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文档简介
排列的第一输送平台和第二输送平台及设于平标瓷砖输送至所述第二输送平台表面进行直线方向输送或控制由第一输送平台递送的目标瓷2依输送方向排列的第一输送平台和第二输送平台,以及设于所述升降装置能通过调整高度,控制由所述第一输送平台递送的所述变向输送平台的输送表面的垂直方向的高度,不高于所述第所述滚轮机构包括设于所述升降架上的滚轮轴以及设于所述滚所述升降气缸与所述升降架连接,且能够控制所述升降架带动上端的所述升降架与所述摆动轴活动连接,并通过所述摆动轴与所述变所述升降架穿设于所述升降空间内,且能在所述升降气缸的作用下6.如权利要求4所述瓷砖递送系统,其特征在于,所述升降架上设有多组所述滚轮机所述滚轮机构设于所述升降架中区别于所述输送皮带的对应位置机构中的所述胶轮在向上方运动时能够通过所述输送皮带的两端的空间与所述目标瓷砖所述目标瓷砖的底面能接触到所述胶轮并通过惯性输送到所述第二输送一输送平台递送的所述目标瓷砖的底面能接触到所述变向输送平台的所述输送皮带的上3获取与第一输送平台上的目标瓷砖对应的递送指令;所述递送若所述胶轮位置未处于所述预设位置,则判定所述升降装置未制所述升降装置中升降气缸向上作用使升降架在升降空间内朝向上端的所述输送皮带方在所述目标瓷砖由所述第一输送平台输送到所述升降架上方制所述升降气缸向下作用使所述升降架在所述升降空间内下降至所述胶轮的上切面的高若所述胶轮位置未处于所述预设位置,则判定所述升降装置未制所述升降装置中升降气缸向上作用使升降架在升降空间内朝向上端的所述输送皮带方用使所述升降架在所述升降空间内下降至所述胶轮的上切面的高度低于所述变向输送平获取所述第一输送平台在直线方向输送所述目标瓷砖的初始度计算得到所述目标瓷砖对应的所述升降架启动降低动作获取所述目标瓷砖的当前位置,基于所述触发位置,通过预设分段4根据所述总减速度计算得到所述目标瓷砖的减速距离;所述减速距离的计算表达式基于所述减速距离,计算得到所述升降架启动降低动作的触发其中,H(x)代表所述升降架在位置x时的高度;Hlifted代表所述升降架升起时的高度;所述通过预设分段控制函数模型控制升降架控制所述目标瓷砖从xstart到D的过程中,线形降低所述升降架的高度,以便于在x=d56标瓷砖输送至所述变向输送平台进行非直线滚轮机构中的所述胶轮在向上方运动时能够通过所述输送皮带的两端的空间与所述目标能接触到所述胶轮并通过惯性输送到所述第述第一输送平台递送的所述目标瓷砖的底面能接触到所述变向输送平台的所述输送皮带7[0033]若所述胶轮位置未处于所述预设位置,则判定所述升降装置未达到所述输送状所述预设位置,以便于由所述第一输送平台递送的所述目标瓷砖的底面能接触到所述胶[0037]在所述目标瓷砖由所述第一输送平台输送到所述升降架上方并与所述胶轮接触[0038]若所述胶轮位置未处于所述预设位置,则判定所述升降装置未达到所述输送状始速度计算得到所述目标瓷砖对应的所述升降架启动8lowered代表所述升降架降低后的高度;9[0060]图5本申请实施例2中瓷砖递送系统中升降装置和变向输送平台的侧方位结构示[0068]通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来申请的各种实施例所述领域普通技术人员通常理解的含一般使用的词典中限定的术语)将被解释为具有与在相关技术领域中的语境含义相同的含送方向区别于所述第一输送平台1和所述第二输送平述目标瓷砖输送至所述变向输送平台4进行非直实施例中所提供的瓷砖递送系统100能够针对于常规的技术中的缺陷,能够实现在输送平送平台2的输送表面在垂直方向的高度,高于所述第一输送平台1的输送表面的垂直高度。[0095]解决了现有技术中瓷砖在不同高度输送平台间转移时可能遇到的稳定性和破损升降架32和升降气缸33;所述滚轮机构31包括设于所述升降架32上的滚轮轴311以及设于[0099]升降架32是升降装置3的主要承载结构,它通过升降气缸33的控制实现升高或降特性对于整个系统的性能至关重要。胶轮312的材质通常选择具有良好耐磨性、耐化学侵的输送时,目标瓷砖由第一输送平台1中间经升降架32上的胶轮312至第二输送平台2的输[0104]升降装置3通过滚轮机构31的设计,改进了瓷砖在输送过程中的稳定性和输送效[0106]升降装置3解决了传统技术中瓷砖在不同高度输送平台间转移时可能遇到的稳定[0108]控制系统作为整个装置的大脑,根据位置传感器的反馈和操作员通过HMI输入的[0111]上述,胶轮312的滚动方向与第一输送平台1递送出的目标瓷砖的前进方向一输送平台4时,升降架32通过摆动轴34的摆动,使胶轮312与变向输送平台4的输送表面接[0123]上述变向输送平台4是系统中负责实现瓷砖非直线方向输送的关键部件,包括至构成了一个能够实现瓷砖在不同方向上稳定输送的变向输送平台4,提高了瓷砖递送的灵缸33的作用下于所述升降空间413的两个所述输送皮带41[0129]输送组件41由两个旋转轮411和输送皮带412组成,其中至少一个旋转轮411为主结构构成了一个能够在不同高度和方向上实现瓷砖稳定输送的变向输送平台4,同时保持[0132]解决了常规技术中瓷砖在转向输送时可能出现的稳定性不足和输送效率低下的问题。通过优化输送组件41和升降空间413的设计,系统能够更有效地处理瓷砖的转向输设于所述升降架32中区别于所述输送皮带412的对应位置处,以便于所述滚轮机构31中的所述胶轮312在向上方运动时能够通过所述输送皮带412的两端的空间(输送皮带412长度过输送皮带412的两端的空间与瓷砖的底面相接触。这种布局有助于在瓷砖转向过程中提[0136]通过增加滚轮机构31的数量和优化其布局,改进了瓷砖在变向输送平台4上的转[0138]这种结构构成了一个能够在不同高度和方向上实现瓷砖稳定转向的变向输送平下在所述升降空间413内朝向上端的所述输送皮带412方向升起时,所述胶轮312的上切面降架32通过所述升降气缸33作用下在所述升降空间413内朝向下端的所述输送皮带412方第一输送平台1递送的所述目标瓷砖的底面能接触到所述变向输送平台4的所述输送皮带[0143]升降气缸33控制升降架32在升降空间413内上下运动。当升降架32上升时,胶轮[0148]本实施例中,系统需要从控制中心或操作员那里获取关于第一输送平台1上瓷砖为所述胶轮312上切面的高度高所述于变向输送平台以通过自动调整确保了递送过程的准确性和效率,通过PLC(可编程逻辑控制器)控制升降性经所述胶轮312输送到第二输送平台2上进行直线[0169]如果递送指令要求变向递送,系统需要检查胶轮312是否处于变向递送所需的预[0172]如果胶轮312已经处于预设位置,系统判定升降装置3已经准备好进行变向递[0173]步骤S800,在所述目标瓷砖由所述第一输送平台1输送到所述升降架32上方并与下降至所述胶轮312的上切面的高度低于所述变向输送平台4的输送皮带412的上端表面,所述目标瓷砖的底面经由所述胶轮312接触到所述变向输送平台4的所述输送皮带412的上312的上切面高度低于变向输送平台4的输送皮带412上端表面。从而确保了瓷砖能够顺利[0175]瓷砖的底面通过胶轮312接触到变向输送平台4的输送皮带412上端表面。系统控的输送皮带412,开始非直线方向的输送操作。瓷砖按照预定的非直线路径被输送到目的触时,控制所述升降气缸33向下作用使所述升降架32在所述升降空间413内下降至所述胶轮312的上切面的高度低于所述变向输送平台4的输送皮带412的上端表面,所述目标瓷砖的底面经由所述胶轮312接触到所述变向输送平台4的所述输送皮带412的上端表面,使所[0183]系统需要测量或计算瓷砖在第一输送平台1上的初始速度。可以通过速度传感器位置,以确保瓷砖能够顺利转移到变向输送平台4。从而提高了瓷砖转移的精确性和可靠函数模型控制升降架32的状态,以便于所述目标瓷砖接触到所述变向输送平台4的所述输[0187]根据瓷砖到达触发位置的信息,系统通过预设的控制模型调整升降架32的状[0191]步骤S811,计算所μ1代表所述目标瓷砖与所述胶轮312之间的1是瓷砖与胶轮312之间的摩擦系数,μ2是瓷砖与输送皮带412之间的摩擦系[0194]上述,所述目标瓷砖与所述胶轮312之间的摩擦系数μ1和所述目标瓷砖与所述输送皮带412之间的摩擦系数μ2可以为预先测得的定值;g代表重力加速度,可以近似采用所述目标瓷砖到达所述变向输送平台4的所述输送皮带4[0199]进一步的,所述步骤S820中,预设分段控制函数模型的表达式[公式4]为:[0201]升降架32的高度根据瓷砖的位置动态调整。实现了精确控制升降架32高度的目件语句来根据不同的位置区间调整升降架3[0202]所述步骤S820中,通过预设分段控制函数模型控制升降架32的状态包括:步骤统的响应速度和准确性。具体可以通过PLC(可编程逻辑控制器)实现位置监测和升降架32[0203]步骤S822,控制所述目标瓷砖从xstart到D的过程中,线形降低所[0206]可以通过比例_积分_微分(PID)控制器或其他控制算法来实现升降架32的高度线[0209]为了更好地说明本申请中所提供的瓷砖递送系统100的控制方法,提供如下针对砖与变向输送平台4的输送皮带412之间的摩擦系数。(4)g:重力加速度(约为9.81m/s2)。瓷砖在直线输送方向的初始速度降为零。(7)D:目标瓷砖到达变向输送平台4的输送皮带上述的瓷砖递送系统100的控制方法或者上述瓷砖递送系统100中的用处理器,包括中央处理器(CentralProcessingUnit,CPU)、图形处理器(Graphics储器(ReadOnlyMemory,ROM),可编程只读存储器(ProgrammableRead_OnlyMemo
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