CN113823547B 收纳装置、基片处理系统和消耗部件的输送方法 (东京毅力科创株式会社)_第1页
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文档简介

JP2017112337A,2017US2005011944A1,2005.2旋转部,其基于由所述传感器检测出的所述消耗部件的方向,使所述大气输送机器人能够输送配置于所述端阜的所述盒输送装置,其与所述负载锁定装置连接,具有将所述基片输送到所旋转部,其基于由所述传感器检测出的所述消耗部件的方向,使所述7.一种消耗部件的输送方法,所述消耗部件在将所述收纳装置的门和闸门关闭的状态下,将收纳有所述对所述收纳装置内进行抽真空并且用吹扫气体进行调将位于所述收纳部的上部的载置台移动至与所述闸门相对的3将所述真空输送机器人获取到的所述消耗部件载置在所述载所述真空输送机器人从所述载置台获取所述消耗部4[0002]在对基片处理系统的基片进行处理的处理装置中,随着处理而腔室内的边缘环、下,进行消耗部件的对位(位置对准),因此,需要收纳消耗部件的收纳部和进行对位向平面(orientationflat)对位到一定方向的[0008]本发明提供能够减少所占空间(footprint)的收纳装置、基片处理系统和消耗部5机械臂盒窗门6[0058]图1是表示本发明的第1实施方式中的基片处理系统的一例的横截俯视图。图1所外,在以下的说明中,将真空输送室11a、11b表示为VTM(VacuumTransferModule)11a、11b,将处理装置13表示为PM(ProcessModule)13,将负载锁定装置15表示为LLM(Load器120载置边缘环等消耗部件,能够在PM13与收纳装置22之间输送消耗部件。机械臂12a、作台相对的处理室内的上部设置有用于施加高频电至大气压而向EFEM18送入晶片。LLM15和VTM11a由可开闭的闸门16分隔。此外,LLM15和7了对位的消耗部件,由机械臂12b输送到PM13。VTM11b和收纳装置22由可开闭的闸门23分[0069]图2是表示第1实施方式中的收纳装置的一例的正视截面图。图2是从VTM11b侧观[0070]在腔室30内设置有具有工作台31和设置于工作台31的下部的箱体34的储存器3器32和驱动滚珠丝杠36的电机38。在腔室30与机械室40之间设置有由石英等构成的窗41,以使得线传感器32能够接收后述的发光部台31通过内置在载置面的正下方的旋转部能够向θ方向旋转,使所载置的消耗部件例如边向。线传感器32例如为CCD(ChargeCoupledDevice:电荷耦合器件)或者CMOS8[0075]图3是表示第1实施方式中的收纳装置的一例的侧视截面图。图3是以图中左侧成[0076]在储存器39从腔室30的底面侧使盒35移动至与闸门23相对的位置等的上部为止9[0089]控制装置100在储存器39移动到第2位置时,将避让到VTM11b的拾取器120和边缘50载置到工作台31而正在向VTM11[0093]控制装置100在储存器39移动到第2位置时,将避让到VTM11b的拾取器120插入腔[0097]图10是表示第2实施方式中的收纳装置的一例的正视截面图。图10所示的收纳装置22a与第1实施方式的收纳装置22相比,代替腔室30和机械室40而具有腔室70和机械室图像,检测边缘环50的定向平面。图像传感器72例如为使用CCD或者CMOS等传感器的摄像耗部件的收纳部(盒35)移动至与闸门23相对的位置的步骤。控制装置100执行对收纳装置22(腔室30)内进行抽真空并且用吹扫气体进行调压的步骤。控制装置100执行将闸门23打收纳部的上部的载置台(工作台31)移动至与闸门23相对的位置的步骤。控制装置100执行将真空输送机器人获取到的消耗部件载置在载置台的步骤。控制装置100执行使载置台移各实施方式在不脱离所附的权利要求的范围及其主旨的情况下,能够以各种方式进行省座74的旋转使收纳于盒35的最上部的边缘环50的方向

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