印制电路板行业废水治理工程技术规范DB44T622-2009_第1页
印制电路板行业废水治理工程技术规范DB44T622-2009_第2页
印制电路板行业废水治理工程技术规范DB44T622-2009_第3页
印制电路板行业废水治理工程技术规范DB44T622-2009_第4页
印制电路板行业废水治理工程技术规范DB44T622-2009_第5页
已阅读5页,还剩13页未读 继续免费阅读

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

1、DB44广 东 省 地 方 标 准DB44/T 2009印制电路板行业废水治理工程技术规范2009-05-31 发布2009-09-01 实施广 东 省 质 量 技 术 监 督发布1注注目 录目录I言则1前1 总2 13 24 35 56 97 8 9 I注注注前言 王 刚 注注注1 总则 2 () 1注注 , 3 () ) () , 2注注 4 3注注 3 22 22 。1 ( )序号1比例(%)1530382化学镀铜等清洗水,含 EDTA等络合物343610 500015000 210显影、剥膜、除胶废液和显影首级清洗水1015脱膜、显影工序的二级后清洗水;贴膜、氧化后、镀锡后以及保养清洗

2、水56789电镀废水综合废水含氰废水含镍废水含氨废水152020300.11.01581060200 碱性蚀刻清洗水 。2 ( )废液种类油墨废液pH12废液成分冲板机显影阻焊油墨渣12345化学镀铜废液挂架褪镀废液碱性蚀刻废液5M 酸950100130000150000 Cu(NH ) Cl3 224注注1500001001000Sn(NO ) ,HNO (或者氢氟酸/氟化氢胺)过硫酸铵 APS(过硫酸钠 NPS)+(23)%硫酸;或硫酸双氧水3000010030025000(46)%H SO ,有机添加剂8001500松香,焊剂载体,活性剂,稀释剂(热风整平前使用)烷基苯骈咪唑,有机酸,乙酸铅,CaCl ,苯碱性,有机化合物,表面活性剂(乳化剂,磷酸三钠,碳酸钠)16171819503003005003010040803%钯液(活化液)PdCl ,HCl,SnCl ,Na SnO2223 5 5注注 含铜废水出水含铜污泥1 络合铜废 水铁盐破络辅助破络混凝沉淀生化处理或排放含铜污泥2 6注注 碱酸3 值值 ()7注注 值 。4 宜 以3 宜 。3 宜 N 3 3 8注 6 2 / 32 。 3 2 -19 32-1 -1 大水量宜采用幅流式沉淀池,小水量宜采用斜管沉淀池。斜管沉

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论