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1 磁光效应包括哪些材料？法拉第效应材料 克尔磁光效应材料2硫化镉的作用硫化镉和碲化镉两相邻膜层组成一个“整流”异质结，当有光照时，使光敏层的电导率发生变化，产生一定的阻抗分布。3 悬臂梁属于哪种空间调制器？表面形变空间光调制器4 哪种放大器性质最优良？掺饵光纤放大器5 红外线中作为发射器基准光源是？发光二极管6 热蒸发包括哪几类？1）电阻加热法2）电子轰击法3）溅射法热蒸发法1）在真空中把制造薄膜的材料加热蒸发，使其蒸气淀积在样品或衬盘的表面2）此法可用来制备保护膜、反射膜，也可以制备记录介质膜；淀积薄膜时同时存在两个过程1）固体先熔融为液体再蒸发为蒸气2）固体直接升华为蒸气 7 谁发明全息技术？丹尼斯盖伯8 在空间滤波中用来增强像边缘实现空间反转的是哪一类滤波器？微分滤波器 （高通？）9 激光记录/再现 的离轴全息图是哪一代的？第二代全息10利用干涉原理可以记录 物光的振幅信息 和 物光的位相信息11 复用的光载波长1nm时对应的通信方式？12 可擦重写相变光盘常见的相结构变化有： 晶态-晶态之间的可逆相变 非晶态-非晶态之间的可逆相变 玻璃态-晶态之间的可逆相变(1)型在相变前后的光学参量（折射率、消光系数等）改变不大，因而反村度太小，没有实用价值。(2)型同样由于反衬度过小而不适用。(3)型两态光学参量差异大，可获得较大的反衬度和信噪比。13第三代全息是怎样的？激光记录，白光再现14在光存贮中，半导体激光器作光源.光信息全息图设备一般是用什么激光器作为光源？1）He-Ne激光器 2）氩离子激光器 3）氦镉激光器 4）氪离子激光器15什么是ROM光碟？只读存储光盘 调制的激光束以不同的功率密度聚焦在涂有光刻胶的玻璃衬盘上产生刻蚀。16 光学薄膜的作用保护膜作用 使记录介质与基底或空气隔离免被氧化 保护记录膜在激光的重复照射下不引起烧蚀 以提高光盘的稳定性和擦、写循环次数。优化膜系结构 合适的膜系匹配能使晶态和玻璃态的反差增大 可减少反射引起的激光能量损失 提高光盘的载噪比和灵敏度相变光盘的膜系结构优化设计是光盘研制中的关键问题。17 全息再现特点的定性说明 全息图上每一点都记录有物上所有点发出的波的全部信息因此每一点都可以在参考光照射下再现出像的整体。对再现像有贡献的点越多，像的亮度越高。点越多，再现时的照明孔径也越大，像的分辨率就越高，可以观察三维立体像的视角也越宽。 在全息图上这四项是相互重叠在一起的由于光是独立传播的，再现时在全息图上相互重叠的的四项将分别沿三个不同方向传播。 只要这些方向之间夹角比较大，离开全息图不远就可以分离开来，在不同方向上观察，这四项产生的图像并不会互相干扰。18 一次性写入光盘：是利用激光光斑在存储介质的微区产生不可逆的物理化学变化以进行记录的盘片。类型：烧蚀型起泡型熔绒型 合金化型 相变型19 空间光调制器的功能可在随时间变化的电驱动信号控制下，或者在另外一种空间光强分布的作用下改变空间上光分布的相位、偏振、振幅（或强度）乃至波长，或是非相干光到相干光的转换等20 光学器件处理中，滤波器有哪些？功能如何？1振幅型滤波器：只改变频谱的振幅分布，不改变位相分布（1）低通滤波器：滤去频谱中的高频部分，只允许低频通过，主要用于消除图像中的高频噪声（2）高通滤波器：滤除频谱中的低频部分，以增强像的边缘，或实现衬度反转，主要用于增强模糊图像的边缘，以提高对图像的识别能力（3）带通滤波器：用于选择某些频谱分量通过，阻挡另一些分量 （4）方向滤波器：实际上也是一种带通滤波器，只是带有方向性 2位相型滤波器：位相型滤波器只改变傅里叶频谱的位相分布，不改变它的振幅分布，其主要功能是用于观察位相物体 21 全息术的发展历史 丹尼斯盖伯（Dennis Gabor）于1948年提出，由于这种技术要求高度相干性及高强度的光源而一度发展缓慢萌芽时期，是用汞灯作光源，摄制同轴全息图，是第一代全息图。 1960年第一台激光器问世，解决了相干光源问题 1962年美国科学家利思（Leith）和乌帕特尼克斯（Upatnieks）提出了离轴全息图以后，全息技术的研究才获得突飞猛进的发展，激光记录、激光再现的离轴全息图，称为第二代全息。 第三阶段是激光记录、白光再现的全息图，称为第三代全息，主要包括白光反射全息、像全息、彩虹全息、真彩色全息及合成全息等 。用白光记录、白光再现的全息图，称为第四代全息22 磁光效应有哪些 磁光效应包括法拉第（Faraday）效应和科顿（CottonMouton）效应。磁光调制薄膜具有三个稳定的磁化状态 1）像元的磁光调制薄膜垂直于薄膜表面并沿一个方向被完全磁化； 2）薄膜沿相反方向被完全磁化；3）两种磁化状态的磁畴结构组成稳定的中间磁化状态。磁光调制单元可以有三个状态：线偏入射光的偏振面按1）顺时针旋转角2）逆时针旋转角3）偏振面不发生旋转。23 光塑料器件写入同期的五个步骤（标准写入/擦除周期由五个步骤） 第一步热塑膜表面被均匀充电至几百伏的正电位，充电时透明电极地，则在光导层下部也均匀分布有与热塑膜表面等量的负电荷 第二步，进行光塑曝光，在光强较大的地方光导体下的负电荷移至热塑料与光导层的界面上，由于热塑层自由表面的电荷密度来变，根据高斯定理热塑层静电场强度也未改变，仅是曝光区域的表面电势降低。 第三步，再次充电使热塑膜表面保持开始时均匀的电势分布，此时曝光区域的静电场增强，光强的空间分布已转换成电场的空间分布。 第四步，加热热塑层至软化温度，在电场力的作用下热塑层发生厚度的变化，在曝光强的区域内区厚度变薄，在曝光弱的区域其厚度较大，此即完成了器件的写入过程。为了重新记录，器件需要擦除。第五步，即最后一步，热塑膜加热至比“显影”温度更高的温度，使其电阻降低，静电场坍塌，在表面张力的作用个热塑料恢复到记录开始时的平整状态24 MSLM突出特点 （1）光敏层与调制层间的微通道板能对写入图像进行内增强（2）其光敏、放大、控制、存储功能在结构上由分离的不同部件来完成;（3）为提高器件的整体性能指标带来了极大的灵活性矩形函数 表示狭缝 三角形函数 表示矩形光瞳OTF 在4f系统中，输入物是一个无限大的矩形光栅，设光栅常数d = 4，线宽a =1，最大透过率为1，如不考虑透镜有限尺寸的影响，（a）写出傅里叶平面P2上的频谱分布表达式；（b）写出输出平面复振幅和光强分布表达式；（c）在频谱面上作高通滤波，挡住零频分量，写出输出平面复振幅