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文档简介
皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤一种皮秒激光光学元件的全角度真空激光在线CCD成像系统和待测光学元件放置角度固方便地实现了真空环境中皮秒激光光学元件的测试方法,并结合多脉冲辐照考察损伤的稳定2所述光学元件固定系统,包括圆形真空腔体(124)、位于该圆形真空腔体(1量分析仪(111)以及位于所述待测光学元件(123)的法线方向且与所述圆形真空腔体(124)相连的在线CCD成像系统(125),所述计算机(112)分别与所述能量调节器(102)、快门所述皮秒激光器(101)输出的激光依次经过能量调节器(102)、快门(103)和半波片(115)辐照所述待测光学元件(123)表面,经该待测光学元件(123)衍射的衍射光通过所述(122)辐照所述待测光学元件(123)表面,经该待测光学元件(123)透射的透射光通过所述经所述第一单面增透膜(105)反射的反射光入射到所述第二单面增透膜(108)透射的透射光入射到所述能量计(110),经该第二单面增透膜(108)反2.根据权利要求1所述的皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装置,其33.根据权利要求1所述的皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装置,其4.根据权利要求1‑3任一所述的皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装置,其特征在于,所述能量调节器(102)用于改变光路中传输激光的能量大小,所述快门5.根据权利要求1‑3任一所述的皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装6.利用权利要求1‑5任一所述的皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装②计算机(112)控制皮秒激光器(101)以最优固定频率出光,将圆形真空腔体(124)抽③计算机(112)控制所述能量调节器(102)调节激光能量使得辐照所述待测光学元件④计算机(112)设置光学元件固定装置的运动轨迹和水平方向的运动速度,使辐照在待测光学元件(123)的激光光斑在~1cm2的测试区域内按照峰值能量密度的⑤计算机(112)控制所述快门(103)打开,同时控制所述能量计(110)和所述光束质量⑥计算机(112)控制在线CCD成像系统(125)实时诊断所述待测光学元件(123)损伤与⑦当计算机(112)检测到所述待测光学元件(123)的运行到④中设置的运动轨迹的最⑧计算机(112)统计所述1cm2测试区域内出现的损伤点数D及其损伤点的位置坐标:若机(112)控制所述待测光学元件(123)按照记录的损伤点位置坐标依次定位到损伤点并控⑨移动所述待测光学元件(123)至下一个测试区域,所述4⑩画出损伤点数D随能量密度F变化的曲线,并给出所述待测光学元件(123)损伤点的5光学元件的法线方向且与所述圆形真空腔体相连的在线CCD成像系统,所述计算机分别与6[0018]利用所述的皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装置进行皮秒激[0021]③计算机控制所述能量调节器调节激光能量使得辐照所述待测光学元件的初始激光能量密度不超过所述待测光学元件的皮秒本测光学元件的激光光斑在~1cm2的测试区域内按照峰值刻辐照于所述待测光学元件的能量与所述能量7[0025]⑦当计算机检测到所述待测光学元件的运行到④中设置的运动轨迹的最后一个[0026]⑧计算机统计所述1cm2测试区域内出现的损伤点数D及其损伤点的位置坐标。若机控制所述待测光学元件按照记录的损伤点位置坐标依次定位到损伤点并控制所述快门[0030]①本发明与真空环境相关的在线CCD成像系统和待测光学元件放置角度固定,将[0034]图1是皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装置的光路图。图中8111以及位于所述待测光学元件123的法线方向且与所述圆形真空腔体124相连的在线CCD[0045]所述皮秒激光器101输出的激光依次经过能量调节器102、快门103和半波片104二单面增透膜108透射的透射光入射到所述能量计110,经该第二单面增透膜108反射的发9面,经该待测光学元件123衍射的衍射光通过所述63。衍射光管道116由第二吸收池117吸[0053]利用所述皮秒激光光学元件的全角度真空激光损伤阈值测试装置进行皮秒激光[0054]①计算机112按测试需求控制偏振片106选择三种状态中的一种:旋转到-57.5、[0055]②计算机112控制皮秒激光器101以最优固定频率出光,将圆形真空腔体(124)抽[0056]③计算机112控制所述能量调节器102调节激光能量使得辐照所述待测光学元件[0057]④计算机112设置光学元件固定装置的运动轨迹和水平方向的运动速度,使辐照在待测光学元件123的激光光斑在~1cm2的测试区域内按照峰值能量[0058]⑤计算机112控制所述快门103打开,同时控制所述能量计110和所述光束质量分[0060]⑦当计算机112检测到所述待测光学元件123的运行到④中设置的运动轨迹的最[0061]⑧计算机统计所述1cm2测试区域内出现的损伤点数D及其损伤点的位置坐标。若机112控制所述待测光学元件123按照记录的损伤点位置坐标依次定位到损伤点并控制所[0063]⑩画出损伤点数D随能量密度F变化的曲线,并给
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