纳米光子晶体制备-洞察及研究

1/1纳米光子晶体制备第一部分纳米光子晶体结构特性 2第二部分制备工艺与方法探讨 5第三部分基本材料选择与处理 8第四部分光学性能分析 12第五部分晶体稳定性研究 16第六部分制备过程中缺陷控制 20第七部分应用领域与前景展望 24第八部分技术挑战与解决方案 28

第一部分纳米光子晶体结构特性

纳米光子晶体作为一种新兴的光子材料，具有独特的结构特性和优异的光学性能，在光通信、光传感、光催化等领域具有广泛的应用前景。本文将介绍纳米光子晶体的结构特性，包括其基本结构、折射率调控、周期性以及光学共振等方面。

一、基本结构

纳米光子晶体的基本结构由周期性排列的亚波长尺度的介质和空气或低折射率介质组成。通常，纳米光子晶体采用二维或三维结构，其中二维结构包括平面介质光子晶体和层状介质光子晶体，三维结构包括球面介质光子晶体和准三维介质光子晶体。根据介质和空气或低折射率介质的排列方式，纳米光子晶体可分为一维、二维和三维三种类型。

二、折射率调控

纳米光子晶体的折射率是决定其光学性能的关键因素。折射率的调控可以通过改变介质的折射率或者调整介质与空气或低折射率介质的周期性排列来实现。以下几种方法可用于调控纳米光子晶体的折射率：

1.介电材料：采用介电材料作为介质，通过改变介电常数来调整折射率。例如，二氧化硅（SiO2）、氧化铝（Al2O3）等。

2.金属：通过改变金属层的厚度或者采用不同种类的金属，如金（Au）、银（Ag）、铝（Al）等，来调整折射率。

3.复合介质：采用复合介质，如复合材料、多层介质等，通过设计不同介质的组合来调控折射率。

4.介质掺杂：在介质中引入掺杂剂，如稀土元素、过渡金属离子等，改变介质的折射率。

三、周期性

纳米光子晶体的周期性是指介质与空气或低折射率介质的排列周期。周期性决定了光子晶体的光学特性，如带隙、光子带等。周期性可以通过以下几种方式来调节：

1.改变周期长度：通过改变介质与空气或低折射率介质的排列周期长度，可以调节光子晶体的带隙。

2.改变排列方式：通过改变介质与空气或低折射率介质的排列方式，如一维、二维、三维结构，可以调节光子晶体的光学特性。

3.引入缺陷：在光子晶体中引入缺陷，如空穴、孔洞等，可以调节光子晶体的带隙和光学特性。

四、光学共振

纳米光子晶体的光学共振是指光子晶体中的光子与介质相互作用，产生能量转移和能级跃迁的现象。光学共振是光子晶体实现光调控的关键。以下几种因素影响纳米光子晶体的光学共振：

1.介电常数：介电常数的改变会影响光子与介质的相互作用，从而影响光学共振。

2.介质厚度：介质厚度的改变会影响光子与介质的相互作用，进而影响光学共振。

3.波长：光的波长与介质和空气或低折射率介质的周期性排列有关，从而影响光学共振。

4.介质材料：不同介质材料的光学性质不同，会影响光学共振。

总之，纳米光子晶体的结构特性对于其光学性能具有重要影响。通过对其结构特性的深入研究，可以设计出具有优异光学性能的纳米光子晶体，为光通信、光传感等领域的应用提供有力支持。第二部分制备工艺与方法探讨

纳米光子晶体的制备工艺与方法探讨

摘要：纳米光子晶体作为一种新型功能材料，具有独特的光子带隙特性，在光通信、光传感、光催化等领域展现出巨大的应用潜力。本文针对纳米光子晶体的制备工艺与方法进行了探讨，包括溶液法、胶体法、模板法等常见方法，并分析了各方法的优缺点及适用条件，旨在为纳米光子晶体的制备提供理论参考。

一、溶液法

溶液法是一种常见的纳米光子晶体制备方法，主要包括溶胶-凝胶法、电化学沉积法、化学气相沉积法等。

1.溶胶-凝胶法

溶胶-凝胶法是一种以金属醇盐或无机盐为原料，通过水解、缩合等反应形成溶胶，再经过干燥、热分解等步骤制备纳米光子晶体。该方法具有操作简单、成本低、可控性好等优点。例如，通过溶胶-凝胶法制备的硅基纳米光子晶体，其光子带隙宽度可达几十纳米，具有良好的光吸收性能。

2.电化学沉积法

电化学沉积法是一种利用电化学原理，将金属离子还原沉积在基底上形成纳米光子晶体。该方法具有沉积均匀、可控性好、成本低等优点。例如，通过电化学沉积法制备的铜基纳米光子晶体，能够在可见光范围内实现高效的光吸收。

3.化学气相沉积法

化学气相沉积法是一种利用气体在高温下发生化学反应，将气态物质沉积在基底上形成纳米光子晶体。该方法具有沉积速率快、可控性好、可用于复杂形状制备等优点。例如，通过化学气相沉积法制备的氮化硅基纳米光子晶体，其光子带隙宽度可达几百纳米，具有良好的抗腐蚀性能。

二、胶体法

胶体法是一种将纳米颗粒作为胶体分散在溶剂中，通过化学反应或物理组装制备纳米光子晶体。该方法具有制备简单、成本低、可控性好等优点。

1.化学组装法

化学组装法是通过纳米颗粒表面的官能团发生化学反应，实现纳米颗粒的组装。例如，通过化学组装法制备的聚合物基纳米光子晶体，具有优异的光学性能。

2.物理组装法

物理组装法是通过纳米颗粒的物理相互作用实现组装。例如，通过物理组装法制备的金属纳米光子晶体，具有优异的光学性能和机械性能。

三、模板法

模板法是一种利用模板来控制纳米光子晶体的形状和结构。该方法具有制备简单、结构可控、成本低等优点。

1.化学刻蚀法

化学刻蚀法是一种利用化学腐蚀剂对模板进行刻蚀，形成纳米光子晶体。该方法具有制备简单、结构可控、成本低等优点。

2.光刻法

光刻法是一种利用光刻技术在基底上形成纳米光子晶体。该方法具有制备精度高、可控性好、可大规模生产等优点。

综上所述，纳米光子晶体的制备工艺与方法多种多样，各有优缺点及适用条件。在实际制备过程中，应根据具体需求选择合适的制备方法，以达到最佳的性能。未来，随着纳米光子晶体研究的不断深入，制备工艺与方法将得到进一步优化和改进，为纳米光子晶体在各个领域的应用提供有力支持。第三部分基本材料选择与处理

纳米光子晶体制备过程中的基本材料选择与处理是影响其性能的关键因素之一。以下是对该部分的详细阐述：

一、基本材料选择

1.硅（Si）：硅是制备纳米光子晶体的首选材料，具有优异的折射率、热稳定性和机械强度。硅的折射率在不同波长范围内变化较小，有利于制备高性能的纳米光子晶体。

2.氧化硅（SiO2）：氧化硅是一种非晶体材料，具有较低的折射率和较高的热稳定性。在纳米光子晶体制备中，氧化硅常用于制备光子晶体结构，如光子晶体波导。

3.硅氮化物（Si3N4）：硅氮化物是一种高折射率、高热稳定性的陶瓷材料。在纳米光子晶体制备中，硅氮化物可用于制备高折射率的光子晶体结构。

4.金（Au）和银（Ag）：金和银是常用的导电材料，具有较低的折射率和优异的导电性能。在纳米光子晶体制备中，金和银可用于制备导电波导和光子晶体结构。

二、基本材料处理

1.硅材料处理

（1）清洁处理：硅材料在制备纳米光子晶体前需进行清洁处理，以去除表面的有机物、尘埃等杂质。常见的清洁方法有超声波清洗、丙酮浸泡等。

（2）抛光处理：硅材料表面需要进行抛光处理，以提高光子晶体结构的表面质量。抛光方法有机械抛光、化学抛光等。

（3）刻蚀处理：根据纳米光子晶体结构设计，对硅材料进行刻蚀处理，形成所需的光子晶体结构。刻蚀方法有湿法刻蚀、干法刻蚀等。

2.氧化硅材料处理

（1）清洁处理：氧化硅材料在制备纳米光子晶体前需进行清洁处理，以去除表面的有机物、尘埃等杂质。常见的清洁方法有超声波清洗、丙酮浸泡等。

（2）氧化处理：为了提高氧化硅与硅基板的结合强度，需进行氧化处理。氧化方法有湿法氧化、热氧化等。

（3）刻蚀处理：根据纳米光子晶体结构设计，对氧化硅材料进行刻蚀处理，形成所需的光子晶体结构。刻蚀方法有湿法刻蚀、干法刻蚀等。

3.硅氮化物材料处理

（1）清洁处理：硅氮化物材料在制备纳米光子晶体前需进行清洁处理，以去除表面的有机物、尘埃等杂质。常见的清洁方法有超声波清洗、丙酮浸泡等。

（2）氧化处理：为了提高硅氮化物与硅基板的结合强度，需进行氧化处理。氧化方法有湿法氧化、热氧化等。

（3）刻蚀处理：根据纳米光子晶体结构设计，对硅氮化物材料进行刻蚀处理，形成所需的光子晶体结构。刻蚀方法有湿法刻蚀、干法刻蚀等。

4.金和银材料处理

（1）清洁处理：金和银材料在制备纳米光子晶体前需进行清洁处理，以去除表面的氧化层、尘埃等杂质。常见的清洁方法有超声波清洗、丙酮浸泡等。

（2）镀膜处理：为了提高金和银导电性能，需进行镀膜处理。镀膜方法有电镀、化学镀等。

（3）刻蚀处理：根据纳米光子晶体结构设计，对金和银材料进行刻蚀处理，形成所需的光子晶体结构。刻蚀方法有湿法刻蚀、干法刻蚀等。

综上所述，纳米光子晶体制备过程中的基本材料选择与处理对光子晶体性能具有重要影响。通过对硅、氧化硅、硅氮化物、金和银等材料进行清洁、氧化、刻蚀等处理，可以获得高质量、高性能的纳米光子晶体。第四部分光学性能分析

纳米光子晶体制备的光学性能分析

纳米光子晶体的制备与光学性能分析是当前纳米光子学领域研究的热点之一。纳米光子晶体作为一种具有特殊光子带隙（PhotonicBandGap,PBG）结构的复合材料，其在光学领域的应用前景广阔，包括光波导、滤波器、激光器、传感器等。本文将对纳米光子晶体的光学性能分析进行简要介绍。

一、纳米光子晶体的结构与制备

纳米光子晶体的结构主要由具有不同折射率的介质周期性排列组成。常见的纳米光子晶体结构包括一维（1D）、二维（2D）和三维（3D）结构。制备纳米光子晶体的方法主要有以下几种：

1.自组装法：通过分子识别、分子间相互作用等原理，使纳米颗粒在溶液中自发形成有序结构。自组装法具有成本低、环境友好等优点。

2.沉积法：利用物理或化学方法，将纳米颗粒沉积在基底材料上，形成周期性结构。沉积法包括电镀、蒸发、溅射等。

3.光刻法：利用光刻技术，将纳米光子晶体的结构转移到基底材料上。光刻法具有高的精度和重复性。

4.模板法：将纳米光子晶体的结构转移到模板上，然后通过刻蚀等方法制备纳米光子晶体。模板法具有制备周期短、可控性好等优点。

二、纳米光子晶体的光学性能分析

1.光子带隙（PBG）分析

光子带隙是纳米光子晶体的核心特性。通过计算不同结构参数下的光子带隙，可以分析纳米光子晶体的光学性能。

（1）一维纳米光子晶体的光子带隙：在一维纳米光子晶体中，光子带隙与周期性结构参数、纳米颗粒的折射率等密切相关。通过求解Maxwell方程组，可以得到一维纳米光子晶体的光子带隙。

（2）二维纳米光子晶体的光子带隙：二维纳米光子晶体的光子带隙与纳米颗粒的排列方式、周期性结构参数等因素相关。通过求解电磁场方程，可以得到二维纳米光子晶体的光子带隙。

（3）三维纳米光子晶体的光子带隙：三维纳米光子晶体的光子带隙与纳米颗粒的排列方式、周期性结构参数、介电常数等因素相关。通过求解电磁场方程，可以得到三维纳米光子晶体的光子带隙。

2.光学损耗分析

光学损耗是影响纳米光子晶体性能的重要因素。通过理论计算和实验测量，可以分析纳米光子晶体的光学损耗。

（1）理论计算：利用电磁场理论，计算纳米光子晶体的光学损耗。计算方法包括时域有限差分法（FDTD）、传输线矩阵法（TLM）等。

（2）实验测量：通过实验测量纳米光子晶体的传输光谱，分析光学损耗。实验方法包括光纤光谱仪、分光光度计等。

3.光学响应分析

纳米光子晶体的光学响应与光子带隙、光学损耗等因素密切相关。通过分析纳米光子晶体的光学响应，可以研究其在光学领域的应用。

（1）光波导特性：分析纳米光子晶体的光波导特性，包括波导损耗、模式色散等。

（2）滤波器特性：分析纳米光子晶体的滤波器特性，包括通带、阻带、滤波效果等。

（3）传感器特性：分析纳米光子晶体的传感器特性，包括灵敏度、响应速度等。

三、结论

纳米光子晶体的光学性能分析是当前纳米光子学领域研究的重要内容。通过对纳米光子晶体的结构、制备方法、光子带隙、光学损耗等进行分析，可以全面了解纳米光子晶体的光学特性，为纳米光子晶体在光学领域的应用提供理论依据。随着纳米光子晶体研究的不断深入，其在光学领域的应用将更加广泛。第五部分晶体稳定性研究

纳米光子晶体作为一种新型功能材料，在光学、光子学等领域具有广泛的应用前景。其独特的光子带隙特性使得纳米光子晶体在光波调控、高效光电器件等方面具有显著优势。然而，纳米光子晶体的稳定性研究对于其性能的稳定性和应用具有重要意义。本文将对纳米光子晶体稳定性研究进行综述。

一、材料稳定性研究

1.1材料选择

纳米光子晶体的稳定性研究首先需要选择合适的材料。目前，用于制备纳米光子晶体的材料主要包括氧化物、硫化物、卤化物等。其中，氧化物因其良好的光稳定性和热稳定性而被广泛研究。

1.2制备方法

纳米光子晶体的制备方法主要包括自组装法、溶胶-凝胶法、化学气相沉积法等。自组装法具有制备简单、易于实现的高度对称性等优点；溶胶-凝胶法具有较好的材料均匀性和易于控制的结构等特点；化学气相沉积法具有制备温度低、材料纯度高等优点。

二、晶体稳定性研究

2.1光稳定性研究

光稳定性是纳米光子晶体稳定性的重要指标之一。光稳定性主要表现在两个方面：一是材料本身的光稳定性能；二是纳米光子晶体的结构稳定性。

2.1.1材料的光稳定性能

材料的光稳定性能主要取决于其化学组成、晶体结构和表面性质。对于氧化物材料，其光稳定性能与其化学组成密切相关。例如，TiO2材料具有较高的光稳定性能，而SnO2材料的光稳定性能相对较差。此外，晶体结构和表面性质也会影响材料的光稳定性能。例如，具有高对称性和低表面能的晶体结构有利于提高材料的光稳定性能。

2.1.2纳米光子晶体的结构稳定性

纳米光子晶体的结构稳定性主要受制备方法和外界环境因素的影响。制备过程中，温度、压力、时间等参数的调控对晶体结构稳定性具有重要影响。此外，外界环境如温度、湿度、气体等也会对纳米光子晶体的结构稳定性产生一定影响。

2.2热稳定性研究

热稳定性是纳米光子晶体稳定性的另一个重要指标。热稳定性主要表现在材料的热膨胀系数、热导率、热稳定性等方面。

2.2.1材料的热膨胀系数

材料的热膨胀系数是反映其热稳定性的重要参数。对于纳米光子晶体，低热膨胀系数有利于提高其热稳定性。例如，SiO2材料具有较低的热膨胀系数，有利于提高纳米光子晶体的热稳定性。

2.2.2热导率

热导率是反映材料导热性能的重要参数。高热导率有利于提高纳米光子晶体的热稳定性。例如，Cu材料具有较高的热导率，有利于提高纳米光子晶体的热稳定性。

2.3机械稳定性研究

机械稳定性是纳米光子晶体在实际应用中必须考虑的指标。机械稳定性主要表现在材料的抗拉强度、抗压强度、弹性模量等方面。

2.3.1抗拉强度

抗拉强度是反映材料抗拉伸破坏能力的重要参数。高抗拉强度有利于提高纳米光子晶体的机械稳定性。

2.3.2抗压强度

抗压强度是反映材料抗压缩破坏能力的重要参数。高抗压强度有利于提高纳米光子晶体的机械稳定性。

2.3.3弹性模量

弹性模量是反映材料弹性性能的重要参数。高弹性模量有利于提高纳米光子晶体的机械稳定性。

三、总结

纳米光子晶体稳定性研究对于其性能的稳定性和应用具有重要意义。本文对纳米光子晶体稳定性研究进行了综述，主要包括材料稳定性研究、晶体稳定性研究等方面。通过对纳米光子晶体稳定性的深入研究，可以为纳米光子晶体的制备和应用提供理论依据和技术支持。第六部分制备过程中缺陷控制

纳米光子晶体的制备过程中，缺陷控制是关键环节之一。缺陷的存在会影响光子晶体的光学性能和稳定性，因此，精确控制制备过程中的缺陷，对于提高纳米光子晶体的性能具有重要意义。本文综述了纳米光子晶体制备过程中缺陷控制的相关研究进展。

1.原材料选择与制备

纳米光子晶体的制备首先需要选择合适的原材料。原材料的质量直接影响最终产品的性能。目前，常用的纳米光子晶体原材料有二氧化硅、氧化铝、氧化钛等。在制备过程中，应严格控制原材料的纯度和粒度分布，以确保制备出高质量的纳米光子晶体。

1.1二氧化硅

二氧化硅是一种常用的纳米光子晶体原材料，其制备方法主要包括溶胶-凝胶法、化学气相沉积法等。在溶胶-凝胶法中，通过调节硅源、水、醇和催化剂的摩尔比，可以得到不同粒径和分散性的二氧化硅纳米颗粒。研究表明，二氧化硅纳米颗粒的直径在数十纳米到几百纳米范围内时，具有良好的光子晶体特性。

1.2氧化铝

氧化铝的制备方法有化学气相沉积法、溶胶-凝胶法等。其中，化学气相沉积法是目前制备高纯度氧化铝纳米颗粒的主要方法。通过调节反应条件，可以得到不同粒径和分散性的氧化铝纳米颗粒。研究表明，氧化铝纳米颗粒的直径在数十纳米到几百纳米范围内时，具有良好的光子晶体特性。

1.3氧化钛

氧化钛的制备方法有溶胶-凝胶法、水热法等。溶胶-凝胶法是一种简单易行的制备方法，通过调节反应条件，可以得到不同粒径和分散性的氧化钛纳米颗粒。研究表明，氧化钛纳米颗粒的直径在数十纳米到几百纳米范围内时，具有良好的光子晶体特性。

2.缺陷控制方法

在纳米光子晶体制备过程中，缺陷主要来源于以下几个方面：原材料质量、制备工艺、后处理工艺等。针对这些缺陷来源，以下列出几种缺陷控制方法。

2.1材料质量控制

严格控制原材料的纯度和粒度分布，是保证纳米光子晶体质量的基础。在采购原材料时，应选择知名度高、质量稳定的生产厂家。对于已经购入的原材料，需进行严格的检测，确保其满足制备要求。

2.2制备工艺控制

制备工艺对纳米光子晶体质量影响较大。以下列举几种常见的制备工艺及其缺陷控制方法：

2.2.1溶胶-凝胶法

在溶胶-凝胶法中，通过调节硅源、水、醇和催化剂的摩尔比，可以得到不同粒径和分散性的二氧化硅纳米颗粒。为了控制缺陷，应优化反应条件，如温度、pH值、反应时间等。此外，合理选择催化剂和稳定剂，有助于提高材料的纯度和均匀性。

2.2.2化学气相沉积法

化学气相沉积法中，通过调节反应温度、气体流量和压力等参数，可以得到不同粒径和分散性的氧化铝纳米颗粒。为了控制缺陷，应优化反应条件，如反应温度、气体流量、沉积时间等。

2.2.3水热法

水热法是一种绿色、高效的制备方法。为了控制缺陷，应优化反应条件，如反应温度、反应时间、pH值等。此外，选择合适的反应介质和添加剂，有助于提高材料的纯度和均匀性。

2.3后处理工艺控制

后处理工艺对纳米光子晶体质量也具有重要影响。以下列举几种常见的后处理工艺及其缺陷控制方法：

2.3.1烧结工艺

烧结工艺是提高纳米光子晶体材料密度的关键步骤。为了控制缺陷，应优化烧结温度、保温时间和升温速率等参数。此外，合理选择烧结气氛，有助于提高材料的均匀性和稳定性。

2.3.2表面处理工艺

表面处理工艺可以改善纳米光子晶体的表面性能。常见的表面处理方法有等离子体处理、阳极氧化等。为了控制缺陷，应优化处理参数，如处理时间、温度、气体流量等。

综上所述，纳米光子晶体制备过程中缺陷控制是提高产品质量的关键。通过严格控制原材料质量、优化制备工艺和后处理工艺，可以有效降低缺陷产生，提高纳米光子晶体的性能。随着纳米光子晶体制备技术的不断发展，有望在各个领域得到广泛应用。第七部分应用领域与前景展望

纳米光子晶体作为一种新型的人工微结构材料，近年来在光子学、光学和微纳加工等领域得到了广泛的关注。以下为《纳米光子晶体制备》一文中关于“应用领域与前景展望”的内容介绍：

一、光学领域

1.光学传感器

纳米光子晶体具有优异的光学特性，如高折射率、小尺寸和低损耗等，使其在光学传感器领域具有广阔的应用前景。例如，纳米光子晶体可以用于制作高灵敏度、快速响应的光学传感器，如生物传感、环境监测等。

2.光学通信与光信号处理

纳米光子晶体在光学通信领域具有极高的传输速率和较低的损耗，有望实现高速率、低成本的通信系统。此外，纳米光子晶体还可以应用于光信号处理，如光滤波、光开关等。

3.光学成像与光学显示

纳米光子晶体在光学成像和光学显示领域具有独特优势。例如，通过调节纳米光子晶体的结构参数，可以实现超分辨率成像、全息成像和新型光学显示技术。

二、光电子领域

1.光电器件

纳米光子晶体在光电器件领域具有广泛的应用前景。例如，纳米光子晶体可以用来制作高性能的光电探测器、光放大器和光开关等。

2.光子集成电路

纳米光子晶体在光子集成电路领域具有显著优势。通过将纳米光子晶体与硅基光电子技术相结合，可以实现高性能、低功耗的光子集成电路。

三、生物医学领域

1.生物成像与生物检测

纳米光子晶体在生物医学领域具有广泛的应用前景。如通过将纳米光子晶体应用于生物成像和生物检测，可以实现高灵敏度、高特异性的生物分析。

2.医疗治疗与药物递送

纳米光子晶体在医疗治疗和药物递送领域具有潜在应用价值。例如，纳米光子晶体可以用来制作光热治疗和光动力治疗等新型治疗方法。

四、前景展望

1.纳米光子晶体制备技术

随着纳米光子晶体制备技术的不断进步，有望实现更高性能、更低成本的材料。例如，采用新型光刻技术和纳米加工技术，可以制备出具有复杂结构的纳米光子晶体。

2.多领域应用拓展

纳米光子晶体在多个领域具有广泛应用前景，未来有望进一步拓展其应用范围。例如，在环境监测、能源转换等领域，纳米光子晶体可以发挥重要作用。

3.深度研究与应用结合

纳米光子晶体研究需要与实际应用紧密结合，以实现其潜在价值。未来，纳米光子晶体研究应注重跨学科合作，推动纳米光子晶体技术在各领域的广泛应用。

总之，纳米光子晶体作为一种具有卓越性能的新型材料，在光学、光电子、生物医学等领域具有广阔的应用前景。随着纳米光子晶体制备技术的不断进步和跨学科研究的深入发展，纳米光子晶体将在未来科技发展中发挥越来越重要的作用。第八部分技术挑战与解决方案

纳米光子晶体作为一种新型光子器件材料，在光通信、光学传感、生物医疗等领域具有广阔的应用前景。然而，在制备纳米光子晶体过程中，存在着诸多技术挑战，本文将针对这些挑战进行分析，并提出相应的解决方案。

一、技术挑战

1.制备工艺复杂

纳米光子晶体的制备涉及多个工艺步骤，包括光刻、蚀刻、沉积等。这些步骤对设备精度、环境要求以及操作人员的技术水平都有较高要求。此外，工艺过程中产生的缺陷、残余应力等问题也会影响器件的性能。

2.材料选择范围有限

纳米光子晶体制备过程中，对材料的选择非常严格。一方面，材料需要具备良好的光学性能，如高折射率对比度、低损耗等；另一方面，材料应具有良好的化