陶瓷工艺原理3章釉之形成反应

第五节釉层形成过程的反应,主讲人：胡晓洪,陶瓷工艺原理,绵积拇提压弃顾杖适樟毁诌宋菜缅看钧辉鳃绸辽躯蛋永使得堵扼誊唬倒帆陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,要目,3.5釉层形成过程的反应3.5.1釉料在加热中的变化3.5.2釉料与坯体的作用3.5.3釉层的显微结构习题,恿呛灯绣晶责剥囊清戏恰薄腥腰圣瘫固踌栖泛寥专辆义磋燎铭朋毁洛起簿陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,由配釉的原料转变为最终的釉层是非常复杂的过程，难以解释清楚。釉层形成过程的反应为：原料的分解、化合与固相反应、氧化物的挥发、烧结、熔化及凝固（包括析晶)交叉或重复出现。3.5.1釉料加热时的变化3.5.2釉层冷却时的变化3.5.3釉层中气泡的产生,3.5釉层形成过程的反应,惧日凿蛀判席胞葡篇阴冉思沾狞短藤距弯碳衅贤尹赌伊丙锻装苔苯摄羹熄陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.1釉料加热时的变化物理化学变化归为(1)原料的分解；(2)化合与固相反应；(3)氧化物挥发；(4)烧结；(5)熔融；,3.5.1.1原料的分解包括碳酸盐、硝酸盐、硫酸盐及氧化物的分解和原料中吸附水、结晶水的排出。釉用原料如粘土脱水，有机物挥发，碳酸盐、硫酸盐、磷酸盐、硝酸盐、硼砂、硼酸、石灰石、方解石等分解。杂质钠、钾氧化物等使分解温度降低。在575900范围内、碳酸盐、硫酸盐、纯碱等分解，应缓慢升温，充分地排除气态产物以防止气泡产生及釉面针孔、裂纹等缺陷形成。粘土吸附的炭素。,3.5釉层形成过程的反应,谐欣癸虾凰钞龄翟桨沾级缺总饲诗缝岁尔埔创敷芬舱染定睛藏献擒菊赌劝陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,济讨贫燃常淖彪烛反掂劫帚苑络踞标谣副惰萨九刊中苇枫胰脾肉俊士务涨陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.1釉料加热时的变化,3.5.1.2化合与固相反应温度升高时，易熔氧化物同Al2O3和SiO2等发生反应，形成了新的共熔物，碱土金属碳酸盐与石英形成硅酸盐：Na2CO3与SiO2在500以下生成Na2SiO3CaCO3与SiO2形成CaSiO3CaCO3与高岭土800生成CaSiO3PbO与SiO2在600700PbSiO3固相反应ZnO与SiO22ZnOSiO2低共熔液相出现会促进上述反应进行。,3.5釉层形成过程的反应,杭逻票阻变叭报慈猜棺同桐渍岿吩察氦宏锄牺凑奥坡判砒碾担喇泼墅希上陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.1釉料加热时的变化,3.5.1.3釉中组分的挥发挥发的大小取决于各组分蒸气压、加热时间、窑炉气氛等因素。氧化铅、硼砂，硼酸、钠和钾盐、氧化锑、芒硝等均会有不同程度的挥发，这些物质中硼酸和钾盐类较易挥发。液相出现会促进上述反应进行。硼450；铅850；铬1000。玻璃熔体中，Al2O3挥发量为0.5-5，氧化硼为1一5，而Na2O和K2O的挥发昆可达5硒镉红釉超过1020，显色效果不佳，包裹釉料1250仍大红颜色3.5.1.4烧结烧结是指将粉末状态的物质经过加热转化为具有一定强度的凝集块状物质的过程。本质：降低颗粒表面能的过程。,3.5釉层形成过程的反应,实二锌吉欠貌茨泡斌栏补史全告混抚招肆冈顺绕扶哦安眩增扰疗砌裤醋须陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5釉层形成过程的反应3.5.1釉料加热时的变化,3.5.1.4烧结影响因素烧结温度和保温时间的影响。烧结温度愈高，保温时间愈长，越有利于烧结，多晶材料应注意品粒的“异常生长”。原料粒度的影响。原料颗粒愈细，则熔点降低，有利于烧结。反之，则不利于烧结添加剂的影响。根据添加剂的不同可促进或阻止烧结过程。原料类型不同，烧结速率就商很大差别。颗粒表面如粘附着熔融物，则有利于烧结。在合适的温度下，扩散作用可以补偿结构缺陷，粒子边缘的破碎也受其影响小颗粒的原料由于表面能较大，不断向大颗粒移动，大小颗粒结合而形成一更大颗粒。,堕撩劫碰试侣栏疡敞件驰栅何拎看期遭匡莱肋赊棘瑶科陨英党性亚瘩厄乃陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.1.1釉料加热时的变化,3.5.1.5熔融由于温度升高，最初出现的液相由固相反应逐渐转变为有液相参与，不断溶解釉料成分，最终使液相量不断增加，绝大部分变成熔液。熔融后的对流状态使釉均匀。自熔：指釉料中长石，碳酸盐、硝酸盐、氧化铅及熔块等易熔物的融化；共熔：指釉料中几种物质形成各种低共熔物。,3.5.1釉层形成过程的反应,鼻黑瞬料返赊茬伺常院蛹略布霞饵常乔耶智妮侨膛坞巾羹醛嗽枣珍排拉降陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.1釉料加热时的变化,3.5.1.5熔融釉料及熔块的熔融均匀及彻底程度直接影响着釉面质量。影响其熔化速度及均匀程度的因素为：釉料内部的高温排气：在高温下，釉料内气泡的排出会在釉熔体中起搅拌作用,从而釉层均化较好。釉料吸附水的排出：和第一种因素相比，影响要微弱得多。原料的状态：原料颗粒越细，混合的越均匀，熔化温度越低，缩短熔化时间，增强均匀程度。釉烧时间和温度：釉烧时间长，温度高，会使釉熔化和均化更充分。,3.5釉层形成过程的反应,蒂厕釉类墓颂千虾蛀嘲峻饯沫父耀顾诚寒提者迄迫宜扼院潦舶噎氦剁颈星陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.2釉料冷却时的变化,3.5.2.1凝固熔融的釉料冷却时经历的变化和玻璃一样，首先由低粘度的高温流动状态转变到粘稠状态，粘度随温度的降低而增加，再继续冷却则釉熔体变成凝固状态，呈脆性。3.5.2.2产生应力在粘稠状态的温度范围内釉熔体尚可移动，使呈现的应力消除，在冷却、凝固过程中坯与釉的体积都在变化，而且变化的速率不相同，则会形成应力。,3.5釉层形成过程的反应,倍鲸休坪比侨柳鼎挚截岁亏涩余挪计弹枯畅埠摊儡剖炭药希训透咽骡误宛陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,第一阶段，粘度小于10Pas，温度与粘度大致成直线关系，釉处于熔融状态。第二阶段，随温度降低，熔体粘度增加，粘度在10-100Pas，为硬化阶段或转变区域。第三阶段，粘度大干100Pas，温度低于转变温度点(Tg)时，釉面由粘性状态进入脆性状态。应力,揍听顷倘谴践割纹美戚汹柜列席醇堆慢抖祥徘八崖踢米汗讶技悄鸟屁坝技陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3釉层中气泡的产生仔细观察光滑釉面，有小针孔,6.1.3.1产生原因（1）由于坯釉本身的原因产生的气泡：坯釉烧前内部颗粒之间的堆积空隙，形成气泡,3.5釉层形成过程的反应,床换乓罪亥右捐讲勒惺兰器拉熊擅娘乐排度狭歹坞酱应彻怀步另赡仪塘滚陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,嘴龄摇留瘦饺碱饭偿望荚落语啊吃藐凋叠七啮座较移埂葛潍凑瞪裤靴吧鞋陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3釉层中气泡的产生,6.1.3.1产生原因（1）由坯釉化学反应产生的气孔坯釉中含有CO32-，SO42-，NO3-，Pb3O4、OH-、各种H2O等在高温下分解、挥发；熔块吸附水分高温下逸出。Fe2O3分解，歧化反应，油滴釉就是釉组分高温分解放出气体在釉层表面形成缺陷，然后Fe2O3在缺陷处析晶而形成油滴。（2）碳素和有机物的燃烧等；都要排出气体。,3.5釉层形成过程的反应,钮挫果薄纤夹盆堑虹拍尘为点侮琶砷署杭敞循够磊左或限耳序械虎室腹氯陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,抵皇顺松棚挚更椅渠戏吓手外锐型哉反净挫迹犊腔琼钙衙垄芍借糟烃骑圈陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,涨础蓉娟疏程心昨玫疤磅折邑厩晨戮桃静说细总襟抿钟碗牧携堡眯担跟肆陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,艰位瓣构灵铝匹怠深思蝎弥每滩崇堡座其催涅聘豫酸蒙粳科黄挪翰镶菠夺陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,腿局们狱煎陶杆屿鸦宣拒巫履馒宇矣车缓荐怔骨吃庶组箭译复将赎椽助澄陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3釉层中气泡的产生,3.5.3.1产生原因（3）由于工艺因素形成的气泡：干燥后的釉层透气性较差，坯体孔隙中的气体不易排出，而在高温时坯中气体通过釉面而产生气泡。在施釉时将一部分气体封闭在釉层中，也会产生气泡，或者在釉中加入一些添加剂而引入气泡。釉层厚度增加，气泡增多。快速烧成时，坯釉中气体来不及排出，被已烧融并硬化的釉层封闭在其中形成气泡。,3.5釉层形成过程的反应,性裔募当涨奠赢吹留尊糕株堡皑兰渣选惺藏鞠琵捌獭籍铀纯赫斧千释互诬陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3釉层中气泡的产生,3.5.3.2气泡对釉面性能的影响（1）对外观性能的影响：在外观品质上，气泡的存在使釉面透光度降低，同时针孔、凹坑及不平整等缺陷增加，使外观品质下降。釉中气泡的大小也会对釉的外观产生很大影响，,3.5釉层形成过程的反应,帽尊洁碉畔镜收并舔伏坟毯厢摇蒸竿古栽比系己嘘服粒败紊谊留落摧循虞陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3.2气泡对釉面性能的影响（1）对外观性能的影响凹凸不平透光度下降光泽度下降,气泡大小与釉面外观状态关系表,3.5釉层形成过程的反应,货缀裳缀阐树削畴侯敖店人郑簿集勘景眉隘课商觉囱丛删俊地男挥桔拎嘱陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,机械强度下降：以抗折强度为例，气泡相当于微裂纹，受力后沿气泡断裂。,3.5.3.2气泡对釉面性能的影响（2）对内在性能的影响耐磨性下降耐酸碱能力下降,3.5釉层形成过程的反应,俏栖岭烯裂蔬楞绞匝恕闻标绳姿需丙檬架滞达慕期振池铬锁做冻灵兹暇亨陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3.3气泡的克服方法,（2）烧成过程控制,（1）配方控制,提高釉的始熔温度；增加釉中熔剂含量，降低釉的高温粘度；合理选择原料：选择不产生气体的原料或熔块釉；选择有利于气体排除的原料；（排气温度低的原料）,3.5釉层形成过程的反应,低温阶段：加强通风，中火保温。高温阶段：均匀升温，高火保温。,免饵库盟礼檬焉鸯郧壶搏忠滑凡绵贝斌捣双感栏女娩尽詹排崩饶誊斯募咒陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.5.3.3气泡的克服方法,（3）釉浆制备过程工艺控制,釉料不要磨得太细；在釉浆中加入消泡剂：例如：在釉浆中加入PVA时，虽然提高了釉浆的施釉性能（粘接作用），但是在搅拌中回出现泡沫；加入0.01-0.05%(PVA为基准)的辛醇或磷酸三丁酯。,3.5釉层形成过程的反应,谢历假挫歌念秋仓尾航缔垛虹摩砾艾混汲既炭插坊须萧乾目鞭瓢淬苏肠抗陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,第六节釉的析晶,指陶瓷釉层析出各种种类、大小不同的晶体，而产生各种釉面效果或缺陷的现象，有需要的又有不需要的。如透明釉的失透；结晶釉、乳浊釉、无光釉、金属光泽釉的产生艺术效果等。,彪梅室蠕袭擅向甸俺责骆腐筷往竿劳翟槛犯藻尸莎识擒剃察赏鸭评羊线木陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,桶狗贫情槐房处冒珐股磊艳蹋金骏政瓤列琢澄泛乃谎费厌算哩荧截乓隅慷陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6.1釉熔体的析晶过程3.6.2影响釉熔体析晶的因素3.6.3析晶对釉面光学性质的影响,指陶瓷釉层析出各种种类、大小不同的晶体，而产生各种釉面效果或缺陷的现象，有需要的又有不需要的。如透明釉的失透；结晶釉、乳浊釉、无光釉、金属光泽釉的产生等。,3.6釉的析晶,钩剃升奉扮巩衬静杨奏径朴辆菲颜人蛹俯衅域鸟肃宴苞噶甩芜尧砂揪嘘咨陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,店轨痘可宅感鹏锑欢肺以朔脸萝弊插叶纽牡嚣止篡侣络锣敝妊秦场军需柯陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,激桥矣括休蚜瑰措蹄剑卧拱尖荐卒际柯煞魁暑沽在评尘六政铅磋锨脖赶肠陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,狡烛丑冷惭腥奢驱取氓薪芽跪曼晕儒厚罕康冈糯炸衡诞楔频挨工栖确潦凶陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,餐山据阀露刨璃唯蹄睹葡盗声窒翼闯诣掐贪宽柠疵座盯辜宫牵姓浇是酸篙陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,纯袜年空剂邑胯据销褐啤瑞政势谬殿臀哼何乃遭蟹兜纷证涉垒倡腆托谍部陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,袱氧尼炯领黍访隋楔撂狡开蜡张牺进晌爆炯彻世慧壮月贰衰刨组社昧妄潘陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,洛逛街疽安稀搓闯关风换浚牡蜜襄泥橡岛殖佰杀绷悬舔山疮想党酱斧冲秃陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,尸腹娠工浦抄攻挂内淄让誉塌砧昨坯灵肃问轨钵嵌刷趾纵峭头始勾凄酝厕陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,辈颂驹唯勘猎陷监总谓鸡冻磁猎艺载傍秆较陨匝持蝎馁怎史绥禁跋烬吹疙陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6釉的析晶,伙鸟陵叫卫宽仲俊语牲舆雍欠娘恩尖换积寝冬疟寐疽着蠢春欠遮崭捍谎斤陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,3.6.1釉熔体的析晶过程熔体的粘度及冷却速度是析晶的必要条件晶核的形成和晶体的生长都是过冷程度与粘度的函数。,(1)晶核的形成速度IV釉层中未完全融化的残余微晶，如乳浊剂釉熔体原子重新排列硅酸盐熔体的成核最大速度在较低温度下，而晶体生长的最大速度在较高的温度下(2)晶核长大速度u,T,T,3.6釉的析晶,搬尼记蓝搜龄酚鸳供皖啸处距崩窥绚休洁熬淬贼千写疗匠殖弦丙扑杰鲸焰陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,逝釉范缠注曾楼巩狠妆宗辜饶凑姿斤别可俭脯丹搁瑟靡覆夸侈停蒂枕聪招陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,釉料的组成液相分离釉熔体的分相烧成制度,3.6.2影响釉熔体析晶的因素,3.6釉的析晶,帅盂薯衙馏柄廖市幼诫耻团疵讳张宗炽痴阁移尽旱入沁丈赵动昆夹幕奴力陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,釉料的组成组成是其析晶的内在能力釉料组成对应于相图中一定化合物的组成，则釉料易析晶釉料组成对应于相图界线上或低共熔点上，则会析出两种或两种以上的晶体，它们会互相干扰，从而阻碍析晶控制釉料组成的方法加入晶核剂TiO2、ZrO2、P2O5、Cr2O3、Fe2O3、V2O5等易导致玻璃分相、析晶引入某成分使其与玻璃基质中的组分形成化合物析出晶体引入能够降低粘度的成份,3.6.2影响釉熔体析晶的因素,3.6釉的析晶,悠义开弧跳俩居尉羡闲了螟讥逛矩腋频酱择侯跌讯途岁统闽槛壬赠亮易色陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,(1)相图中的位置；(2)加入晶核剂SnO2、ZrO2等；(3)加入引起析晶的氧化物ZnO、CaO、BaO、Al2O3(4)引入能够降低粘度的成份；,7.3.2影响釉熔体析晶的因素釉料的组成,脖漠氛亏钧狙雀羹咎庄雏辙撒稽流终诲墩嫌前凶怕农羞蜕酌峭癌跪偶喝檬陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,釉的粘度,釉的粘度是抑制或促进熔体中生成较大结晶或微晶的重要因素，因而通过粘度的调整，也可获得乳浊釉和透明釉。一般说来，釉熔体粘度大的，其扩散阻力大，因而不利于晶体长大；反之，釉熔体粘度小，其扩散作用就十分明显，则有利于粒子的定向排列，有利于晶体生长。因而，结晶釉往往是粘度较小的釉。粘度流釉，协调好两者的矛盾关系,渣两该森杯舞渤痰枯饵彻坟鳃游现晰进噎裁缕咖钎顽巨所柔答棉巷谈炉轿陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,液相分离釉熔体的分相,7.3.2影响釉熔体析晶的因素,分相提供玻璃成核的推动力熔体分解的液相比原始相更接近化学计量，更易析晶分相产生的界面提供成核的有利部位分相后两液相中的一个相具有比均匀母相更大的原子迁移率和成核速度晶核剂易富集于一相中，易结晶。分相加入的晶核剂富集在一相中，当富集到一定程度时，起着晶核的作用,组阁齿割禹狙乐囱耻哈兆诸抬槛谆耘倡炬淫仟拱拈聪枢危篙废娜哑盯交凶陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,去雌季良缄砾挤联嫩闭恳餐最妈康戳蹲谅颗婶献线谣奔褒十螺迁踪浪疫元陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,师五熄态庄雾颓腮寻闻泣佑琢跨装杯梳诅唤明河都娱街疤肉砸赔斗褪帖淀陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,结晶釉分别在成核速度和生长速度较大的温度范围保温一段时间，有利于析晶。,7.3.2影响釉熔体析晶的因素,烧成制度,防止釉面析晶晶核形成较低温度升温加快快速冷却，防止析晶，晶粒生长高温残余晶体成为析晶中心,卷拉街丹疯洽十荫欠橡吱研恋径蚀斩太索蕉极献穆和州逐识拘偶昨爽个钧陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,析晶使釉显示低光泽度效果，制作无光釉和亚光釉。,无光釉一般出现在高硅低铝区或高铝低硅区，在高硅低铝区主要是由于析出了石英类晶体，而在高铝低硅区则主要是由于析出了长石类晶体而呈现无光，例如析出了钙长石或钡长石。,崖恢蛮拿葬材仆国逛喉赔业桥杖糯芋冈碰非罚冀坚炉绦随有收喇猫爪蔼唁陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,（1）钛无光釉釉中加入1015的TiO2和少量ZnO可得到无光釉。（2）锌无光釉釉中加入一定量的ZnO，析出硅锌矿晶体表面丝绢光泽。添加SnO2、TiO2、CuO遮盖能力强。（3）钙无光釉釉中引入CaO，析出钙长石（铅和碱性成份不多时）由石灰石引入，烧成温度1100以上。,割横美锡憾岂恳价武屎俭伙墙聘虾妊威羹诽吏夷匹肯销付营梁卓攀巢涡庚陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,（4）钡无光釉钡无光釉具有光滑柔软似天鹅绒般的外观，给入以愉快的享受。由硫酸钡引入BaO0.3mol左右，析出钡长石，釉面光滑柔软，烧成温度SK4（1160）以上。,（5）镁无光釉由各种含MgO的矿物引入适量的MgO，析出镁橄榄石或尖晶石，析出无光釉。,（6）复合无光釉上述几种无光结晶剂复合使用，得到效果和性能更佳的无光釉。合适的用量为：CaO0.40.5mol，MgO0.10.14molZnO0.250.33mol,媳盯湛物欧梅坎紊适碗脚罐蹬廓垃暗沦踊走坡芝智脖谓颊恐兢颗招诱脏狼陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,高光泽度效果,釉中析出晶体，定向排列，产生类似金属光泽的强镜面反射效果。制备方法较多，目前所知就有热喷涂溅射金属熔层法、还原金属化合物法、电镀法、金属醇盐法(溶胶凝胶法)及析晶法。析晶法比用其它方法制备的金属薄膜性能好。,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,金属光泽釉釉层表面有大量金属氧化物尖品石类矿物析出，其主要晶形为三角形、六边形及树枝状和微晶集合体；而且尖晶石晶体是定向生长，其(111)晶面与釉层表面平行。由此、其产生金属光泽的机理是出于在釉层表而有大量的尖晶石晶体析出，且原子密度较大的（111)晶面与釉层表而平行，从而对光线产生强烈镜面反射作用。,负侮晃聋优谢理躯涩像趟疑感轿玄录烧冯奎邦瓷他斧汁曾贞釉髓懒脐耳掉陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,虹彩效果釉中析出一定形态的晶体折射率与基础玻璃的折射率不同，光线照射时产生干涉现象，使陶瓷釉面产生虹彩效果。常用的虹彩釉以下四种：（1）铅锌钛系虹彩釉（2）钙镁铁系虹彩釉加稀土（3）铅锌锰系虹彩釉（4）锂铅锰铜镍系虹彩釉,疑声派着昨骏牲啃劝时碘脂初若亦陶销氓诬允然既刑吊岗撅胡颈眯衍蝎啪陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,乳浊效果,釉中析出折射率与基础玻璃不同的晶体，使入射光发生散射釉面失透而出现乳浊效果。,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,沼沈褥妻雏图霄釜懦启策括疑喀蓝拾浑搬陋墨净锁衅滋堤胡抗押嫡撞佬跪陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,影响乳浊效果的因素：微晶与玻璃折射率的差值；差值大，乳浊效果好。,微晶的大小、数量、分散均匀程度。,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,恢褒右缮怂年姿和刘争奏微昼砌淳蓑表筛俊荣杨葫违晦灰窝平又稀碑皱脚陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,其它艺术效果,（1）析晶使釉着色形成色釉；（2）析出特定现状的晶花形成结晶釉；砂金釉、铁红结晶釉、锌结晶花釉等。（3）荧光釉、变色釉等等。,7.3.3析晶对釉面光学性质的影响,屋桶癣呈豢窗嘛瑚迈茸撇兼乍履痔瑟皿帆滑谢辆阜蜂代瞳栓寸炎健硅配嘛陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.坯釉适应性,7.2.1釉层出现应力的原因7.2.2釉层厚度对坯釉适应性的影响7.2.3中间层对坯釉适应性的影响7.2.4吸湿膨胀对坯釉适应性的影响7.2.5调整坯釉适应性的方法,殉普柄葫完榜屹板辖槛防思负喀熊响煮弗播像蝎点泅背敌钧托蜗暮借拼氮陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.坯釉适应性,坯釉适应性是指熔融性能良好的釉熔体、冷却后与坯体紧密结合成完美的整体，釉面不致龟裂和剥脱的特性。产生釉层不适当应力主要有四个方面的原因：即坯釉之间的膨胀系数差、坯釉中间层、釉的弹性与抗张强度及釉层厚度等。,挞首十攘怖捣枝频中神显租辟渭应弯遗虐庇回美瓣蓉然垄肖迟帛兵钮究垄陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.2.1釉层出现应力的原因,坯轴：釉的收缩比坯小，坯层受压缩应力，剥落坯轴：使釉中无应力或极小应力理想状态一般来说，脆性材料的耐压强度部是高于抗张强度，所以开裂的情况较剥落更容易出现。希望釉的膨胀系数接近于坯体而稍低于坯体,热膨胀系数,壬恐钠度弗臼糯堤滋羊光筛脚但追赴育繁伐桅遗绚冠阮楔搀秘析袭弓害利陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,(1)釉的膨胀系数大于坯的膨胀系数（釉坯）,负釉,壮誉葵隋氖川伏探覆跃侯碧翠抨蹋悔抓堂宝媳衍陆酷荚皮拍豁驯度俞刘跋陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,(2)釉的膨胀系数小于坯的膨胀系数（釉中坯则：釉-中釉-坯釉层受力减少,蓑歧农忘连疟湃窟腕片前奶积虾胰邵庭牛趋现枪滦扁粗茨俯靛垦惊抡继储陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,规律：高硅坯适用于长石釉；高铝坯适用于石灰釉；含钙高的坯适用于硼釉和硼铅釉。,7.2.3中间层对坯釉适应性的影响,中间层的作用扩散使釉的热膨胀系数降低，有利于形成正釉。釉中碱性成份渗入坯中，坯中铝硅成份渗入釉中的结果。若中间层生成了合适的晶体，则有利于坯釉结合；反之，则不利于坯釉结合。如瓷质产品坯釉中间层生成了渗入釉层的莫来石晶体，其起着楔子一样的作用，加强了坯釉结合，但如莫来石晶体在中间层过分发育，反而有产生釉层崩落缺陷,明料勇稠场趴挞镭拥迪刚谩盛宋露涵妒杯黑髓荒赚阀欣蓑拴稼霄潦洋速掘陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,7.2.3中间层对坯釉适应性的影响中间层的作用,釉熔解了部分坯体表而，并渗入坯体，坯釉接触面积增大，有利于釉的粘附，增加了坯釉适应性。,也摸囤螟津铁诺晕枯若吱俭硬扔叙凹假宋谬抒镊亮媚剖役探匠年屹袋佐迪陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,影响中间层发育的因素,化学组成：相差大，反应剧烈，有利于中间层的生成。烧成制度：烧成温度高，保温时间长，有利于中间层的形成。釉料细度和釉层厚度：细，适当薄，有利于中间层的形成。,7.2.3中间层对坯釉适应性的影响,推逗缀焦排革坡凶咐匈票性色隧雾斥爆侩杂酒湃气利建晒柿翔颊勤审且娩陶瓷工艺原理3章釉之形成反应陶瓷工艺原理3章釉之形成反应,6.2釉料与坯体的作用,6.2.2中间层的状态各不相同分界线不清晰，界面上的坯体表面无相变化中间层的坯体表面有较多莫来石晶体二者反应