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文档简介
椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率 (南京大学物理学院 江苏南京 210000)摘要:椭圆偏振测量法,即椭偏光法,是将一束偏振光非垂直地投射到被测样品表面,观察反射光或透射光的偏振状态变化来推知样品的光学特性,如薄膜的厚度,材料的负折射率等。本实验用椭偏仪,根据椭偏光法测量薄膜样品的厚度和折射率。 关键词:椭偏光法;椭偏仪;椭圆偏振方程;椭偏参数一、实验目的1. 了解椭偏光发测量原理和实验方法。2. 熟悉椭偏仪器的结构和调试方法。3. 测量介质薄膜样品的厚度和折射率,以及硅的消光系数和负折射率。二、实验原理1.椭圆偏振方程在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同时存在的。通常,设介质层为n1、n2、n3,1为入射角,那么在1、2介质交界面和2、3介质交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图1图1 薄膜系统的光路示意图这里我们用2表示相邻两分波的相位差,其中 =2dn2cos2/ ,用r1p、 r1s表示光线的p分量、s分量在界面1、2间的反射系数, 用r2p 、r2s表示光线的p分、s分量在界面2、3间的反射系数。 由多光束干涉的复振幅计算可知: 其中Eip和Eis 分别代表入射光波电矢量的p分量和s分量,Erp和Ers分别代表反射光波电矢量的p分量和s分量。现将上述Eip、Eis 、Erp、Ers四个量写成一个量G,即:我们定义G为反射系数比,它应为一个复数,可用tg和表示它的模和幅角。上述公式的过程量转换可由菲涅耳公式和折射公式给出:G是变量n1、n2、n3、d、1的函数(2 、3可用1表示) ,即=tg-1f,=arg| f |, 称和为椭偏参数,上述复数方程表示两个等式方程:tge i的实数部分 =的实数部分tge i的虚数部分 =的虚数部分若能从实验测出和的话,原则上可以解出n2和d (n1、n3、1已知),根据公式(4)(9),推导出和与r1p、r1s、r2p、r2s、和的关系: 由上式经计算机运算,可制作数表或计算程序。 这就是椭偏仪测量薄膜的基本原理。若d是已知,n2为复数的话,也可求出n2的实部和虚部。那么,在实验中是如何测定和的呢?现用复数形式表示入射光和反射光:由式(3)和(12),得:其中:这时需测四个量,即分别测入射光中的两分量振幅比和相位差及反射光中的两分量振幅比和相位差,如设法使入射光为等幅椭偏光,Eip/Eis = 1,则tg=|Erp/Ers|;对于相位角,有: 因为入射光ip-is连续可调,调整仪器,使反射光成为线偏光,即rp-rs=0或(),则=-(ip-is)或=-(ip-is),可见只与反射光的p波和s波的相位差有关,可从起偏器的方位角算出。对于特定的膜,是定值,只要改变入射光两分量的相位差(ip-is),肯定会找到特定值使反射光成线偏光,rp-rs=0或. 2.实际检测方法等幅椭圆偏振光的获得(实验光路如图2),平面偏振光通过四分之一波片,使得具有/4相位差,使入射光的振动平面和四分之一波片的主截面成45。图2 椭偏仪的光路图3.反射光的检测将四分之一波片置于其快轴方向f与x方向的夹角为/4的方位,E0为通过起偏器后的电矢量,P为E0与x方向间的夹角。,通过四分之一波片后,E0沿快轴的分量与沿慢轴的分量比较,相位上超前/2。在x轴、y轴上的分量为:由于x轴在入射面内,而y轴与入射面垂直,故Ex就是Eip,Ey就是Eis。图3 偏振光的振动方向由此可见,当=/4时,入射光的两分量的振幅均为E0 / 2,它们之间的相位差为2P-/2,改变P的数值可得到相位差连续可变的等幅椭圆偏振光。这一结果写成:三、实验仪器椭圆偏振仪有多种型号。随着科学和技术的快速发展,椭偏仪的光路调节和测量数据的处理越来越完善快捷。这里介绍常用的手动型椭圆偏振测厚仪(TP-77型)和自动型椭圆偏振测厚仪(SGC-2型)。手动型椭圆偏振仪采用632.8nm波长的氦氖激光器作为单色光源,入射角和反射角均可在90度内自由调节,样品台可绕纵轴转动,其高度和水平可以调节,样平台可绕纵轴转动,其高度和水平可以调节。检偏器旁边有一个观察窗,窗下的旋钮用以改变经检偏器出射的光或者射向光电倍增管。为了保护光电倍增管,该旋钮的位置应该经常放在观察窗位置。 SGC-2型自动椭偏仪,其自动化程度高,光路调试完毕后只要装上待测样品,点击计算机上的相应菜单,输入相应的参数,即可自动完成起偏器,检偏器的调节,找出消光点,并直接给出待测样品的d和的值。该仪器也有会出曲线和表格的功能,测出和值后,可在曲线上或表中查出对应的最佳的和d值。仪器还适用于测量厚度超过一个周期以上的薄膜样品。测量方法是利用“双角度”功能,设置好二次测量的角度,点击菜单,就可以得出样品的周期数以及样品的总厚度值。对于厚度超过一个周期的薄膜,相应的光程差引起的相位差超过了一个周期360度,这时所得的数据应该加上对应的周期数,再计算d的值。图4 自动化椭偏仪四、实验内容测量硅衬底上二氧化硅(SiO2)薄膜的厚度和折射率。1. 仪器开机预热2. 入射角度设置3. 样品放置和调整4. 样品测量5. 数据分析6. 结果输出7. 仪器关机注意事项:光路调节要轻缓细心。要注意避免激光损伤眼睛。样品表面要避免玷污。五、数据处理及误差分析本实验采用数字化自动椭偏仪,数据的采集和分析由计算机进行,最后得到薄膜样品的厚度和折射率如下表,波长(nm)入射角(deg)膜厚(nm)折射率n均方误差632.869.893.121.53.54E-003表1 样品的厚度和折射率由实验结果的误差可知,椭偏仪的测
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