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文档简介

中国材料工程大典材料表面工程卷出版中国表面工程2006位3结论(1)镀层厚度在0.92.1m范围内变化,受靶基距影响明显.随靶基径向距增大厚度显着减小,减小趋势逐渐变缓;随靶基轴向距增大厚度先增后减,在中心区域基本不变.靶基径向距对镀层厚度的影响明显强于靶基轴向距.(2)镀层厚度均匀性随靶基径向距增大而逐渐改善,在靶基轴向距的中心区域有好的镀层均匀性.(3)udp450设备能够处理直径180iilln,高度100iilin以内的较大尺寸工件并保证镀层厚度均匀.(4)真空室内的磁场分布和粒子迁移中的散射碰撞是导致靶基距影响镀层厚度及其均匀性的主要原因.参考文献:1】hiroshifujiyama,kiyoshikuwahara.magnetronplasmasforlarge-areauniformsputteringjj.surfaceandcoatingstechnology,1995,74?75:75-79+2】reinerkukla.magneonsputteringonlargescalesubstrates:anoverviewonthestateofthea九j】_surfaceandcoatingstechnology,1997,93:1-6.f33徐均琪,易红伟,等.磁控溅射膜厚均匀性与靶.基距关系的研究j.真空,2004,41(2):25-28.4】惠迎雪,等.不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究j.西安工业学院,2003,23(1):32.36.5】徐均琪,杭凌侠,蔡长龙.磁控溅射离子束流密度的研究j】.真空科学与技术,2004,24(1):74-76.6宋建全,刘正堂,等.平面磁控溅射薄膜厚度分布模拟j】.机械科学与技术,200l20(6):884?885.7】vankasp,luog,glumacng.parametriceffectsonthinfilmgrowthanduniformityinanatmosphericpressureimpingingjetcvdreactorj】.journalofcrystalgrowth.2004f267)2234.8韩雷刚.多工位平面磁控溅射镀膜装置及膜厚分布均匀性研究d】+成都:电子科技大学,2004.作者地址:西安市金花南路5号710048西安理工大学材料学院tel:(029)8231259213571998794e-mail:denglch163+com-书讯?(<中国材料工程抖亡j陛卷出版材料表面工程是中国材料工程大典>)中的第16卷,第17卷,已由化学工业出版社出版.材料表面工程是反映当代表面工程技术水平的大型综合性工具书,内容由三个部分组成.表面工程基础知识:阐述了表面工程的内涵,功能,分类,发展历程,材料服役中的表面失效及防治,表面覆层的界面结合机理;表面工程技术:介绍了涂装,热喷涂,堆焊,电镀,电刷镀,化学镀,转化膜技术,化学热处理,热浸镀,物理化学气相沉积,高能束表面处理,纳米表面工程,材料的封存与包装等常用表面工程技术的基本原理,适用场合,工艺选择,材料选用原则,质量检测与控制,安全防护等内容;表面工程技术综合运用:介绍了单一表面工程技术和复合表面工程技术的选用原则,不同服役工况下的涂覆材料设计及表面工程技术经济分析.材料表面工程>)由徐滨士院士,刘世参教授任主编,并邀请了国内外20位专家撰稿,书中内容以作者们近期的研究成果为主,同时汇集了国内外表面工程技术新进展.全书着力为现代企业正确选材,合理用材,启迪技术创新服务.读者对象是具有大专以上文化水平,从事制造,再制造及维修的工程技术人员.也可供研究人员,理工院校的有关师生参考.每卷售价130元.材料表面工程第16,17卷的目录是:第1篇:概论主编:徐滨士院士,刘世参教授第2篇:材料服役中表面的失效行为及防治主编:涂善东教授第3篇:表面覆层形成与结合机理主编:徐滨士院士,朱绍华教授第4篇:涂装主编:吴行教授第5篇:热喷涂主编:徐滨士院士,李长久教授第6篇:堆焊主编:董祖珏教授第7篇:电镀与电刷镀主编:马世宁教授第8篇:化学镀与转化膜技术主编:姜晓霞研究员,董首山研究员第9篇:化学热处理主编:董汉山教授第10篇:热浸镀主编:邦津f研究员第1l篇:气相沉积技术及功能薄膜材料制备主编:吕反修教授第12篇:高能束表面处理技术主编:左铁钏教授第13篇:纳米表面工程主编:徐滨士院士第14篇:封

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