛光不均匀性,抛光液分类,抛光液的评价指标,粒子大小与分布 决定了抛光精度和速度，一般用目数或平均颗粒大小(d50)来表征。过筛目数反映了最大颗粒的大小，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。 磨削速度 高磨削速度意味着高的生产效率 悬浮性 高速抛光要求抛光液粒子具有较好的悬浮性，不沉积 颗粒结构 颗粒结构是团聚体颗粒还是单晶颗粒决定了抛光粉的耐磨性和流动性。团聚颗粒容易划伤被抛基面 ph值 过碱或过酸的抛光液腐蚀被抛基面 粒子硬度 抛光液中粒子的硬度不同，用途也不同。氧化铈的莫氏硬度在67之间，适用于硅酸盐玻璃基面的抛光,抛光液生产工艺流程图,预分散,研磨,分散搅拌,过滤充填包装,配料,工艺过程的控制要点,原料的添加顺序 分散搅拌速度 研磨时间 温度,抛光液测试报告,磨削速率比较,ceo2 (wt%),悬浮性试验,抛光液中ceo2颗粒典型sem照片,结论,抛光液可以通过化学作用原理相比于传统抛光粉有更好的剪削力，提升生产效率 抛光液中的抛光粒子更细小（纳米级），提高了抛光精度 抛光粒子以单晶粒子形式分散于抛光液中，彻底避免抛光过程中由于粒子的团聚产生划伤缺陷，降低次品率 抛光液可以避免抛光机内部和抛光皮中抛光粒子的沉积和凝聚，降低设备的维修和维护成本 抛光液有效避免生产工人吸入有毒的抛光粉尘（比如氧化铈抛光粉），保护员工的身体健康,应用举例,同时应用与粗抛和精抛行业 更高效的磨削率,显微镜片 医疗用镜片,fk61抛光案例,公司介绍,上海隽诺科贸有限公司是以华东理工大学科技人员十几年研究成果为基础，以集体股份制形式创立的以研、产、销为一体的民营企业。 成立于2004年，现有员工近30多名，分别来自高分子材料、精细化工、化学工程和工商管理等专业。公司人员中80%具有大专以上学历，60%为科研人员，其中包括教授2名，博士4名，硕士多名。 公司坚持以粉体表面处理技术和分散技术为主攻方向，着力于研究玻璃、硅片、宝石及金属基材的表面处理化学品，包括抛光液、涂料、油漆和切割液等等，经过多年努力，产品已经填补了国内空白，达到国际先进水平。 本着“客户至上，精益求精”的经营宗旨，本公司竭诚愿意为抛