proe第8章 特征操作工具.ppt

复制8-1、第8章特征操作工具、8-2镜像、8-3阵列、8-4比例模型、基本要求、8-5曲面编辑工具、8-7实体化工具、8-9摘要、8-6曲面加厚、 复制特征实例、复制工具分为四种类型：从“编辑”(edit)菜单的特征操作菜单中复制新参照、复制相同参照、复制镜像和移动复制。各种复制的对比，各种复制特征的比较，源特征，平移复制，新参照复制，镜像特征，镜像复制，旋转轴，复制相同参照，旋转复制，特征复制步骤，1。“选择命令”(select command)菜单“选择”(selection)菜单“编辑/处理特征”(edit /32，在“特征”菜单中选择“复制”命令后，将出现“复制特征”菜单。复制方法、选取方法、特征关系、特征菜单、复制菜单、复制特征菜单、复制特征菜单、复制方法复制方法定义复制类型。新参照：您可以建立特征的新参照例证，并选取不同的参照来取代原始特征参照以放置新特征。参照是特征的草绘平面、草绘平面放置方向参照和标注尺寸的两个参照。相同参照：为复制特征和原始特征具有相同参照的特征创建相同参照复制。镜射：根据复制的特征和原始特征选取的镜射面建立特征的镜射复制。移动：建立新特征的移动复制，或移动复制有两种模式：平移复制和旋转复制，您可以在特定方向移动复制，或绕轴旋转复制。“复制特征”(copy feature)菜单的“特征范围特征范围”(feature range features range)部分选取：在模型中选取要复制的特征。所有特征：复制整个模型的所有特征。其他模型：选取要从其他3d模型复制的特征。此命令仅在新的“复制参照”方法中可用。其他版本：选择要从同一三维模型的其他版本中复制的要素。此命令仅适用于新的“复制参照”和相同的“复制参照”方法。“复制特征”(copy features)菜单、“独立：复制特征和原始特征之间没有关联关系，其尺寸独立于原始特征的尺寸，可在复制时修改。从属：复制特征和原始特征之间存在关联关系，两个特征的形状尺寸不独立，修改原始特征的实体尺寸会同时更改复制特征的相应尺寸。复制特征步骤，2。在“复制源要素选择”菜单中，将显示“完成设置”命令，“选择要素”菜单，然后选择要素选择方法。选取：在模型中选取要复制的来源特征。图层：依图层选取要复制的来源特征。范围：根据要素序号的范围选择要复制的要素。选择特征选取方法后，消息区域显示消息“选取要复制的特征”，在模型区域选择要复制的特征后，可按住Ctrl键并依次选取多个特征，然后选择“特征选取”菜单“完成”命令完成原始特征选取。复制特征步骤，3。完成定义新特征尺寸的步骤2后，将出现“组元素”(group elements菜单变成组可变尺寸菜单，如图所示。从群组可变尺寸选单(包括形状尺寸和位置尺寸)中选取要修改的尺寸时，新尺寸会应用至复制特征。从菜单中选取尺寸后，光标移动到尺寸标签时，该尺寸在模型中以紫色加亮显示。选择“完成”(done)命令，然后在消息区域提示输入尺寸时，输入与图形区域相对应的新值。此尺寸加亮模型区域的紫色，完成所有尺寸定义后，返回到“组元素”(group elements)对话框。复制特征步骤，4 .在“复制完成”组“元素”对话框中，单击按钮以完成特征复制。复制的特定操作步骤基本上相似，但与新参考复制最麻烦的地方略有不同。以下是通过实例复制特征的过程：通过复制特征实例、根据给定模型创建图标模型、8-2镜像特征和复制功能已有镜像复制，但操作起来很麻烦，Pro/EWildfire4.0改进了镜像复制功能，允许将镜像工具作为单独的工具使用，镜像工具放置在特征编辑工具栏上，如图所示。在模型上选取要镜像的特征，然后选择菜单“编辑/镜像”(edit/mirror)命令或选择“编辑”(edit)、“镜像”工具、“镜像平面”收集器、“编辑”工具栏、“镜像”操控板、“8-3阵列”工具、阵列特征的过程、尺寸阵列和阵列用于一次创建一个特征的多个副本。阵列特征根据不同的规则创建新特征，每个规则都是原始特征的实例。样式可以分为矩形样式、环形样式和填满样式等。每个阵列化的特征称为原始特征的例证。方向阵列、轴阵列、填充阵列、表阵列、参照阵列、曲线阵列、阵列特征的过程、1。选取原始特征从模型树或图形区域中选取要阵列的原始特征。2.命令选择有三种选择阵列命令的方法。您可以使用全部阵列管控面板。选择菜单“编辑”/“排列”命令。选取“编辑特征”工具栏工具。在图形区域或模型树中右键单击，然后从快捷菜单中选择“阵列”(pattern)命令。阵列方法列表，阵列方向1，阵列方向参照，阵列方向2，实例数，阵列特征的过程，3。选取阵列特征属性根据创建的特征和原始特征的尺寸关系，可将阵列分为三种类型，并可通过选择操控板选项命令在出现的“选项”(options)上滑面板中进行设置。-相同：生成的阵列中的每个特征和原始特征放置在完全相同的曲面上。下图中显示的孔大小相同但深度不同时，只能使用自适应或常规属性进行阵列。自适应：可以更改阵列特征的大小、放置特性和参考面。建立的阵列特征不会与其他特征的边界相交。一般：如果对阵列特征不要求，则可以变更大小、放置性质和参考面。建立的阵列特征可以与其他特征的边相交。建议使用系统默认选项“常规”(general)。阵列特征的过程，“选项”上滑面板，孔阵列实例，3。阵列方法操控板上的阵列方法列表中选取相应的阵列方法。阵列方法列表以7种方式提供，如下图所示。如果选取不同形状的阵列，则会出现不同形状的阵列操控板。图案列表，图案方法，4 .设定阵列参数上方的选项后，您可以在图标板上定义阵列的参数。5.单击“完成阵列”操控板按钮以完成阵列特征。阵列、尺寸：您可以选取尺寸作为参照、建立矩形阵列或环形阵列、建立矩形阵列(如果参照尺寸是线性尺寸)，以及建立环形阵列(如果参照尺寸是角度尺寸)。方向(orientation):您只能建立矩形阵列，方法是选取方向作为参照，并设定选定方向上阵列特征的数量和距离。轴：通过选取用作旋转轴的轴或立方体的直边界作为参照，可设置阵列特征的数量和阵列的每个实例之间的角度，此选项仅适用于环形阵列。填充(fill):通过选取或草绘平面图形作为参照，在图形范围内按恒定规则阵列多个实例。表：通过使用阵列表并为每个阵列实例指定尺寸值来创建阵列。请参阅：参照其他阵列来建立阵列。曲线：通过指定阵列成员数或阵列成员间的距离沿草绘曲线创建阵列。对于、尺寸阵列、尺寸阵列，可以在两个方向上设置实例数和尺寸参照，每个方向后都有实例数编辑器和参照收集器，如下图所示。您可以在例证数编辑器中输入该阵列方向的例证数，然后按一下参照收集器以从模型中选取参照。您可以在选取导引件尺寸时显示的编辑方块中输入例证之间的间距，或按一下尺寸上滑面板中的尺寸指令来设定例证之间的间距。在尺寸阵列实例1(给定模型)中创建2行3列矩形阵列，列间距为70，行间距为60。在行方向上，小圆柱下一个实例比上一个实例增加20，在列方向上，小圆柱下一个实例比上一个实例底面直径增加10。尺寸阵列实例2、在给定模型中创建每个实例为20度的环阵列。总共有4个实例。每个实例比以前实例的高度增加10，直径减小3。方向阵列、方向阵列主要用于完成矩形阵列，当从操控板的阵列方法列表中选取方向选项时，操控板显示为下图。方向参照收集器、反向方向、实例数、实例间距和操控板可用于设置两个方向的参照、实例间距和阵列方向。方向参照可以选取平面、基准或模型边界，选取参照或基准时，阵列方向指向平面或基准的正直线方向，选取操控板工具时，阵列方向会反向。方向阵列、第二方向、实例位置、实例间距、阵列的第一方向以紫色箭头显示，第二方向以黄色箭头显示，在实例出现的位置出现黑色实心圆，并出现阵列间距尺寸，如图所示。您可以按一下、1向参照、1向参照、2向参照、例证间距和方向参照收集器来启动收集器，选取模型中的方向参照，在例证数编辑方块中输入例证数，然后在例证间距组合方块中输入例证间距。设定完成后，您可以按一下图标板按钮来完成阵列特征。方向阵列实例，使用给定模型创建贴花阵列。轴阵列、轴阵列主要用于环形阵列，当从操控板的阵列方法列表中选取轴选项时，操控板出现，如图所示。轴收集器、反向方向、实例数、径向实例间距、轴阵列的两个方向、第一个方向是圆周方向，第二个方向是半径方向。第一方向的阵列有两种方法，实例数实例角度方法和实例数实例总封装角度方法，这两种方法可通过选取操控板工具进行切换。第一个方向是指示旋转方向的相切方向，以紫色箭头显示，可通过选取操控板工具将其反向。第二个方向是径向的，显示为黄色箭头，指示远离轴心的方向，要将阵列方向缩小到半径，可以在“实例间距”编辑框中输入负值。黄色箭头指向轴心。实例角度、实例角度、径向实例数、轴阵列实例和给定模型创建图片阵列。在指定范围内阵列原始特征，您可以选取草绘为阵列填充、阵列填充、阵列填充范围的封闭平面曲线，或直接草绘为阵列填充范围的封闭曲线。从操控板上的按阵列列表中选择填充选项，如下所示：曲线收集器、径向间距、填充方法、实例间距、填充边界边距、旋转角度、填充阵列、填充阵列必须在阵列特征之前创建封闭平面图形作为填充范围，并且可以在单独草绘或阵列特征时使用草绘工具草绘。如果已经草绘了范围曲线，则可以激活操控板上的“填充范围”(fill region)收集器，然后在图形区域中选取曲线。如果尚未草绘范围曲线，请选取操控板参照命令，打开上滑面板，然后单击定义按钮草绘范围曲线，就像草绘截面一样。填充样式有六种填充方法：正方形、菱形、三角形、圆、曲线和螺旋，使用不同的填充方法时，实例之间配置的图形会有所不同。填充方法可以从仪表板填充方法列表中选择。填充样式、填充边界、源特征、矩形、菱形、三角形、圆形、曲线、螺旋、填充样式、矩形：在实例之间填充矩形范围，并将每个矩形边长度输入到实例间距的操控板“实例间距”编辑框中。菱形：使用菱形图案填充实例，每个菱形边的长度为实例间距。在仪表板的“实例间距”编辑框中输入。将矩形填充的旋转角度设置为45度，使其成为菱形图案填充。三角形：范围填充为实例之间的正三角形，三角形边长度填充为实例间距的仪表板“实例间距”编辑框中。圆：使用圆弧方式填充实例之间的范围，圆弧的中心是原始特征的中心，在“实例间距”编辑框中输入圆周距离，在“径向间距”编辑框中输入实例径向间距。曲线：实体沿着曲线边界排列，然后在实体间距编辑方块中输入实体的距离。螺旋：实例使用螺旋阵列填充范围，在“实例间距”编辑框中输入圆周距离，在“发射间距”编辑框中输入实例发射间距。使用“填充阵列”、“填充边界距离”编辑框调整填充范围，向外延伸负实例填充范围边界，输入正值向内缩小填充范围。实际填满范围边界和选取的边界距离是输入值。“旋转角度”编辑框输入整个阵列的旋转角度，输入正值围绕源特征的中心逆时针旋转整个阵列，或输入负值围绕原始特征的中心顺时针旋转整个阵列。填充边界距离为正，填充边界距离为负，旋转角度为负，填充阵列从“模型树”中选取阵列，然后从右键单击快捷菜单中选择“删除阵列”(delete pattern)命令，将删除阵列实例，但保留原始特征，根据给定的特征，沿给定的基准曲线以50的间隔排列小圆孔。表阵列、表阵列是更特殊的阵列，它根据源特征中选定的索引尺寸在表中设置这些尺寸的相应数值来创建实例。每个实例的位置和大小无需按规则更改，可以单独设置。选择阵列命令后，如果从操控板的“按阵列”列表中选择“表”，则会出现表阵列操控板。如果您选取、表格尺寸收集器、活动表格清单、表格阵列或表格阵列，图标板上的表格尺寸收集器会启动，并从图形区域的来源特征中选取要在新例证中变更的尺寸作为索引尺寸。如果要选取多个表尺寸，可在图形区域中选取时按住键盘Ctrl键。选择仪表板“表大小”菜单时，将显示一个表大小列表，其中列出了所有选定索引的大小。表格大小清单、表格大小、表格大小、表格大小、表格阵列、选取的索引尺寸红色反白、索引尺寸，您可以从表格大小(table size)上滑面板的表格大小清单中选取相应的尺寸，然后从滑鼠右键快捷选单中选择移除(remove)指令，选取完表格大小后，活动表格清单会自动列出表格1。如果配置了多个表格，则可以选择表格并将其设置为活动表格。随后，“编辑”(edit)按钮可用，单击“编辑”(edit)按钮将打开pro/TABLE1窗口。表格排列，窗户，和一起！行的行为注释行，idx列是索引列，该行下将实例序列号设置为整数，序列号不能重复，但可以不连续。如果实例的尺寸与源特征的尺寸相同，则在索引尺寸列的相应行中输入实例的相应尺寸。* .实例尺寸、注释区域、表阵列实例和指定模型，使用填充样式创建贴花模型。、参照阵列和参照阵列仅用于参照原始特征创建的特征。此时，特征将根据原始特征的阵列进行阵列。对阵列底面上的小圆柱倒角的结果如下图所示。参照阵列，选取小圆柱的倒角，然后从右键单击快捷菜单中选择阵列命令。仪表板如图所示。图标板上的阵列方法清单中只能使用参照，请选取图标板验证工具来完成阵列，并倒角每个最初阵列化的圆柱体。参照阵列的原始特征必须参照先前阵列的原始特征来建立。参照阵列操控板、参照阵列结果、曲线阵列、曲线阵列用于沿曲线创建阵列，阵列实例位于曲线上。选取