标准解读

《YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材》是一项针对用于电子薄膜制备的高纯度钴靶材的标准。该标准主要规定了这类材料的技术要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和贮存等方面的内容，适用于生产、使用及质量控制过程中的指导与参考。

在技术要求部分，对钴靶材的化学成分进行了详细的规定，包括主元素钴的含量以及其他可能存在的杂质元素的最大允许含量。此外，还对物理性能如密度、硬度等提出了具体指标，以确保材料能够满足特定的应用需求。对于表面质量也有明确的要求，比如不允许存在裂纹、气孔等缺陷，且表面粗糙度需符合一定的标准。

试验方法章节则列举了一系列检测手段来验证上述技术参数是否达标，这涵盖了从取样到最终分析结果报告的整个流程。常用的测试项目包括但不限于：电感耦合等离子体发射光谱法测定金属杂质含量、X射线荧光光谱仪测量非金属杂质、密度测试采用阿基米德原理等科学方法。

检验规则方面，标准明确了抽样方案、判定准则等内容，确保每批次产品均能通过严格的质量控制程序。同时，对于不合格品如何处理也给出了相应的建议措施。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2015-04-30 颁布
  • 2015-10-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS7715070

H62..

中华人民共和国有色金属行业标准

YS/T1053—2015

电子薄膜用高纯钴靶材

High-puritycobaltsputteringtargetusedinelectronicfilm

2015-04-30发布2015-10-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

YS/T1053—2015

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口

(SAC/TC243)。

本标准负责起草单位宁波江丰电子材料股份有限公司有研亿金新材料有限公司

:、。

本标准主要起草人王学泽李勇军郑文翔罗俊锋袁海军熊晓东陈勇军刘丹陆彤袁洁

:、、、、、、、、、、

张涛

。

Ⅰ

YS/T1053—2015

电子薄膜用高纯钴靶材

1范围

本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材以下简称高纯钴靶的要求试验方法检验规则和标志包

()、、、

装运输贮存质量证明书及订货单或合同内容

、、、()。

本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶

。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差

GB/T1804

计数抽样检验程序第部分按接收质量限检索的逐批检验抽样计划

GB/T2828.11:(AQL)

金属平均晶粒度测定方法

GB/T6394

金属板材超声板波探伤方法

GB/T8651

金属材料中氢氧氮碳和硫分析方法通则

GB/T14265、、、

溅射靶材背板结合质量超声波检验方法

YS/T837-

高纯钴化学分析方法杂质元素含量的测定辉光放电质谱法

YS/T1011

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件

。

靶材target

溅射沉积技术中的阴极部分该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子原子或离子的形式

。、

脱离阴极而在阳极表面沉积

。

4要求

41产品分类

.

411高纯钴靶按纯度分为两个级别

..4N5(99.995%)、5N(99.999%)。

412高纯钴靶按焊接方式分为钎焊和非钎焊

..。

42化学成分

.

高纯钴靶化学成分及杂质元素要求应符合表的规定

1。

43晶粒尺寸

.

高纯钴靶的晶粒尺寸应符合表的规定需方如有特殊要求时由供需双方商定并在订货单或

2

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