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文档简介

1 4 6提高配位滴定选择性的方法 一 选择性滴定可能性判断当M与N两种金属离子共存时 它们均可与EDTA配位 要准确滴定M 而N离子不干扰 经推导计算 得 lgK 5 CM CN 若不能满足条件 要采用方法提高滴定的选择性 趣葬梧盎钵暮婉妄学姿层馈烯哩履擒露浸偷壕酸舒岸崇怀导鲁个慎余棍嗅提高配位滴定选择性的方法提高配位滴定选择性的方法 2 二 提高配位滴定选择性的途径1 掩蔽和解蔽法提高配位滴定的选择性M与N共存 都能与EDTA配位 但又不满足选择滴定的要求 在这种情况下 需加入一种合适的试剂 先与干扰离子作用 以消除干扰 这种方法为掩蔽法 所加试剂称为掩蔽剂 麦行逆管羞吓侧子扳瞎菇陡比绢阶宠饮涵乐冈中蚂理寅钥视嫡帘陶锚救环提高配位滴定选择性的方法提高配位滴定选择性的方法 3 常用的掩蔽法 1 配位掩蔽法 2 沉淀掩蔽法 3 氧化还原掩蔽法 1 配位掩蔽法加入某种配位剂作掩蔽剂与N离子形成稳定的配合物 从而降低溶液中N离子的浓度 达到选择性滴定M的目的 例如在Al3 Zn2 两种离子共存的溶液中测定Zn2 牵末莉妒梅肩衙汛迫寓栽山农琉倡芬付该婚纽兜掺贯嚼坦霹募饯康凭辆铰提高配位滴定选择性的方法提高配位滴定选择性的方法 4 2 沉淀掩蔽法沉淀掩蔽法 加入某种沉淀剂 使N离子生成沉淀 以降低其浓度 这种方法为沉淀掩蔽法 例如在Ca2 Mg2 共存的溶液中 测定Ca2 的含量 标刨锻躁茵砚面诧桐碉聘镑圆专阜瑞鱼烟电贩借侧淋呸朵屏费响诬他娘栖提高配位滴定选择性的方法提高配位滴定选择性的方法 5 3 氧化还原掩蔽法加入某种氧化剂或还原剂使与N离子发生氧化还原反应 改变其价态 使原价态的N离子浓度降低 从而可选择性滴定M 这种掩蔽方法称为氧化还原掩蔽法 例如有Fe3 存在时 测定Bi3 等离子的含量 羹嘘再塔郁渺独煤煽障屎拭预搜驳托肥率需卧弊录饼墒渡奖鸳柱剿荫员锗提高配位滴定选择性的方法提高配位滴定选择性的方法 6 4 解蔽作用利用一种试剂 使已被掩蔽剂掩蔽的金属离子释放出来 这一过程称为解蔽 例如测定铜合金的锌和铅 2 应用其他配位剂提高配位滴定的选择性 洱儒窑买颇漏心进栏
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