CN119517828A 一种静电吸盘及其制造方法 （上海玄亨科技股份有限公司）_第1页
CN119517828A 一种静电吸盘及其制造方法 （上海玄亨科技股份有限公司）_第2页
CN119517828A 一种静电吸盘及其制造方法 （上海玄亨科技股份有限公司）_第3页
CN119517828A 一种静电吸盘及其制造方法 （上海玄亨科技股份有限公司）_第4页
CN119517828A 一种静电吸盘及其制造方法 （上海玄亨科技股份有限公司）_第5页
已阅读5页，还剩13页未读， 继续免费阅读

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

所述陶瓷盘上设有贯穿所述陶瓷盘的上表面和管穿过所述接合层与所述升降通道连通；陶瓷2所述陶瓷环的下部高度等于接合层的厚度和所述金属基座的台阶高7.一种静电吸盘的制造方法，适用于如权利通过流延成型工艺和注浆成型工艺制备所述将所述陶瓷罩的气体套管和升降套管对准所述金属基座上的气体通道和升降通道后，34[0002]目前，应用于刻蚀、薄膜沉积等含有腐蚀性气体的工艺过程板与晶圆基板支撑件之间的传热速率。当晶圆基板工作时，接合层的外侧面经常接触腔用的清洁Plasma气体)被喷射至静电吸盘的上表面时，会有少量的工艺气体进入气流通道和PIN孔道使得工艺气体会流入位于静电吸盘与金属基座之间的接合层区域，进而导致气流通道和PIN孔道周围的接合层也经常会接触到腐蚀性工艺气体而被腐蚀老化。而接合属基座上方，所述陶瓷盘上设有贯穿所述陶瓷盘的上表面和下表面的气体套管和升降套56陶瓷盘131上设有贯穿所述陶瓷盘的上表面和下表面的气体套管133和升降套管134；所述座101上部台阶117的高度之和，通过所述陶瓷环132的下部将所述接合层102与金属基座7部分伸入所述升降通道112内，且所述升降套管134与所述升降通道112之间设有第二密封防止了气体通道111和升降通道112内的等离子体与孔道周围的接合层102的接触，从而避升降套管134和所述陶瓷环132通过一体式共烧成型，极大改善了陶瓷盘131与陶瓷环132、气体套管133和升降套管134的密封性和连座101中的气体通道111和升降通道112内分别预埋有第一密封圈115和第二密封圈116，以8[0041]S12、通过注浆成型工艺制造包含第二陶瓷子盘1032、气体孔道1033、升降孔道静电吸附电极1311的制成材料为101上表面的气体通道111和升降通道112的顶端周向形成预留空间114，所述预留空间114瓷罩103，将所述接合层102和金属基座101的侧面以及金属基座101内的气体通道111和升周围的接合层102的接触，从而避免了等离子体对接合层102的腐蚀而造成的导热不均匀、9

人人文库> 全部分类> 行业资料 > 信息产业

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论