GB/T 30858-2025蓝宝石单晶衬底抛光片

ICS29045

CCSH.83

中华人民共和国国家标准

GB/T30858—2025

代替GB/T30858—2014

蓝宝石单晶衬底抛光片

Polishedmono-crystallinesapphiresubstratewafer

2025-10-31发布2026-05-01实施

国家市场监督管理总局发布

国家标准化管理委员会

GB/T30858—2025

前言

本文件按照标准化工作导则第部分标准化文件的结构和起草规则的规定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

本文件代替蓝宝石单晶衬底抛光片与相比除结构调

GB/T30858—2014《》,GB/T30858—2014,

整和编辑性改动外主要技术变化如下

,:

更改了适用范围见第章年版的第章

a)(1,20141);

更改了亮点的定义见年版的删除了蓝宝石等术语和定义见年版

b)“”(3.3,20143.5),“”(2014

的并增加了沾污橘皮的术语和定义见和

3.1~3.4),“”“”(3.13.2);

增加了总则见第章

c)(4);

更改了总杂质含量的要求见年版的

d)(5.1,20144.1);

更改了结晶完整性的要求见年版的

e)(5.2,20144.2);

删除了生长方法的要求见年版的

f)(20144.3);

更改了表面取向及主参考面取向或主参考槽取向的要求并删除了图图见年

g),1、2(5.3,2014

版的

4.4);

更改了尺寸及允许偏差的要求见年版的

h)(5.4.1,20144.5);

增加了参考槽的尺寸及允许偏差的要求和参考槽的结构图见

i)(5.4.2);

更改了背表面粗糙度的要求见年版的

j)(5.6,20144.7);

更改了正表面缺陷的要求见年版的

k)(5.7,20144.8);

更改了背表面缺陷的要求见年版的

l)(5.8,20144.9);

更改了颗粒度的要求见年版的

m)(5.9,20144.10);

更改了总杂质含量结晶完整性表面取向及主参考面取向或主参考槽取向尺寸及允许偏差

n)、、、、

正表面粗糙度的试验方法见第章年版的第章

(6,20145);

更改了组批的要求见年版的

o)(7.2,20146.2);

更改了检验项目及取样的要求见年版的

p)(7.3、7.4,20146.3);

更改了检验结果的判定方法见年版的

q)(7.5,20146.4);

更改了标志的内容见年版的

r)(8.1,20147.1);

更改了包装的内容见年版的

s)(8.2,20147.2);

增加了随行文件的内容见

t)(8.5)。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利本文件的发布机构不承担识别专利的责任

。。

本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会与全国半导体设备和材料标准

(SAC/TC203)

化技术委员会材料分技术委员会共同提出并归口

(SAC/TC203/SC2)。

本文件起草单位天通银厦新材料有限公司有色金属技术经济研究院有限责任公司青岛华芯晶

:、、

电科技有限公司中国科学院上海光学精密机械研究所广东中图半导体科技股份有限公司徐州凯成

、、、

科技有限公司宁夏材料研究学会北方民族大学深圳中机新材料有限公司

、、、。

本文件主要起草人鲁雅荣杨诗音康森李素青郑东杭寅张能陆椿韩凤兰李宁武金龙

:、、、、、、、、、、、

董福元陈斌

、。

本文件于年首次发布本次为第一次修订

2014,。

Ⅰ

GB/T30858—2025

蓝宝石单晶衬底抛光片

1范围

本文件规定了蓝宝石单晶衬底抛光片以下简称蓝宝石衬底片的技术要求试验方法检验规

(“”)、、

则标志包装运输贮存随行文件和订货单内容

、、、、、。

本文件适用于直径不大于的蓝宝石衬底片产品主要用于外延生长半导体薄膜生产蓝

200mm。、

宝石图形化衬底蓝宝石键合衬底等

、。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款其中注日期的引用文

。,

件仅该日期对应的版本适用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于

,;,()

本文件

。

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