完整史上最全的半导体材料工艺设备汇总,推荐文档

1、小编为您解读半导体生产过程中的主要设备概况.1、单晶炉设备名称：单晶炉.设备功能：熔融半导体材料,拉单晶,为后续半导体器件制造,提供单晶体的半导体晶坯.主要企业品牌：国际：德国PVA TePla AG公司、日本 Ferrotec 公司、美国 QUANTUM DESIGN司、德国 Gero公司、美国 KAYEX 司.国内：北京京运通、七星华创、北京京仪世纪、河北晶龙阳光、西安理工晶科、常州华盛天龙、上海汉虹、 西安华德、中国电子科技集团第四十八所、上海申和热磁、上虞晶盛、晋江耐特克、宁夏晶阳、常州江南、 合肥科晶材料技术、沈阳科仪公司.2、气相外延炉设备名称：气相外延炉.设备功能：为气相外延生长

2、提供特定的工艺环境,实现在单晶上,生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体,为单晶沉底实现功能化做根底准备.气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺,其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续,而且与衬底的晶向保持对应的关系.主要企业品牌：国际：美国CVD Equipment公司、美国 GT公司、法国 Soitec公司、法国 AS公司、美国 ProtoFlex 公司、 美国科特莱思科Kurt J.Lesker 公司、美国 Applied Materials 公司.国内：中国电子科技集团第四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术、北京金盛微纳、济南力冠电子科技.3、分子束外延系统( MBE Molecular

3、Beam Epitaxy System )设备名称：分子束外延系统.设备功能：分子束外延系统,提供在沉底外表按特定生长薄膜的工艺设备；分子束外延工艺,是一种制备单晶薄膜的技术,它是在适当的衬底与适宜的条件下,沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜.主要企业品牌：国际：法国Riber公司、美国 Veeco公司、芬兰 DCA Instruments 公司、美国SVAssociates 公司、美国 NB峪司、德国 Omicron 公司、德国 MBE-Komponenten公司、英国 Oxford Applied Research OAR 公司, 国内：沈阳中科仪器、北京汇德信科技、绍兴匡泰仪器设备、沈阳科友

4、真空技术有限公司.4、氧化炉VDD设备名称：氧化炉.设备功能：为半导体材料进行氧化处理,提供要求的氧化气氛,实现半导体预期设计的氧化处理过程,是 半导体加工过程的不可缺少的一个环节.主要企业品牌：国际：英国 Thermco公司、德国 Centrothermthermal solutions GmbH Co.KG 公司.国内：北京七星华创、青岛福润德、中国电子科技集团第四十八所、青岛旭光仪表设备、中国电 子科技集团第四十五所.5、低压化学气相淀积系统( LPCVD Low Pressure Chemical Vapor Deposition System 设备名称：低压化学气相淀积系统设备功能：

5、把含有构成薄膜元素的气态反响剂或液态反响剂的蒸气及反响所需其它气体引入LPCVD备的反响室,在衬底外表发生化学反响生成薄膜.主要企业品牌：国际：日本日立国际电气公司、国内：上海驰舰半导体科技、中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂.6、等离子体增强化学气相淀积系统( PECVD Plasma Enhanced CVD)设备名称：等离子体增强化学气相淀积系统设备功能：在沉积室利用辉光放电,使其电离后在衬底上进行化学反响,沉积半导体薄膜材料.主要企业(品牌)：国际：美国Proto Flex 公司、日本Tokki公司、日本岛津公司、美国泛林半导体( Lam R

6、esearch )公司、 荷兰ASM®际公司.国内：中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂.7、磁控溅射台(MagnetronSputter Apparatus )设备名称：磁控溅射台.设备功能：通过二极溅射中一个平行于靶外表的封闭磁场,和靶外表上形成的正交电磁场,把二次电子束 缚在靶外表特定区域,实现高离子密度和高能量的电离,把靶原子或分子高速率溅射沉积在基片上形成薄 膜.主要企业品牌：国际：美国PVD公司、美国 Vaportech公司、美国 AMA讼司、荷兰 Hauzer公司、英国Teer公司、瑞士 P latit 公司、瑞士 Balzers 公司、德国 Cemeco

7、n公司.国内：北京仪器厂、沈阳中科仪器、成都南光实业股份、中国电子科技集团第四十八所、科睿设 备、上海机械厂.8、化学机械抛光机(CMP Chemical Mechanical Planarization )设备名称：化学机械抛光机设备功能：通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀"的综合作用,对被研磨体半导体进行研磨抛光主要企业品牌：国际：美国Applied Materials 公司、美国诺发系统公司、美国Rtec公司、.国内：兰州兰新高科技产业股份、爱立特微电子.9、光刻机(Stepper , Scanner)设备名称：光刻机.设备功能：在半导体基材上硅片外表匀胶,将掩模版上的图形转移光

8、刻胶上,把器件或电路结构临时“复制到硅片上.主要企业品牌：国际：荷兰阿斯麦ASML公司、美国泛林半导体公司、日本尼康公司、日本 Canon公司、美国AB"司、德国德国SUS织司、美国MYCR公司.国内：中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所、上海机械厂、成都南光实业股份有限公司10、反响离子刻蚀系统( RIE, Reactive Ion Etch System )设备名称：反响离子刻蚀系统.设备功能：.平板电极间施加高频电压,产生数百微米厚的离子层,放入式样,离子高速撞击式样,实现 化学反响刻蚀和物理撞击,实现半导体的加工成型.主要企业品牌：国际：日本Evatech公

9、司、美国NANOMASTg、新加坡 RE四司、韩国JuSung公司、韩国TES公司.国内：北京仪器厂、北京七星华创电子、成都南光实业股份、中国电子科技集团第四十 八所.11、ICP 等离子体刻蚀系统(ICP, Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching System设备名称：ICP等离子体刻蚀系统.设备功能：一种或多种气体原子或分子混合于反响腔室中,在外部能量作用下如射频、微波等形成等离子体,一方面等离子体中的活性基团与待刻蚀外表材料发生化学反响,生成可挥发产物；另一方面等离 子体中的离子在偏压的作用下被引导和加速,实现对待刻蚀外表进行定向的

10、腐蚀和加速腐蚀.主要企业品牌：国际：英国牛津仪器公司、美国 Torr公司、美国Gatan公司、英国Quorum公司、美国利曼公司、美国 Pe lco公司.国内：北京仪器厂、北京七星华创电子、中国电子科技集团第四十八所、戈德尔等离子科技香港控股、中国科学院微电子研究所、北方微电子、北京东方中科集成科技股份、北京 创世威纳科技.12、离子注入机(IBI , Ion Beam Implanting )设备名称：离子注入机.设备功能：对半导体外表附近区域进行掺杂.主要企业品牌：国际：美国维利安半导体设备公司、美国CHA公司、美国AMA依司、Varian半导体制造设备公司被 AMAT收购.国内：北京仪器

11、厂、中国电子科技集团第四十八所、成都南光实业股份、沈阳方基轻工机械有限公司、上海硅拓微电子.13、探针测试台(VPT, Wafer prober Test )设备名称：探针测试台.设备功能：通过探针与半导体器件的 pad接触,进行电学测试,检测半导体的性能指标是否符合设计性能 要求.主要企业品牌：国际：德国Ingun公司、美国 QA公司、美国 MicroXact公司、韩国 Ecopia公司、韩国 Leeno公司.国内：中国电子科技集团第四十五所、北京七星华创电子、瑞柯仪器、华荣集团、深圳市森美协 尔科技.14、晶片减薄机(Back-sideGrinding )设备名称：晶片减薄机.设备功能：通

12、过抛磨,把晶片厚度减薄.主要企业品牌：国际：日本DISCO公司、德国 G&N司、日本 OKAMOTO司、以色列 Camtek公司.国内：兰州兰新高科技产业股份、深圳方达研磨设备制造、深圳市金实力精密研磨机器 制造、炜安达研磨设备、深圳市华年风科技15、晶圆划片机DS, Die Sawwing 设备名称：晶圆划片机.设备功能：把晶圆,切割成小片的 Die.主要企业品牌：国际：德国OE四司、日本DISCO公司.国内：中国电子科技集团第四十五所、 北京科创源光电技术、 沈阳仪器 仪表工艺研究所、西北机器原国营西北机械厂 709厂、汇盛电子电 子机械设备公司、兰州兰新高科技产业股份、大族激光、深圳市红宝石 激光设备、武汉三工、珠海莱联光电、珠海粤茂科技.1