标准解读

《GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》是一项国家标准，规定了使用电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定电子级多晶硅中特定基体金属杂质含量的方法。该标准适用于电子工业用多晶硅材料的质量控制和检测。

标准详细描述了样品准备、仪器条件设定、校准曲线制作以及数据分析的具体步骤。首先，在样品制备过程中，需要将多晶硅样品溶解于适当的酸溶液中以形成均匀的液体样本。这一步骤对于确保后续分析结果准确性至关重要。

接着，标准指出了进行ICP-MS测试时推荐使用的参数设置，包括射频功率、载气流量等关键因素。正确调整这些参数有助于获得稳定且可靠的测量信号。

此外，《GB/T 37049-2018》还提供了关于如何通过一系列已知浓度的标准溶液来建立校准曲线的信息。这种校准过程是定量分析的基础，能够帮助研究人员准确地确定未知样品中目标元素的实际浓度。

最后，本标准还包括了数据处理方法，如背景扣除、内标法的应用等内容，这些都是为了提高分析精度而采取的重要措施。通过遵循此标准所规定的程序和技术要求，可以有效地对电子级多晶硅中的多种微量金属杂质进行定性和定量分析，从而保证产品的纯度符合行业需求。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2018-12-28 颁布
  • 2019-04-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS7704030

H17..

中华人民共和国国家标准

GB/T37049—2018

电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定

电感耦合等离子体质谱法

Testmethodforthecontentofmetalimpurityinelectronicgradepolysilicon—

Inductivelycoupled-plasmamassspectrometrymethod

2018-12-28发布2019-04-01实施

国家市场监督管理总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T37049—2018

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会与全国半导体设备和材料标准

(SAC/TC203)

化技术委员会材料分会共同提出并归口

(SAC/TC203/SC2)。

本标准起草单位江苏中能硅业科技发展有限公司青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分

:、

公司有研半导体材料有限公司宜昌南玻硅材料有限公司新特能源股份有限公司洛阳中硅高科技有

、、、、

限公司

。

本标准主要起草人鲁文锋刘晓霞秦榕孙燕赵而敬王桃霞赵玉王忠慧柳德发张园园

:、、、、、、、、、、

银波邱艳梅刘强

、、。

Ⅰ

GB/T37049—2018

电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定

电感耦合等离子体质谱法

1范围

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的

(ICP-MS)

方法

。

本标准适用于中在基体金属杂质小于范围内铁铬镍铜锌钠含量的

GB/T129635ng/g、、、、、

测定

。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

电子级多晶硅

GB/T12963

半导体材料术语

GB/T14264

洁净室及相关受控环境第部分空气洁净度等级

GB/T25915.1—20101:

四级杆电感耦合等离子体质谱仪校准规范

JJF1159

液体化学品分析指南

SEMIC1(Guidefortheanalysisofliquidchemicals)

半导体加工用超纯水指南

SEMIF63(Guideforultrapurewaterusedinsemiconductorprocess-

ing)

3术语和定义

及界定的以及下列术语和定义适用于本文件

GB/T14264JJF1159。

31

.

分辨率resolution

以某元素质量峰高处的峰宽表示

10%。

32

.

检出限detectionlimit

质谱仪在一定的置信度内所能测定的某元素的最低极限质量浓度

。

33

.

仪器检出限instrumentdetectionlimit

空白试剂纯水信号平均值的三倍标准偏差所对应的浓度值

()。

34

.

方法检出限定量下限mothoddetectionlimit

()

给定的分析方法在特定条件下能以合理的置信水平检出被测物的最小浓度

。

35

.

背景噪声backgroundnoise

未引入某元

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