CN113169220B 显示装置和制造显示装置的方法 （三星显示有限公司）

2021.06.10PCT/KR2019/0123212019.09.23WO2020/122377KO2020.06.18US2011108705A1,2011.05.12KR20180076688A,2018.07.06接设置在第一绝缘层上并且具有限定在与所述2第二绝缘层，直接设置在所述第一绝缘层上并且具有限定3.根据权利要求2所述的显示装置，所述显示装置还包括设置在所述第一导电层与所连接部分通过所述触摸接触孔电连接到所述传感3在所述掩模上形成具有高于所述第一折射率的第二其中，形成所述掩模的步骤包括在所述第二初始层的在平其中，所述掩模和所述第一绝缘层形成在所4[0001]本公开在此涉及一种具有改善的光效率的显示装置以及一种制造具有改善的工[0002]显示装置可以被分为其中发光元件通过其自身来发光的自发光显示装置或者控制所接收的光的透射率的光接收显示装置。自发光显示装置可以是例如有机发光显示装[0009]在其它实施例中，还可以包括设置在第一导电层与第二导电层之间的层间绝缘5[0016]在更进一步的实施例中，第一绝缘层可以被进一步限定为具有多个第一辅助开[0017]在更进一步的实施例中，第二绝缘层可以被进一步限定为具有多个第二辅助开[0019]在更进一步的实施例中，第一折射率为约1.45至约1.55，并且第二折射率为约辅助掩模开口一对一地对应于多个掩模开口并且围绕所的光可以在低折射率层与高折射率层之间的边界处被折射或全反射，从而改变光的路径。6[0038]图10是示出根据本发明的实施例的沿着与图6的线I-I'对应的线截取的一部分的[0039]图11是示出根据本发明的实施例的沿着与图7的线II-II'对应的线截取的一部分为在上下文中与相关领域中的含义相匹配，并且不应以理想化或过于正式的含义进行解7[0056]其中显示图像IM的显示区域DA平行于由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平作为显示装置DD的厚度方向的显示区域DA的法线方向由第三方向DR3来表示。通过第三方[0057]非显示区域NDA是与显示区域DA相邻且其中不显示图像IM的区域。显示装置DD的由构造A提供的基体表面上通过连续的工艺来[0064]显示面板DP和直接设置在显示面板DP上的输入感测层ISL的组合可以被定义为显8[0065]显示面板DP显示图像。输入感测层ISL获得外部输入(例如，触摸事件)的坐标信说明的图2b至图2d的显示装置DD也可以进一步[0066]根据本发明的实施例的显示面板DP可以是发光显示面板，并且不受具体地限[0067]防反射面板RPP降低从窗面板WP的上表面入射的外部光的反射率。根据本发明的实施例的防反射面板RPP可以包括延迟器和偏振器。延迟器可以是膜型延迟器或液晶涂覆滤色器的布置可以考虑到包括在显示面板DP中的像素的发光颜色来确定。防反射面板RPP[0070]根据本发明的实施例的窗面板WP包括基体层WP-BS和遮光图案WP-BZ。基体层WP-区域被定义为遮光区域，并且其中未设置有遮光图案WP-BZ的区域被定义为窗面板WP的透9防反射层RPL和窗层WL通过连续的工艺设置在由显示面板DP提供的基体表面上。输入感测[0077]显示区域DP-DA可以被定义为其中设置有像素PX的区域。每个像素PX包括有机发[0078]驱动电路GDC可以包括扫描驱动电路。扫描驱动电路产生多个扫描信号(在下文素PX的驱动电路的工艺相同的工艺(例如，低温多晶硅(LTPS)工艺或低温多晶氧化物[0082]信号线SGL与显示区域DP-DA和非显示区域DP-NDA叠置。信号线SGL可以包括垫部[0085]有机发光二极管OLED可以响应于从像素电路CC供应的电流的量而发射具有预定[0087]第一晶体管T1的第一电极经由第五晶体管T5连接到第一电源ELVDD，第一晶体管T1的第二电极经由第六晶体管T6连接到有机发光二极管OLED的阳极电极。在本说明书中，[0088]第一晶体管T1响应于施加到第一晶体管T1的控制电极的电压来控制流过有机发[0090]第三晶体管T3连接在第一晶体管T1的第二电极与第一晶体管T1的控制电极之[0093]第六晶体管T6连接在第一晶体管T1的第二电极与有机发光二极管OLED的阳极电[0094]第七晶体管T7连接在初始化电力产生单元(未示出)与有机发光二极管OLED的阳[0098]电容器CP设置在电力线PL与节点ND之间。电容器CP存储与数据信号对应的电晶体管TR可以是图4中所示的第一晶体管T1。晶体管TR可以包括半导体层ACL、控制电极[0106]控制电极GED可以设置在第一电路绝缘层L1上。第二电路绝缘层L2设置在第一电[0108]第四电路绝缘层L4设置在第三电路绝缘层L3上，并且可以覆盖第一电极ED1和第[0111]限定图案PDP可以设置在电路层ML上并且限定像素区域PXA。限定图案PDP覆盖第为像素限定图案或像素限定膜。此外，如图5中所示，非发光区域NPXA可以围绕像素区域[0114]第二电极E2可以设置在发光层EM和限定图案PDP上。第二电极E2可以接收第二电的另一实施例中，覆盖第二电极E2的覆盖层可以进一步设置在封装层TFE与第二电极E2之第二电极E2免受后续工艺(诸如溅射工艺)的影响，并且改善发光元件层EL的光输出效率。覆盖层可以具有比稍后描述的第一无机层ECL1的[0116]封装层TFE可以包括顺序地堆叠的第一无机层ECL1、有机层ECL2和第二无机层[0120]输入感测层ISL可以包括与图3中所示的显示面板DP的显示区域DP-DA对应的感测[0121]输入感测层ISL可以包括：第一感测电极EG1；第二感测电极EG2；第一信号线组[0122]图6示例性地示出了第一信号线组SG1和第二信号线组SG2设置为使得感测区域[0123]第一感测电极EG1和第二感测电极EG2设置在感测区域IS-DA中。第一信号线组[0124]在本实施例中，输入感测层ISL可以是以互电容方法来感测外部输入的电容式触极EG1和第二感测电极EG2中的另一个将第一感测电极EG1与第二感测电极EG2之间的变化[0125]每个第一感测电极EG1沿着第二方向DR2延伸。第一感测电极EG1通过在第一方向[0126]第一感测电极EG1可以包括第一传感器部分SP1和第一连接部分CP1。第一传感器[0127]第二感测电极EG2可以包括第二传感器部分SP2和第二连接部分CP2。第二传感器[0128]第一信号线组SG1、第二信号线组SG2和第三信号线组SG3可以电连接到对应的信[0130]示出了显示面板DP(见图5)的第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域PXA-G之间的布置关系。第一像素区域PXA-R、第二像素区域PXA-B和第三像素区域[0132]参照图3描述的多个像素PX可以包括产生红光的红色像素、产生蓝光的蓝色像素[0133]第一像素区域PXA-R和第二像素区域PXA-B可以沿着第一方向DR1和第二方向DR2并且第三开口OP-MG可以限定在与第三像素区域PXA-G[0139]第一导电层CL1可以设置在缓冲层BFL-I上。第一导电层CL1可以包括第一连接部[0140]层间绝缘层IL-C可以设置在第一导电层CL1上。层间绝缘层IL-C可以包含无机材[0142]第一传感器部分SP1之中彼此相邻的两个第一传感器部分SP1可以连接到一个第[0144]第一绝缘层IL1可以设置在第二导电层CL2上。第一绝缘层IL1可以具有第一折射无机材料可以是氮化硅。可以用可以通过低温工艺沉积的各种有机材料来代替无机材料。定在与第二像素区域PXA-B叠置的区域中的第二透镜开口OPL-MB以及限定在与第三像素区域PXA-G叠置的区域中的第三透镜开口[0150]第三绝缘层IL3可以设置在第二绝缘层IL2上。第三绝缘层IL3可以具有第二折射第三绝缘层IL3可以包含与第一有机材料的材料相同的材料和改善折射率的材料。该材料射率与第一折射率之间的差可以为约0.1或更大。第一折射率和第二折射率的范围作为示[0152]第三绝缘层IL3可以填充第一透镜开口OPL-MR、第二透镜开口OPL-MB和第三透镜[0153]从发光元件层EL提供的光可以在正面方向上(例如，在第三方向DR3上)以及在侧[0156]图10是示出根据本发明的实施例的沿着与图6的线I-I'对应的线截取的一部分的剖视图。图11是示出根据本发明的实施例的沿着与图7的线II-II'对应的线截取的一部分[0158]第一导电层CL1可以设置在缓冲层BFL-I上。第一导电层CL1可以包括第一连接部[0159]第一绝缘层IL1a可以设置在第一导电层CL1上，并且第二绝缘层IL2a可以设置在[0160]第一绝缘层IL1a具有第一折射率，并且第一绝缘层IL1a可以包含第一有机材[0162]在第二绝缘层IL2a中，多个第二开口可以限定在与多个第一开口对应的区域[0163]第一开口OPa1和第二开口OPb1可以被称为第一透镜开口OPL-MR1。根据本发明的实施例，在剖面上，第一透镜开口OPL-MR1可以限定在第一导电层CL1与第二导电层CL2之[0165]第一传感器部分SP1之中彼此相邻的两个第一传感器部分SP1可以连接到一个第一连接部分CP1。两个第一传感器部分SP1可以通过限定在第一绝缘层IL1a和第二绝缘层IL2a中的触摸接触孔HL-C连接到第一连接部分CP1。触摸接触孔HL-C可以包括限定在第一绝缘层IL1a中的第一触摸接触孔HLa和限定在第二绝缘层IL2a中的第二触摸接触孔H[0166]图12是根据本发明的实施例的与图6的区域AA对应的区域的放大平面图。图13是述将侧重于与图7和图9中描述的部分不同[0169]第一辅助开口SOPa可以被限定为围绕第一开口OPa。第二辅助开口SOPb可以限定在与第一辅助开口SOPa对应的区域(例如，在平面上与第一辅助开口SOPa叠置的区域)中。[0176]多个像素区域PXA1、PXA2和PXA3中的每个可以对应于以上参照图7描述的第一像通过使光致抗蚀剂层图案化来形成光致抗蚀剂图案PRP。图案化可以包括曝光工艺和显影以在使第一初始层BIL1图案化的工艺期间去除光致抗蚀剂图案PRP，或者可以通过使用单[0183]可以在第一绝缘层IL1中形成第一开口OPa。第一开口OPa可以在平面上与多个像[0184]根据本发明的实施例，当形成第一开口OPa时，可以使用由无机材料构成的掩模[0191]在第一初始层BIL1x上形成第二初始层(未示出)，并且在第二初始层上形成光致抗蚀剂层(未示出)。对光致抗蚀剂层(未示出)进行曝光和显影以形成光致抗蚀剂图案[0192]可以在掩模IL2b中形成掩模开口OPb和辅助掩模开口SOPb。辅助掩模开口SOPb可[0193]参照图15b，通过使用掩模IL2b以使第一初始层BIL1x图案化来形成第一绝缘层IL1b。使第一初始层BIL1x图案化的工艺可以包括蚀刻工艺。蚀刻工艺可以是干法蚀刻工[0194]可以在第一绝缘层IL1b中形成第一开口OPa和第一辅助开口SOPa。一个第一辅助[0200]通过使用光致抗蚀剂图案PRPy以使第二初始层BIL2y图案化来形成掩模IL2a。掩模IL2a也可以被称为第二绝缘层IL2a。在掩模IL2a中可以形成被限定为与像素区域PXA1、PXA2和PXA3对应的开口OPb1以及与第一连接部分CP1叠置的触摸接触孔HL[0201]参照图16d，通过使用掩模IL2a以使第一初始层BIL1y图案化来形成第一绝缘层[0202]参照图16e，第一绝缘层IL1a的触摸接触孔HLa和掩模IL2a的触摸接触孔HLb可以可以贯穿一个触摸接触孔以接触第一连接部分CP1，并且另一个相邻的第一传感器部分可