CN119404150A 用于确定物理量的方法和设备 （Asml荷兰有限公司）

2024.12.23PCT/EP2023/0637292023.05.23WO2023/247125EN2023.12.28用被配置成对多个位置进行并行采样的传感器所述标记中的至少一个标记的第一部分和所述第二部分相对于其它标记的第一部分和所述第21.一种确定物理量的方法，所述方法使用被配置成对多个位置进行采样的传感器系其中，每个物体平面图案形成装置包括第一部分和第二部分的第一部分和所述第二部分相对于其它物体平面图案形成装置的第一部分和所述第二部使用每个物体平面图案形成装置的第一部分并在第一方向上执行第一测量以便产生使用每个物体平面图案形成装置的第二部分并在所述第一方向上执行第二测量以便使用每个物体平面图案形成装置的第一部分并在第二方向上执行第三测量以便产生使用每个物体平面图案形成装置的第二部分并在所述第二方向上执行第四测量以便4.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，所述物体平面图5.根据任一前述权利要求所述的方法，其并且其中，所述第二方向包括平行于所述第一剪切方向的分量和所述一个方向的平行于所述第一剪切方向的分量的正负号与所述一个方向的平行于所述得所述另一个方向的平行于所述第一剪切方向的分量的正负号与所述另一个方向的平行3成装置，所述第二图案形成装置能够定位成从所述多个物体平面图案形成装置接收辐射；和其中，所述多个图像平面传感器包括被布置成从所述多个第组合所述第一数据集与所述第二数据集以便针对每个被采样位置确定至少一个第一组合所述第三数据集与所述第四数据集以便针对每个被采样位置确定至少一个第二组合针对每个被采样位置的所确定的第一物理参数与针对每个被采样位置的所确定射的强度变化所引起的所确定的第一物理参数和所确定的第二物理15.根据权利要求13所述的方法，其中，所述物理量包括投影系统的一个或更多个像组合针对每个被采样位置的所确定的在所述第一方向上的第一波前倾斜系数和针对每个被采样位置的所确定的在所述第一方向上的第二波前倾斜系数以便形成针对每个被第一波前倾斜系数和所确定的在所述第一方向上的第二波前倾斜系数方向上的第一波前倾斜系数和针对每个采样位置的所确定的在所述第一方向上的第二波前倾斜系数以便形成针对每个采样位置的在所述第一方向上的输出以下各项之间的差异的用于每个采样位置的均方根a）所确定的在所述第一方向上4以下各项之间的差异的用于每个采样位置的均方根a）所确定的在所述第一方向上组合所述第一数据集与所述第二数据集以便对于每个采样位置确定在所述第二方向组合所述第三数据集与所述第四数据集以便对于每个采样位置确定在所述第二方向组合针对每个采样位置的所确定的在所述第二方向上的第一波前倾斜系数和针对每个采样位置的所确定的在所述第二方向上的第二波前倾斜系数以便形成针对每个采样位前倾斜系数和所确定的在所述第二方向上的第二波前倾斜系数方向上的第一波前倾斜系数和针对每个采样位置的所确定的在所述第二方向上的第二波前倾斜系数以便形成针对每个采样位置的在所述第二方向上的输出以下各项之间的差异的用于多个采样位置的均方根a）所确定的在所述第二方向上以下各项之间的差异的用于多个采样位置的均方根a）所确定的在所述第二方向上在所述多个图像平面传感器中的不同的图像平面传感器的图案形成装置上形成所述所述多个物体平面图案形成装置或所述相应的多个图像平面传感器中的至少一个扫5面中的一对位置之间的在所述辐射检测器上的所述多个位置中的每个位置处的像差映射在剪切方向上分离对应于两个邻近的第一衍射束之间的在光瞳平面中的距离的两倍的剪括被配置成促使计算机执行根据权利要求1至25中的任一项所述的方法的计算机可读指理器可读指令包括被布置成控制所述计算机以执行根据权利要求1至25中的任一项所述的多个物体平面图案形成装置，所述多个物体平面照射系统，所述照射系统被布置成利用辐射照射所述在对应于所述光栅的第一定向的调制方向上被分离且来自所述第二组图案形成装置中的每个图案形成装置的第一衍射束在对应于所述光栅的第二定向的调所述照射系统被配置成在所述图像平面传感器的图案形成装置上形成所述多个物体平面图案形成装置中的每个物体平面图案形成装置的图像以便从所述第一衍射束中的每定位设备，所述定位设备被配置成在第一方向或第二方向上移多个物体平面图案形成装置，所述多个物体平面照射系统，所述照射系统被布置成利用辐射照射所述在对应于所述第一定向的调制方向上被分离且来自所述第二组图案形成装置中的每个图6多个图像平面传感器，每个图像平面传感器包括所述照射系统被配置成在所述图像平面传感器的图案形成装置上形成所述多个物体平面图案形成装置中的每个物体平面图案形成装置的图像以便从所述第一衍射束中的每定位设备，所述定位设备被配置成在第一方向或第二方向上移7[0002]本申请要求于2022年6月23日递交的欧洲申请[0003]本发明涉及用于确定一个或更多个物理量的方法和用于执行所述方法的相关联案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定被图案化于衬底上的使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备，使用具有在4nm至20nm的范围内的波长征。8面图案形成装置的第一部分和第二部分相对于其它物体平面图案形成装置的第一部分和[0014]至少一个物体平面图案形成装置的定向可以正交于其它物体平面图案形成装置二方向中的每个方向包括平行于第一剪切方向的分量和平行于第二剪切方向的分量的情且第一方向和第二方向中的另一个方向使得所述另一个方向的平行于第一剪切方向的分9的每个图像平面传感器可以包括能够定位成从多个物体平面图案形成装置中的相应的物[0020]组合针对每个被采样位置的所确定的第一物理参数与针对每个被采样位置的所变化所引起的所确定的第一物理参数和第二物理参数合针对每个被采样位置的在第一方向上的所确定的第一波前倾斜系数与针对每个被采样位置的在第一方向上的所确定的第二波前倾斜系数以便形成针对每个被采样位置的在第斜系数与针对每个采样位置的在第一方向上的所确定的第二波前倾斜系数以便形成针对数与第二常量乘以+1的乘积之和，以及对于物体平面图案形成装置的光栅结构的第二部一波前倾斜系数与针对每个采样位置的在第二方向上的所确定的第二波前倾斜系数以便波前倾斜系数和在第二方向上的所确定的第二波前倾斜系数斜系数与针对每个采样位置的在第二方向上的所确定的第二波前倾斜系数以便形成针对每个采样位置的在第二方向上的输出波前倾斜系数包括：执行最小二乘拟合以同时最小在多个图像平面传感器中的不同的图像平面传感器的图案形成装置上形成多个物体平面[0029]所述振荡信号的谐波等于在投影系统的光瞳平面中的一对位置之间的在辐射检测器上的所述多个位置中的每个位置处的像差映射的差，振荡信号的谐波可以是第一谐[0030]投影系统的光瞳平面中的所述一对位置可以在剪切方向上分离对应于两个邻近的每个图案形成装置的第一衍射束在对应于所述第一定向的调制方向上被分离且来自所述第二组图案形成装置中的每个图案形成装置的第一衍射束在对应于所述第二定向的调所述照射系统被配置成在所述图像平面传感器的图案形成装置上形成多个物体平面图案形成装置中的每个物体平面图案形成装置的图像以便从第一衍射束中的每个第一衍射束于所述第一定向的调制方向上被分离且来自所述第二组图案形成装置中的每个图案形成系统被配置成在所述图像平面传感器的图案形成装置上形成多个物体平面图案形成装置中的每个物体平面图案形成装置的图像以便从第一衍射束中的每个第一衍射束形成多个[0040]图2是根据本发明的实施例的[0041]图3A和图3B是可以形成图2的测量系统的部件的图案形成装置和传感器设备的[0043]图5示出使用用于物体平面图案形成装置的混合标记的图3A中示出的类型的测[0044]图6是根据本发明的实施例的确定投影系统的一个或更多个像差的新方法的示[0045]图7示出相位扫描测量的示例性集合，所述示例性集合可以表示在图6中示出的[0046]图8A示出针对图6中示出的方法的第一测量步骤的归因于强度波动的由图5中示出的物体水平图案形成装置表示的示例性七个场点中的每个场点的强度相关性（实线箭[0047]图8B示出针对图6中示出的方法的第二测量步骤的归因于强度波动的由图5中示出的物体水平图案形成装置表示的示例性七个场点中的每个场点的强度相关性（实线箭[0048]图8C示出针对图6中示出的方法的第三测量步骤的归因于强度波动的由图5中示出的物体水平图案形成装置表示的示例性七个场点中的每个场点的强度相关性（实线箭[0049]图8D示出针对图6中示出的方法的第四测量步骤的归因于强度波动的由图5中示出的物体水平图案形成装置表示的示例性七个场点中的每个场点的强度相关性（实线箭括可编程反射镜阵列和可编程LCD阵列。位在如图1中所示出的投影系统PS的种类外部，使得用于所述图案形成装置的辐射束为例测量两者的辐射和/或适于诸如使用浸没液体或使用真空的其它因素的各种类型的投影系率的例如水的液体覆盖，以便填充投影系统PS与衬底W之间的空间——这也称为浸没光刻件WT上的另一衬底W用于在另一衬底W上曝光持传感器和/或清洁装置。传感器可以被布置成测量投影系统PS的性质或辐射束B的性质。P2来对准图案形成装置MA和衬底W。虽然如所图示的衬底对准标记P1、P2占据专用目标部[0062]用于光刻系统的测量和/或曝光系统，或用于诸如电子束量测工具的量测系统的过依次计算所测量的标量映射与每个泽尼克多项式的内积且将这种内积除以所述泽尼克[0064]波前像差映射表示从球形波前接近投影系统PS的图像平面上的点的光的波前的于由投影系统PS引起的不同的形式的像差的信息。具有为1的诺尔指数的泽尼克系数可以被称为第一泽尼克系数，具有为2的诺尔指数的泽尼克系数可以被称为第二泽尼克系数，文中描述的方法来确定第一泽尼克系数。第二泽尼克系数z2涉及所测量的波前在x方向上迹）来确定投影系统PS在其光瞳平面中的相对相位。这种剪切干涉仪可以包括在投的光瞳平面共轭的平面中的干涉图案的检测器。的光学元件可以使用围绕z轴的旋转。可以例如通过使用致动器以将力施加在光学元件的[0075]图2是可以用于确定由投影系统PS引起的像差的测量系统10的示意性图示。测量光刻设备的照射系统IL和投影系统PS。为了易于图示，图2中未示出光刻设备的额外的部[0076]测量图案形成装置MA'被布置成从照射系统IL接收辐射。传感器设备21被布置成从投影系统PS接收辐射。在光刻设备的正常使用期间，在图2中示出的测量图案形成装置设备的正常使用期间，被配置成形成待转印至衬底W的图案的图案形成装置MA可以被定位置MA'可以由诸如图1中示出的支撑结构的支撑结构MT支撑。传感器设备21可以由诸如图1[0077]图3A和图3B中更详细地示出测量图案形成装置MA'和传感器设备21。图3a是测量图案形成装置MA'在x_y平面中的示意性图示，并且图3B是传感器设备21在x_y平面中的示[0078]测量图案形成装置MA'包括多个经图案化区15a至15c。多个经图案化区15a至15c成装置MA'为透射型图案形成装置MA'。经图案化区15a至15c中的每个都包括透射衍射光栅。入射到测量图案形成装置MA'的经图案化区15a至15c上的辐射由此通过投影系统PS至少部分地被散射并当用于投影系统的像差检测和对准时通过投影系统PS接收。相比之下，量图案形成装置MA'的经图案化区15a至一子集，并且可以在第二时间照射经图案化区15a至15c的第二子集以便形成测量束17a至测量图案形成装置MA'形成分离的测量束17a至17c，这是由于仅经图案化区15a至15c朝向成装置MA'的图像，所述测量图案形成装置MA'的图像相对于所述测量图案形成装置MA'而[0083]在投影系统PS使测量图案形成装置MA'的图像旋转和/或图像由投影系统PS成镜PS投影的图像而限定的，并且所述图像的任何旋转和/或成镜像会造成所述坐标系的相应子集的第一部分，并且可以在第二时间照射经图案化区15a至15c的第二子集的第一部分。可以在同一时间或不同时间照射经图案化区的第一子集的第二部分和第二子集的第二部[0085]在这种实施例中示出的多个物体平面图案形成装置15a至15c包括混合图案化标3A的实施例中，可以看见物体平面图案形成装置15b相对于物体平面图案形成装置15a和15c转置。已经相对于其它物体平面图案形成装置转置第一部分15a'和第二部分15b"的至向。类似地，至少一个混合标记的第二部分15b"中的光栅的定向不同于未混合标记15a"、3A中示出的实施例中示出的混合标记的图案化标记布置当第一部分和第二部分中的每平面传感器25a至25c中的每个包括可以定位成从多个物体平面图案形成装置15a至15c中成使得每个衍射光栅19a至19c接收从投影系统PS输出的对应的经修改的测量束17a至17c。入射到衍射光栅19a至19c上的经修改的测量束17a至17c由衍射光栅19a至19c进一步修改。感器25a至25c被定位而使得投影系统PS被布置成在多个图像平面传感器25a至25c中的不同的图像平面传感器的图案形成装置19a至19c上形成多个物体平面图案形成装置15a至体平面图案形成装置15a至15c和多个图像平面传感器25a至25c被定位而使得投影系统PS被布置成在多个图像平面传感器25a至25c中的不同的图像平面传感器的图案形成装置19a至19c上形成多个物体平面图案形成装置15a至15c中的每个的第二部分15a"至15c"的图[0090]辐射检测器23被配置成检测入射到辐射检测器23上的辐射的空间强度轮廓。例光栅19a至19c以及辐射传感器23的部分形成图像平面传感器25a至25c。图像平面传感器衍射光栅19a以及辐射传感器23的第一部分共同形成第一图像平面传感器（或检测器区）[0091]在经图案化区15a至15c以及检测器区25a至25c的衍射光栅19a至19c处发生的测[0092]通常，检测器区25a至25c中的每个的衍射光栅19a至19c包括二维透射衍射光[0093]经图案化区15a至15c的第一部分的照射可以提供关于在一个方向上的相对相位中的每个测量配置中，测量图案形成装置MA'和/或传感器设备21在两个垂直方向上被不断地或逐步式扫描。例如，测量图案形成装置MA'和/或传感器设备21可以依次在x和y方向中的每个方向上相对于彼此而扫描。应注意，x方向和y方向仅是示例性且任何两个垂直方向可以被使用以便实际上为部分扫描的每个扫描（测量）在数学上正交于另一扫描且因此可相位扫描数据集、和第四相位扫描数据集中的每个相位扫描数据集为部分扫描测量值。不集、和第四相位扫描数据集被组合以便确定物理量，所述物理量可以是投影系统的一个或更多个像差。剪切方向中的每个剪切方向上的波前的导数的信息由此允许完整的波前被重构。确定诸如由投影系统PS引起的像差的物理量。经图案化区15a至15c和/或检测器区25a至化区15a至15c和检测器区25a至25c在本文中的所有实施例可以用于使用专用量测辐射源可以控制可操作以使传感器设备21和/或测量图案形成装置MA'相对于彼此而移动的定位调整投影系统PS的光学元件以便校正由投影系统PS引起且通过控制器CN确定[0099]在一些实施例中，控制器CN可以是可操作的以控制用于调整支撑结构MT和/或衬[0100]确定像差（像差可以由投影系统PS引起或由图案形成装置MA或衬底W的放置误差引起）可以包括将由传感器设备21进行的测量拟合至泽尼克多项式以便获得泽尼克系数。不同的泽尼克系数可以提供关于由投影系统PS引起的不同的形式的像差的信息。可以在x案形成装置MA'可以包括多于或少于三个的经图案化区15a至15c和/或传感器设备21可以设备21包括至少一个相应的第二经图案化区19a[0105]图4是可以用于确定由投影系统PS引起的像差的测量系统30的示意性图示。测量此，图4中示出的测量系统30可以包括以上所描述的图2中示出的测量系统10的任何特征，解，辐射33将包括入射到测量图案形成装置MA'的第一经图案化区31上的一范围的角度。一经图案化区31的至少一部分可以属于图3A中示出的经图案化区15a的第二部分15a"的形和辐射33的波长和投影系统PS的数值孔径。[0112]测量系统30可以被布置为使得对应于0阶衍射束的第一衍射束35大致填充投影系[0114]通常，来自照射系统IL的以不同入射角入射到测量图案形成装置MA'的同一点上图案化区32被布置成从投影系统PS接收这些第一衍射束34至36和从所述第一衍射束中的[0118]入射到图案化区32上的第一衍射束34至36中的每个第一衍射束将衍射以形成多个第二衍射束。由于第二图案化区32包括二维衍射光栅，所以从每个入射的第一衍射束产映射的梯度。第一相位扫描数据集和第二相位扫描数据集中的每个可以被视为部分数据用第二扫描方向的第二连续扫描测量、第二逐步测量和/或第二步进剪切干涉测量过程。中示出合适的测量图案形成装置MA'的另一[0123]示例性测量图案形成装置MA'包括七个物体平面图案形成装置51至57。这允许在57a和第二部分51b至57b中的一个部分具有在u方向上的第一剪切方向且第一部分51a至上的第一剪切方向且第一部分52a具有在v方向上时照射物体平面图案形成装置51至57的第一部分51a至57a。类似地，在新的方法中，同时（但在与第一部分51a至57a不同的时间处）照射物体平面图案形成装置51至57的第二部分51b至57b。感器大致属于上文参考图2和图3B所描述的图像平面传感器25a至25c的类型。图像平面传感器中的每个图像平面传感器包括第二图案形成装置（属于上文参考图2和图3B所描述的第二图案形成装置19a至19c的类型所述第二图案形成装置可以定位成从多个物体平面[0129]图像平面传感器还包括被布置成从多个第二图案形成装置（属于上文参考图2所[0130]多个图像平面传感器中的每个图像平面传感器的图案形成装置被布置成从投影系统PS接收通过多个物体平面图案形成装置51至57中的相应的物体平面图案形成装置产生的第一衍射束并被配置成从第一衍射束中的每个第一衍射束传感器中的每个图像平面传感器可以被提供[0132]多个物体平面图案形成装置51至57和可以是多个图像平面传感器中的相应的图的至少一个第一衍射束形成的第二衍射束中的至少一些第二衍射束与由至少一个其它的衍射束中的至少一个第一衍射束形成的第二衍射束的至少一些第二衍射束与由至少一个51至57与第二图案形成装置的节距的这种匹配考虑了由投影系统PS应用的任何减小因子。距的整数倍或物体平面图案形成装置51至57的节距可以是第二图案形成装置的节距的整检测器上的多个位置中的每个位置都可以对应于辐射检测器的以包括具有50%的工作周期的一维衍射光栅。利用这样的第一图案形成装置，偶数衍射阶[0136]现在参考图6描述使用被配置成对多个位置进行采样的传感器系统确定物理量的新的方法60。在每个位置处进行采样使用物体平面图案形成装置51至57和图像平面传感[0138]第一测量61包括定位多个物体平面图案形成装置51至57和一个或更多个图像平的图案形成装置上的相应的部位上形成多个物体平面图案形成装置51至57中的每个物体[0139]第二测量62包括定位多个物体平面图案形成装置51至57和至少一个图像平面传[0140]第三步进测量63包括定位多个物体平面图案形成装置51至57和至少一个图像平图案形成装置51至57中的每个物体平面图案形成装置的第二部分51b至57b的图像，其中，[0141]第四测量64包括定位多个物体平面图案形成装置51至57和至少一个图像平面传体平面图案形成装置51至57或相应的多个图像平面传感器中的至少一个以便产生第四数物理量可以是投影系统PS的一个或更多个像差或可以是与对准测量相关的对噪声贡献不2成装置51至57的全部部分的方向方向上扫描且因此将导致由检测器23记录的相位扫描数[0148]图7示出获得的相位扫描测量值的示例性集合（所述示例性集合可以表示在四个是用于四个物体平面图案形成装置51至57中的每个物体平面图案形成装置的单相扫描曲[0149]图7中示出的七条曲线中的每条曲线包括正弦曲线已经被拟合到的五个数据点。物体平面图案形成装置的部分的剪切方向的方向上的波前映射的正负号对于第一组图案形成装置和第二组图案形成装置中的每组图案形成装置是不同为第三泽尼克系数Z3所述误差对于所有的物体平面图案形成装置51至57具有相同正负干涉测量过程62期间的强度误差或波动将导致经重构的波前映射在x方向上的梯度（或倾切干涉测量过程63期间的强度误差或波动将导致经重构的波前映射在y方向上的梯度（或倾斜）的误差（所述误差为第三泽尼克系数Z3所述误差对于所有的物体平),所述误差对于所有的物体平面图案形成装置51至57具有相同的正负号（即，这将导致在集S4以便确定可以是投影系统PS的一个或更多个像差的物理量的步骤65中可以通过建模三数据集S3可以被组合以便对于七对物体平面图案形成装置51至57和图像平面传感器与第三数据集S3可以被组合以便对于例如七对物体平面图案形成装置51至57和图像平面平面图案形成装置51至57和图像平面传感器中的每对的第一相位扫描数据集S1和第三相四数据集S4可以被组合以便对于例如七对物体平面图案形成装置51至57和图像平面传感二数据集S2与第四数据集S4可以被组合以便对于例如七对物体平面图案形成装置51至57和对物体平面图案形成装置51至57和图像平面传感器中的每对的第二相位步进数据集S2和[0169]在步骤70和71之后，如果存在n对物体平面图案形成装置51至57和图像平面传感f"n)与在第二方生第一数据集S1和第三数据集S3的辐射的强度变化所引起用每个阵列中的强度噪声贡献的相关性进行这种组合以便至少部分地校正由用于产生第二数据集S2和第四数据集S4的辐射的强度变化f'n可以包括V(i)=-1。因此，对于图5中示出的物体平面图案形成装置51至57的示例性布置，V=(1,-1,1,1,1,-1,1)。即，阵列V(i)对具有较高阶特征标识的强度误差（强度误差在执行最小二乘拟合以同时最小化：[0183]本公开的一些实施例涉及承载包括被配置成促使计算机执行上文参考图5至图9所描述的方法60的计算机可读指令的计算机程序的计算机[0185]本公开的一些实施例涉及一种用于确定物理量的测[0187]虽然上述实施例使用包括具有50%的工作周期的一维衍射光栅31的第一经图案化如此进行可能引起致动器或其它装置与物理装置的第一部分和所述第二部分相对于其它物体平面图案形成装置的第一部分和所述第[0195]使用每个物体平面图案形成装置的第一部分并在第一方向上执行第一测量以便[0196]使用每个物体平面图案形成装置的第二部分并在所述第一方向上执行第二测量[0197]使用每个物体平面图案形成装置的第一部分并在第二方向上执行第三测量以便[0198]使用每个物体平面图案形成装置的第二部分并在所述第二方向上执行第四测量所述一个方向的平行于所述第一剪切方向的分量的正负号与所述一个方向的平行于所述得所述另一个方向的平行于所述第一剪切方向的分量的正负号与所述另一个方向的平行成装置，所述第二图案形成装置可以定位成从所述多个物体平面图案形成装置接收辐射；和感器包括能够定位成从所述多个物体平面图案形成装置中的相应的物体平面图案形成装[0215]组合所述第一数据集与所述第二数据集以便针对每个采样位置确定至少一个第[0216]组合所述第三数据集与所述第四数据集以便针对每个采样位置确定至少一个第[0217]组合针对每个采样位置的所确定的第一物理参数与针对每个采样位置的所确定的强度变化所引起的所确定的第一物理参数和所确定的第二[0219]15.根据方面13所述的[0221]组合所述第一数据集与所述第二数据集以便确定一个或更多个像差的步骤还包[0222]组合所述第二数据集和所述第四数据集以便确定一个或更多个像差的步骤还包[0223]组合针对每个采样位置的所确定的在所述第一方向上的第一波前倾斜系数和针对每个采样位置的所确定的在所述第一方向上的第二波前倾斜系数以便形成针对每个采一波前倾斜系数和所确定的在所述第一方向上的第二波前倾斜系数的方向上的第一波前倾斜系数和针对每个采样位置的所确定的在所述第一方向上的第二波前倾斜系数以便形成针对每个采样位置的在所述第一方向上的输出[0226]以下各项之间的差异的用于每个采样位置的均方根a）所确定的在所述第一方和[0227]以下各项之间的差异的用于每个采样位置的均方根a）所确定的在所述第一方案形成装置的光栅的第二部分在所述第一方向上的输出波前倾斜系数与第二常量乘以一1[0231]组合所述第一数据集与所述第二数据集以便对于每个采样位置确定在所述第二[0232]组合所述第三数据集与所述第四数据集以便对于每个采样位置确定在所述第二[0233]组合针对每个采样位置的所确定