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文档简介

三氯化铁蚀刻 概述 在印制电路 电子和金属精饰等工业中广泛采用三氯化铁蚀刻铜 铜合金及铁 锌 铝等 这由于它的工艺稳定 操作方便 价格便宜 但是 近些年来 由于它再生困难 污染严重 废液处理困难等正在被淘汰 以氯化铜 过硫酸盐 过氧化氢 硫酸 氨碱以及其它刻蚀液替代 三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料 液体感光胶 干膜 金等抗蚀层的印制板的蚀刻 但不适用于镍 锡 锡 铅合金等抗蚀层 蚀刻机理 FeCl3 Cu FeCl2 CuClFeCl3 CuCl FeCl2 CuCl2CuCl2 Cu 2CuCl 蚀刻铜箔的同时 还伴有一些副反应 就是CuCl2和FeCl3的水解反应 生成的氢氧化物很不稳定 受热后易分解 结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒 悬浮于蚀刻液中 对抗蚀层有一定的破坏作用 Fe3 的消耗量与Fe3 及Cu2 溶铜量的关系 影响蚀刻速率的因素 Fe3 的浓度和蚀刻液的温度刻液中加盐酸的添加量蚀刻液的搅拌 其它蚀刻 硫酸 铬酸蚀刻过硫酸铵蚀刻硫酸 双氧水蚀刻
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