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文档简介

圖6.1蝕刻的底切度 圖6.2(a)等方向蝕刻，(b)非等方向蝕刻 圖6.3三種乾蝕刻終點偵測器之原理圖 圖6.4桶狀蝕刻反應器內的正視圖 圖6.5(a)電漿蝕刻和(b)RIE蝕刻的比較 圖6.6三極RIE的概略圖 圖6.7(a)RIE蝕刻機的概略圖，(b)電位分佈圖 圖6.8濺擊蝕刻和濺鍍的概略圖 圖6.9MERIE(a)以永久磁鐵，(b)以電磁線圈產生磁場 圖6.10磁場約束電漿蝕刻機的概略圖 圖6.11離子輔助蝕刻反應的原理 圖6.12ECR蝕刻機的概略圖 圖6.13ICP蝕刻機的概略圖 圖6.14CMP的概略圖

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