3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理

1、页脚3.2.P.5.53.2.P.5.5 杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：*产品杂质情况分析表产品杂质情况分析表分类名称化学结构式(CHEMDRAW)控制限度杂质来源备注1备注2药物成品目标化合物299.5%目标产物有机杂质杂质A2克/天0.03%0.05%0.05%表ICH1订的化学原料药中有关物质的鉴定、报告和质控限度松定Ri啤0.05%0.10%戍】亦和啦射小但丨l,0mgf駅啟小KU03%o.d$%0,05%表ICH制订的化学药制剂杂质限度虞10.1%005%曜1lOmgAlOmg亠2gID玄或C取

2、最小值0.5乜城t0.10%M大日村届IOOmef2g20上疑或列Dp苦耽fit*値*卫豁或取凰小值卜0.15%结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料 7-ACCA7-ACCA 引入的杂质）引入的杂质）页脚无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。2、普通有机杂质。3、对映异构体（根据品种的情况具体分析）；考察

3、不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。4、非对映异构体：比如ACCA的异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。第二部分第二部分：反应的每个步骤引入的杂质反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控需要结合实际反应监控（HPLCHPLC，LC-MSLC-MS 为主为主）过程对杂质消过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个容主要在工艺描述部分进行这个容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述容本部分引用工艺描述容。1、步骤1引入的杂质。2、步骤2引入的杂质。3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描述4、精制过

4、程引入的杂质。第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等容说明各个有机杂质的分布第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等容说明各个有机杂质的分布情况。情况。第四部分：潜在杂质在成品中的检测结果第四部分：潜在杂质在成品中的检测结果杂质名称杂质来源20170628批20170630批20170702批IMPT（对映体）原料引入N.D0.001%N.DN.D表示未检出IMP-2（异构体）原料引入，工艺杂质N.DN.DN.DIMP-3中间体残留N.DN.D0.002%OOKCM16WH:31772K.4N82O4SNO2DMF/CH2Cl2C7H6BrNO2M

5、W7:2166.032PAACH2Cl2CM2W3:H48235.N513OOJ_tolueneNOTsCl2n-methylmorpholinemorpholineHlpyrindineCH2。22)aq.HCl/MeOHCM2W6:H52262.N574O6SNO21)(PhO)3P/CHCI2/PynaineCl2)N,N-dimethylaniline,PCl5iBuOHOHNOOCM2W3:H46239.N513O6SO-、OOCMW23:4H5121.4N9Oacetone/HHClHClH2NC1M4WH:14206C.l0N03O5SNO2匚CH2。2/CH3OHO3,TMP*

6、5SNO2Na2S2O4NO22OHCM2W2:H45193.N473O6SHOOCM2W2:H46199.N473O7SOHC7H7ClN2O3SM7W:7234.6623NO2NO21、页脚IMP-4工艺杂质0.02%0.017%0.023%IMP-5工艺杂质N.DN.DN.D第五部分：自制原料与原研片杂质对比：第五部分：自制原料与原研片杂质对比：对上述表格进行综述性总结。主要是用不同来源的样品的液相图谱和列表数据进行对比性说明。对上述表格进行综述性总结。主要是用不同来源的样品的液相图谱和列表数据进行对比性说明。第六部分：制剂中的特定杂质：主要分析制剂与原料药储存过程中降解产生的杂质，以及

7、因为辅料第六部分：制剂中的特定杂质：主要分析制剂与原料药储存过程中降解产生的杂质，以及因为辅料和原料药相容性而产生的特定杂质：比如纤维素类的曼德拉反应产生的杂质等。和原料药相容性而产生的特定杂质：比如纤维素类的曼德拉反应产生的杂质等。储存降解产生的杂质包括酸碱氧热光降解杂质，空气中水分造成的水解杂质，或者跟空气中二氧化碳反应产生的杂质。1.说明各杂质的限度*杂质阈值（举例）每日最大剂量报告限度鉴定限度质控限度2g/天0.05%0.10%0.15%备注每日最大剂量由本品说明书用法用量获得2.3.2.P.5.5.1潜在杂质的推测由*公司提供*原料药简单工艺路线，分析整理本品的杂质见下表表3.2.P

8、.*,潜在杂质推测杂质名称杂质结构杂质来源其他信息降解产物降解产物反应副产物3.潜在杂质特征的鉴定页脚a）原料合成过程带入的相关杂质特征的鉴定由厂家提供的原料药合成过程中所用的起始原料及各步中间产物的色谱行为和紫外光谱特征进行汇总分析，初步鉴定注射用头孢地嗪钠成品中原料合成过程中带入的杂质。起始原料及各步中间产物鉴定特征如下表：表3.2.P.5-X*原料合成过程相关杂质特征鉴定紫外光谱特征（nm）b）注射用头孢地嗪钠强制降解试验中杂质的特征鉴定试品与对照品强制降解试验表3.2.P.*热破坏试验主要降解产物色谱信息名称杂质个数色谱行为特征紫外光谱特征（nm）峰号保留时间（min）相对保留时间与前

9、峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收1#1.725250.1241.0002121954#2.557100.1841.5420.857319267自制36#4.685580.3371.7790.99923221611#13.904451.0001.5871.000228、262219、2461#1.724650.1240.9992111964#2.556970.1841.3850.877319267对照36#4.684650.3361.7501.00023221611#13.927981.0001.5431.000228、262219、246备注色谱行为特征名称峰号保留时间(min)相对保留时间与

10、前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收2.681801.0003192653.316751.0002642184.963621.00027122313.493401.000228、246219、2623#4#5#6#2.647103.305204.9376513.563830.1950.2440.3641.0001.2032.3754.3321.0001.0001.0001.000319264271228、262265218223219、246页脚表3.2.P.5-50酸破坏试验主要降解产物色谱信息名称杂质个数色谱行为特征紫外光谱特征（nm）峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最

11、大吸收最小吸收1#2.540250.1891.0003192654#4.593870.3421.5050.988228217自制47#11.059380.8233.9530.9992942798#13.442371.0001.7031.000228、262219、2469#25.252921.8796.8971.0002342201#2.52610.1891.0003192654#4.593950.3441.1430.988228217对照48#11.064631.0005.0310.9992922779#13.368221.0001.6171.000228、262219、2461025.33

12、1231.8956.8240.999234217备注名称杂质个数自制5色谱行为特征紫外光谱特征（nm）峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收1#2.178150.1580.9822228、2882724#2.544670.1851.5761.000319266表表 3.2.P.5-513.2.P.5-51 碱破坏试验主要降解产物色谱信息碱破坏试验主要降解产物色谱信息页脚7#7.347450.5332.5211.000226、289219、2768#13.773451.0001.9411.000228、262219、2469#23.966501.7405.3810

13、.99929627210#31.875322.3143.5980.999229、263217、2421#2.638070.1840.9993192664#4.787530.3342.3501.0002332167#7.695570.5361.7810.999231、287219、280对照69#11.548980.8052.7880.99929327710#14.352701.0001.8951.000228、262219、24611#25.229381.7585.4290.99929327112#33.595552.3413.6260.999233、263218、244备注表3.2.P.5-

14、52氧化破坏试验主要降解产物色谱信息色谱行为特征紫外光谱特征（nm）名称峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收1#2.167730.1590.9992252172#2.928120.2152.8571.000261243自制43#4.929330.3625.6660.999287、261283、2424#5.973830.4382.0710.9872902666#13.635371.0004.3461.000228、262219、2461#2.167250.1610.9992242182#2.918830.2172.8501.000261243对照63#4.90

15、1830.3645.8050.9992612424#5.936050.4412.1900.9952912666#13.448231.0004.3161.000228、262219、246备注表3.2.P.5-53光照破坏试验主要降解产物名称杂杂质色谱行为紫外光谱（nm）页脚质个数峰号保留时间(min)相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收自制25#2.563370.1811.3120.9993192659#4.70960.3332.5960.98822921615#14.14191.0001.3011.000228、262219、245市售65#2.574130.1811.3100.

16、9993192669#4.729920.3332.6540.98923021613#14.197321.0001.2741.000228、262219、245备注4.制剂杂质列表一杂质分杂质名称结构式杂质来源是否控制控制限度原料药引入杂质 A原料药带入制剂工艺杂质杂质 H热降解制剂降解杂质金属杂质溶剂残留说明：a)以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。杂质的结构和种类的鉴定在其他模块或者附件中体现。按照以前惯例，自制杂质的结构确认是通过工艺描述加氢谱确认即可，特殊的需要提供其他佐证手段。外购杂

17、质的结构确认一般是要提供完整的结构鉴定谱图。b)说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供充分的依据。页脚夷1新原料药中的杂质的值毎日就謔报告國值鉴定國值合理限度0.10或0.恥或岂天Q的1.Dm少天1.BQ#天咖爲值；朗爲值）A 丄驳天QOS%0.05%oth%表2新药制刊屮的杂质址限度直每日最櫛憧每日最櫛憧Htt报告阈值理0.1%005%鉴罡阈值2g一0呢或汴创口取較低值 2 勺庇或20“a天（:取较低值&2曉或2咤天f咫较低直电1%合理限度10mgIDmg100tug1002&2g1.0%50昭天（取丁训Efi0.5S?o.Z200临天 取较低僅0.2%

18、3mg/天 （取较臃匹巧%报告阈值是指所有高于此阈值的杂质及其含量均应在每批产品的检验报告中记录,并在申报资料中反映;鉴定阈值是指所有高于此阈值的杂质均应对其结构进行确证;合理限度是指只要质量标准中制订的杂质限度不高于此限度，就不需要提供该限度的制订依据,认为该限度是合理的。c）提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。 应在对原料药的降解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物5.对比自制制剂片和原料药杂质谱以及纯度数据,相对保留时间杂质峰（）原料制剂1607021605041605081607021607041607060.15

19、/0.01/0.80（杂质 A）0.030.030.020.030.020.031.300.010.010.020.040.030.04页脚相对保留时间杂质峰（）自制参比制剂1607021605041605081607021607041607060.15/0.01/0.80（杂质 A）0.030.030.020.030.020.031.300.010.010.020.040.030.047.对比自制制剂片和参比制剂强制降解和长期稳定性考察的杂质谱变化、图谱以及纯度数据。类别RRT杂质峰（）自制参比制剂160702160504160508160702160704160706酸降解0.15/0.0

20、1/0.800.030.030.020.030.020.03碱降解1.300.010.010.020.040.030.04氧化降解热降解光降解长期6 个月附件附件 1 1：CTD申报资料中杂质研究的几个问题这篇需要我们认真研究一下：下面做了简单的抄录。（ CMC各项研究，乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑，而不仅仅拘泥于提供准确分析数据的传统思维，不是一项孤立的分析工作。1、杂质控制要做到源头控制、过程控制与终点控制相结合的杂质控制理念：CTD 格式中杂质控制的考虑要体现在 CMC 的各个环节， 而不是仅仅局限在“质量控制”模块。 比如原辅料首先要满足制剂质量要求；关键工艺步

21、骤及参数的确立、工艺开发过程等要考虑以杂质是否得到有效控制为重点关注。制剂相关特性中要体现与原研产品杂质谱等的对比情况；包材、贮藏条件以及有效期的确立等也要以杂质是否处于安全合理的可控围为核心。2、关注杂质分析与控制的系统性与整体性，不能割裂各项容的必然联系和有机统一：6.对比自制制剂片和参比制剂杂质谱以及纯度数据,页脚杂质分析与控制的相关容会分布在分析方法(3.2.S.4.2)、方法学验证(3.2.S.4.3)、杂质对比研究与杂质谱分析(3.2.S.4.5)、杂质情况分析总结(3.2.S.3.2)、样品检测与数据积累(3.2.S.4.4)、控制限度(2.3.S.4.1)等各模块中，但杂质研究

22、又是一项系统工程，具有统一的整体性。因此，不要因为申报资料格式的模块化而人为割裂各项研究容的相互联系。3、从杂质谱分析入手确立科学的杂质研究基本思路。杂质谱包括药物中所有杂质的种类、来源及特性等信息。有针对性地选择合适的杂质分析方法，以确保杂质的有效检出和确认；通过与原研产品杂质谱的对比研究，根据各相应杂质的一致性求证，或跟踪杂质谱对安全性试验或临床试验结果产生的影响，评估各杂质的安全性风险和可接受水平；结合规模化生产时杂质谱的变化情况，确立安全合理的杂质控制水平。4、分析方法的验证应具备针对性和全面性。5、杂质限度的确定应符合相关技术指导原则的要求。在分析方法相同的情况下，各特定杂质应不超过同品种或同