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文档简介

1、半导体器件是用半导体资料制成的电子器件。常用的半导体器件有二极管、三极管、场效应晶体管等。半导体器件是构成各种电子电路最根本的元件。7.1.1 PN结结热激发产生自在电子和空穴室温下,由于热运动少数价电子挣脱共价键的束缚成为自在电子,同时在共价键中留下一个空位这个空位称为空穴。失去价电子的原子成为正离子,就好象空穴带正电荷一样。在电子技术中,将空穴看成带正电荷的载流子。每个原子周围有四个相邻的原子,原子之间经过共价键严密结合在一同。两个相邻原子共用一对电子。空穴运动与自在电子的运动不同有了空穴,临近共价键中的价电子很容易过来填补这个空穴,这样空穴便转移到临近共价键中。新的空穴又会被临近的价电子

2、填补。带负电荷的价电子依次填补空穴的运动,从效果上看,相当于带正电荷的空穴作相反方向的运动。本征半导体中有两种载流子:带负电荷的自在电子和带正电荷的空穴热激发产生的自在电子和空穴是成对出现的,电子和空穴又能够重新结合而成对消逝,称为复合。在一定温度下自在电子和空穴维持一定的浓度。在纯真半导体中掺入某些微量杂质,其导电才干将大大加强。在纯真半导体硅或锗中掺入磷、砷等5价元素,由于这类元素的原子最外层有5个价电子,故在构成的共价键构造中,由于存在多余的价电子而产生大量自在电子,这种半导体主要靠自在电子导电,称为电子半导体或N型半导体,其中自在电子为多数载流子,热激发构成的空穴为少数载流子。自在电子

3、 多数载流子简称多子空 穴少数载流子简称少子在纯真半导体硅或锗中掺入硼、铝等3价元素,由于这类元素的原子最外层只需3个价电子,故在构成的共价键构造中,由于短少价电子而构成大量空穴,这类掺杂后的半导体其导电作用主要靠空穴运动,称为空穴半导体或P型半导体,其中空穴为多数载流子,热激发构成的自在电子是少数载流子。自在电子 多数载流子简称多子空 穴少数载流子简称少子P 型半导体N 型半导体无论是P型半导体还是N型半导体都是中性的,对外不显电性。掺入的杂质元素的浓度越高,多数载流子的数量越多。少数载流子是热激发而产生的,其数量的多少决议于温度。u半导体中载流子有分散运动和漂移运动两种运动方式。载流子在电

4、场作用下的定向运动称为漂移运动。在半导体中,假设载流子浓度分布不均匀,由于浓度差,载流子将会从浓度高的区域向浓度低的区域运动,这种运动称为分散运动。u将一块半导体的一侧掺杂成P型半导体,另一侧掺杂成N型半导体,在两种半导体的交界面处将构成一个特殊的薄层 PN结。P 区 空间电荷区 N 区PN 结及其内电场内电场方向P 区 N 区载流子的扩散运动 多子分散 构成空间电荷区产生内电场 少子漂移 分散与漂移到达动态平衡构成一定宽度的PN结u外加正向电压也叫正向偏置u外加电场与内电场方向相反,内电场减弱,分散运动大大超越漂移运动,N区电子不断分散到P区,P区空穴不断分散到N区,构成较大的正向电流,这时

5、称PN结处于导通形状。空间电荷区变窄E R内电场外电场PNIFE R内电场外电场空间电荷区变宽PNIRu外加反向电压也叫反向偏置u外加电场与内电场方向一样,加强了内电场,多子分散难以进展,少子在电场作用下构成反向电流 IR,由于是少子漂移运动产生的, IR很小,这时称PN结处于截止形状。7.1.2 半导体二极管半导体二极管一个PN结加上相应的电极引线并用管壳封装起来,就构成了半导体二极管,简称二极管。 半导体二极管按其构造不同可分为点接触型和面接触型两类。 点接触型二极管PN结面积很小,结电容很小,多用于高频检涉及脉冲数字电路中的开关元件。 面接触型二极管PN结面积大,结电容也小,多用在低频整

6、流电路中。阳极 阴极-60 -40 -200.4 0.8 U /V40302010I /mA0正向特性反向特性外加正向电压较小时,外电场缺乏以抑制内电场对多子分散的阻力,PN结仍处于截止形状 。正向电压大于死区电压后,正向电流 随着正向电压增大迅速上升。通常死区电压硅管约为0.5V,锗管约为0.2V。外加反向电压时, PN结处于截止形状,反向电流 很小。 反向电压大于击穿电压时,反向电流急剧添加。1最大整流电流IF:指管子长期运转时,允许经过的最大正向平均电流。2反向击穿电压UB:指管子反向击穿时的电压值。3最大反向任务电压UDRM:二极管运转时允许接受的最大反向电压约为UB 的一半。4反向电

7、流IR:指管子未击穿时的反向电流,其值越小,那么管子的单导游电性越好。5最高任务频率fm:主要取决于PN结结电容的大小。7.1.3 稳压管稳压管稳压管是一种用特殊工艺制造的半导体二极管,稳压管的稳定电压就是反向击穿电压。稳压管的稳压作用在于:电流增量很大,只引起很小的电压变化。阳极 阴极稳压管的主要参数:1稳定电压UZ。反向击穿后稳定任务的电压。2稳定电流IZ。任务电压等于稳定电压时的电流。3动态电阻rZ。稳定任务范围内,管子两端电压的变化量与相应电流的变化量之比。即:rZ=UZ/IZ4额定功率PZ和最大稳定电流IZM。额定功率PZ是在稳压管允许结温下的最大功率损耗。最大稳定电流IZM是指稳压

8、管允许经过的最大电流。它们之间的关系是: PZ=UZIZM7.2.1 三极管的构造及类型三极管的构造及类型半导体三极管是由两个背靠背的PN构呵斥的。在任务过程中,两种载流子电子和空穴都参与导电,故又称为双极型晶体管,简称晶体管或三极管。 两个PN结,把半导体分成三个区域。这三个区域的陈列,可以是N-P-N,也可以是P-N-P。因此,三极管有两种类型:NPN型和PNP型。集电结 B发射结NPN集电区基区发射区CCEEB集电结 B发射结PNPCCEEB集电区基区发射区NPN型PNP型箭头方向表示发射结加正向电压时的电流方向7.2.2 电流分配和电流放大作用电流分配和电流放大作用1产生放大作用的条件

9、 内部:a发射区杂质浓度基区集电区 b基区很薄 外部:发射结正偏,集电结反偏NPNICIEIBRBUBBUCCRC2三极管内部载流子的传输过程a发射区向基区注入电子,构成发射极电流 iEb电子在基区中的分散与复合,构成基极电流 iBc集电区搜集分散过来的电子,构成集电极电流 iC3电流分配关系: iE = iC + iB 实验阐明IC比IB大数十至数百倍,因此有。IB虽然很小,但对IC有控制造用,IC随IB的改动而改动,即基极电流较小的变化可以引起集电极电流较大的变化,阐明基极电流对集电极具有小量控制大量的作用,这就是三极管的电流放大作用。7.2.3 三极管的特性曲线三极管的特性曲线ICIBR

10、BUBBUCCRCVVAmA +UCE +UBE0.4 0.8 UBE /V40302010IB /mA0UCE1V测量三极管特性的实验电路 三极管的输入特性曲线与二极管类似4321IB=003 6 9 12 UCE /V20A40A60A80A100A饱和区截止区放 大 区IC /mA1放大区:发射极正向偏置,集电结反向偏置放大区:发射极正向偏置,集电结反向偏置BECEBEBuuui, 0, 0BCii0, 0CBiiBCii2截止区:发射结反向偏置,集电结反向偏置截止区:发射结反向偏置,集电结反向偏置 3饱和区:发射结正向偏置,集电结正向偏置饱和区:发射结正向偏置,集电结正向偏置 此时此时 7.2.4 三极管的主要参数三极管的主要参数1、电流放大系数、电流放大系数:iC= iB2、极间反向电流、极间反向电流iCBO、iCEO:iCEO=1+ iCBO3、极限参数、

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