标准解读

《YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》是中国有色金属行业标准之一，该标准主要针对用于制造电子薄膜的高纯金属溅射靶材的纯度分级以及如何进行杂质含量的分析与报告提供指导。标准内容涵盖了适用于此类材料的技术要求、测试方法、质量控制等多个方面。

根据此标准，对于不同种类的金属溅射靶材（如铜、铝、钛等），规定了具体的纯度级别及其对应的最大允许杂质含量。这些规定旨在确保所使用的材料能够满足特定应用领域对材料纯净度的要求，从而保证最终产品的性能稳定性和可靠性。

此外，《YS/T 935-2013》还详细描述了测定金属溅射靶材中各种元素杂质浓度的方法，包括但不限于ICP-AES（电感耦合等离子体原子发射光谱法）、GDMS（辉光放电质谱法）等先进检测技术的应用。通过采用这些科学准确的分析手段，可以有效监控并保证产品质量符合既定标准。

在报告方面，该标准明确了数据记录格式、结果表示方式等内容，强调了信息透明度的重要性，并且为行业内相关企业之间的沟通交流提供了统一的语言基础。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2013-10-17 颁布
  • 2014-03-01 实施
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ICS7715099 H 68 . . 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T9352013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级 及杂质含量分析和报告标准指南 Standardguideforanalysisandreportingtheimpuritycontentandgradeofhigh puritymetallicsputteringtargetsforelectronicthinfilmapplications2013-10-17发布 2014-03-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发 布 YS/T9352013 前 言 本标准按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本标准参照了 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量的分析 ASTM F2113-01(2011)及报告标准指南 。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会 归口 (SAC/TC243) 。 本标准起草单位 有研亿金新材料股份有限公司 : 。 本标准主要起草人 张涛 何金江 丁照崇 万小勇 徐建卫 廖赞 尚再艳 王欣平 熊晓东 吕保国 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 。 YS/T9352013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级 及杂质含量分析和报告标准指南1 范围 本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法 杂质含量分析方法 抽样 、 、 规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容 。 本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材 以下简称靶材 其他对纯度有较高要求的靶材 ( )。 纯度等级 杂质含量分析及报告规范也可参照使用 、 。2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 仅注日期的版本适用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改单 适用于本文件 。 , ( ) 。 金属材料中氢 氧 氮 碳和硫分析方法通则 GB/T14265 、 、 、 所有部分 铝及铝合金化学分析方法 GB/T20975( ) 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 GB/T29658 高纯铝化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 YS/T871 高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 YS/T922 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件 。31 . 靶材 target 物理气相沉积 工艺中用于溅射的阴极部分 本标准中指加工后待用的靶材 (PVD) , 。32 . 原材料批 materiallotbatch 制造同批系列靶材所用的原材料锭批 。33 . 靶材规范 targetspecification 电子薄膜用溅射靶材的产品规范 。4 要求 41 成分要求 . 电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材因用途不一 对不同材质靶材的纯度要求也不一致 靶材成分 , 。 要求 一般包含金属杂质和非金属杂质检测 要求如下 , , :411 靶材由纯金 属 制 成 按
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