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CS31.120L40中华人民共和国国家标准GB/T18910.1-2002/IEC61747-1:1998OC2720000液晶和固态显示器件第1部分:总规范Liquidcrystalandsolid-statedisplaydevices-Part1:Genericspecification(IEC61747-1:1998,IDT)2002-12-04发布2003-05-01实施中华人民共和国发布国家质量监督检验检疫总局
GB/T18910.1-2002/IEC61747-1:1998前言范围2规范性引用文件3术语和定义3.1物理概念3.2基本术语3.3关于参数和特性方面的术语4总则4.1优先顺序4.2单位、符号和名词术语:4.3温度、湿度和压力优选值·4.4标志4.5质量评定类别4.6筛选4.7操作5质量评定程序5.1鉴定批准的资格5.2商业保密信息5.3检验批的构成5.4结构相似器件5.5鉴定批准的授予5.6质量一致性检验5.7筑计抽样程序………………5.8耐久性试验·…···….·..…......5.9规定失效率时的耐久性试验……5.10加速试验程序5.11能力批准……6试验和测试程序?·6.1电光测试标准的大气条件…6.26.3电光测试········环境试验………….6.4附录A(资料性附录)液品显示盒外形图的示例附录B(规范性附录)液晶显示模块的取向15附录C(规范性附录)批允许不合格品率(LTPD)抽样方案1616C.2单批抽样方法16C.3追加的样品16C.4多重判据16C.5100%检验加严检验C.6
GB/T18910.1-2002/IEC61747-1:1998前GB/T18910.1是GB/T18910《液晶和固态显示器件》的一部分。。下面列出GB/T18910的预计结构第1部分:总规范第2部分:液品显示模块分规范第2-1部分:单色液晶显示模块无源矩阵空白详细规范第3部分:液晶显示屏分规范第3-1部分:液晶显示屏空白详细规范第4部分:液品显示模块和显示屏基本额定值和特性第5部分:环境、电耐久性和机械试验方法GB/T18910的本部分等同采用国际电工委员会IEC61747-1:1998(QC720000)《液品和固态显示器件第1部分:总规范》(英文版)。本部分对IEC61747-1:1998(QC720000)的附录做了编辑性修改:-删除了资料性附录A;将附录重新按顺序编号本部分的附录A、附录B为资料性附录,附录C为规范性附录.本部分由中华人民共和国信息产业部提出。本部分由中国电子技术标准化研究所(CESI)归口。本部分起草单位:中国电子技术标准化研究所(CESI)本部分主要起草人:赵英、常利民
GB/T18910.1-2002/IEC61747-1:1998液晶和固态显示器件第1部分:总规范1范围GB/T18910的本部分是液晶和固态显示器件的总规范。它规定了IECQ体系质量评定的通用程序.并给出了电光特性测试方法的通用要求,给出了机械、环境和耐久性试验方法。2规范性引用文件下列文件中的条款通过GB/T18910的本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的引用文件.其随后所有的修改单(不包括误的内容)或修订版均不适用于本部分,然而,鼓励根据本部分达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本部分。GB/T2421-1999电电工电子产品环境试验第1部分:总则(idtIEC60068-1:1988)GB/T15651-1995半导体器件分立器件和集成电路第5部分:光电子器件(idtIEC6O747-5:1992)GB/T17573-1998半导体器件分立器件和集成电路第1部分:总则(idtIEC60747-1:1983)IEC60027(所有部分)电工技术用文字符号IEC60050(所有部分)国际电工术语IEC60068-2(所有部分)环境试验——第2部分:试验IEC60191(所有部分)半导体器件机械标准化IEC60191-1:1966半导体器件机械标准化——第1部分:半导体器件外形图绘制IEC60191-2:1966半导体器件机械标准化第2部分:尺寸IEC60191-3:1974半导体器件机械标准化第3部分:集成电路外形图绘制总则IEC60410:1973计数检查抽样方案和程序IEC60617(所有部分)图用图形符号IEC60747-10:1991半导体器件——第10部分:分立器件和集成电路总规范IEC6O748(所有部分)半导体器件——集成电路IEC6O749:1996半导体器件——机械和气候试验方法IEC61747-5液晶和固态显示器件——第5部分:环境、耐久性和机械试验方法QC001002:1986IECQ电子元器件质量评定体系的程序规则ISO1000:1992国际单位制及其倍数单位和一些其他单位的应用推荐ISO1101:1983技术制图几何公差形状、位暨
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