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文档简介
1、铝氧化的工艺流程上架水洗低温抛光水洗水洗钳料氧化水洗水洗水洗封孔水洗水洗下架风干检验进入电泳工序 包装 磨砂料及磨砂电泳料氧化:上架除油水洗酸蚀水洗水洗碱蚀水铝氧化的工艺流程:1上架;水洗;低温抛光2磨砂料及磨砂电泳料氧化:3着色料及着色电泳料氧化二、上料: 型材上料前应将吊杆接触面打磨干净,并按标准支数上料,其计算公式:上料支数=标准电流标准电流密度单支型材面积 上架支数的考虑原则:a、硅机容量利用率不大于95%b、电流密度取1.0 1.2A/dm;c、型材形状和两支型材之间留必要的间隙; 氧化时间的计算:氧化时间(t)=膜厚K 电流密度K为电解常数, 取0.26 0.32 , t单位为分钟
2、; 上排时必须按照型材面积及上排支数表规定的支数上架; 为了便于排液和排气,上排捆扎时应倾斜,倾斜度5 °为宜; 两端可超出导电杆10 20mm最多不得大于50mm三、低温抛光工艺 低温抛光槽中低温抛光剂浓度控制为总酸25 30g/l,最低15 g/l ; 抛光槽温20-30 C不得低于20 C,抛光时间90200s; 提架倾斜,滴净残液后,迅速放入清水槽中漂洗,经两道水洗后迅速放入氧化槽 氧化,在水槽中停留时间不应大于 3分钟; 低温抛光材料在抛光前不得进行其它方式的处理,也不能将其它槽液带入抛光槽 中。四、除油工艺; 在室温酸液中进行,时间24分钟,H2SO软度140-160 g
3、/l ; 提架倾斜滴净残液后,放入清水槽中清洗1-2分钟。五、磨砂(酸蚀)工艺 除油后在清水槽清洗再进入酸蚀槽; 工艺参数:NH4HF浓度30-35 g/l,温度35-40 °C,PH值,酸蚀时间3-5分钟; 酸蚀结束后经两道水洗再进入碱蚀槽六、碱洗工艺 工艺参数:游离 NaOH 30-45 g/l,总碱 50-60 g/l,碱蚀剂 5-10 g/l , AL3+ 0-15 g/l,温度35-45 C,砂料碱蚀时间30-60秒; 提架倾斜,滴净溶液后迅速放入清水槽中清洗干净; 检查清洗后的表面质量,当无腐蚀斑纹,无杂物、凝附表面现象,即可进入出光 工序。七、出光工艺 工艺参数:H2S
4、O软度160-220 g/l,HNO3适量或50 g/l -100 g/l,温度室温,出光时间 2-4 分钟; 提架倾斜滴净残液后迅速放入清水槽中1-2分钟,再放入第二清水槽 1-2 分钟; 两次清洗完毕后,应钳紧扎架上的铝线,以保证氧化过程的良好接触。普通料钳 紧扎架一端铝线,着色料、电泳料应钳紧扎架的两端铝线。八、氧化工艺 工艺参数:H2SO4浓度160-175 g/l ,AL3+ < 20 g/l,电流密度1-1.5A/dm,电压 12-16V,氧化槽温度18-22C,按计算公式求得通电时间。氧化膜规定:银白料 3-4,白砂4-5卩m,电泳7-9 y m ; 阳极架应平稳放入导电座
5、中,检查并确认型材与阴极板无接触时,可通电氧化 氧化结束将阳极杆吊离液面倾斜并滴净残液,转入清水池清洗2分钟; 对不着色的型材可进入二级水槽待封孔处理。九、着色工艺 工艺参数:SnSO组-6g/l ; NiSO416-18 g/l ;着色剂 9-12 g/l ;游离酸 17-20 g/l ;PH值=0.8-1.2 ,槽温19-21C,着色电压应低于氧化电压即14-16V;平时添加按如下比例 进行:SnSO4:NiSO4=1:1 ;着色添加剂:SnSO4=1:1 着色产品只能采用单排双线扎排的方式,产品之间间距相邻两产品的对应面宽度,一般用手指测时两支手指宽度,扎排必须扎紧,扎牢固,只能采用新线扎排; 着色产品氧化时铝氧化槽温必须控制在18- 22 C,保证膜厚均匀结构细密; 着色产品每排氧化着色面积应基本一致; 着色后提架倾斜,用色板对比,符合条件后,再入清水槽清洗,否则试下列情况 而处理;a、色彩浅,重新入着色槽,按补色开关着色,时间不得超过 2分钟;色泽深,应放入氧化槽相应的水槽中退色,或空中悬挂退色至理想为止;b、氧化后产品必须经三道或以上水洗后方可进入着色槽,保证最后一道水洗槽PH>5 ; 着色产品在氧化后禁止在水槽中长久浸泡,一般浸泡时间应不大于3分钟; 产品进入着色槽后,应先不通电,浸泡 1分钟左右,再开始通电着色,着色过程 开始后,约在30
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