CF制程简介【优选内容】

1、PS流程概述，中小二期工序部雷清芳，1，行业参考#，演示大纲，液晶显示器的基本构成要素滤色器的结构PS流程介绍PS不良轮廓，2，行业参考#，什么是滤色器，滤色器滤色器在LCD上(该需要使用该颜色，通过控制IC的信号处理向来自背光源的强光发射，能够使用滤色器的处理，表现彩色的画面。 滤色器的制作是在玻璃基板上按像素制作红、绿、蓝三原色的有机材料。 3、行业参考#，1.TFT LCD由两片玻璃构成，上端为CF，下端为TFT，夹着液晶，组合偏振片、背光板、驱动电路等元件，形成了显示模块。 液晶显示器的基本构成要素、r、g、b、4、行业参考#、滤色器结构、CF剖视图、CF俯视图、5、行业参考#、BM工

2、序、1 .功能：遮光效果、防止由TFT引起的光电效应引起的误动作防止两种色调的混合， 2. Cr BM工艺树脂BM工艺，RGB，BM，OC，ITO，MVA，PS，6，行业参考#，镀铬工艺(Sputtr Cr )，原理：利用高压电场使通电的气体分子Ar 7、行业#，曝光部分因聚合而失去溶解性。 清洗未曝光部分，形成所希望的图案。 加热使残留负型抗蚀剂硬化。RGB工艺、RGB、BM、OC、ITO、PS、8、行业参考#、正/负型抗蚀剂、正型抗蚀剂3360开口曝光抗蚀剂保留、负型抗蚀剂：开口曝光抗蚀剂保留、9、行业参考#、CF工厂一般机型制造工艺、OC材料机型制造工艺的引进ITO、BM RGB、RGB

3、、OC、ITO、MVA、PS，10、业界参考#、ITO电镀工艺(Sputtr ITO )，ITO是Indium (铟)和Tin (锡)的氧化物，透明且具有导电性，因此也称为透明导电膜。RGB，BM，OC，ITO，MVA，PS，11，业界参考#，MVA工艺，玻璃输入，水洗部Clean，MVA抗蚀剂涂布，显影，AOI检查，Oven，曝光工艺，玻璃输出，RGB，BM 行业参考#，MVA工艺(多象限垂直取向)多域垂直对准，薯在这个突出物的帮助下，在液晶上施加电压时，可以使液晶倒向不同方向，人眼液晶的长轴和短轴的折射特性不一致MVA的原理是利用不同角度的液晶，薯互相增强，扩大视场角的范围。 VA机型的液

4、晶排列与面板垂直，是正常黑型。 添加了突起物，使液晶本身产生了预倾角，13、业界参考#、Photo Spacer，目的：在TFT和CF面板之间具有间隙，使液晶旋转的动作成为可能，、，RGB，BM，OC，ITO，MVA，PS，14，业界参考#，Cell-Ball spacer，CF- PS，Photo Spacer，15， 业界以#、MACRO外观检查、光箱透射检查、钠灯反射检查、强光灯检查为参考，主要进行了外观不良(异物、漏光、Mura、色斑等)的筛选检查。16、行业参考#、特性测量、17、行业参考#、黑阵列模式(BM )全长 Total Pitch、BM特性测量、18、行业参考#、RGB色度

5、测量、色度、19、行业参考#、RGB特性测量II、20、行业参考#、RGB特性测量I、21、行业参考#， ITO标准测定理想的下电阻值越低越好，22、行业参考#、RGB-透射率，理想的下：透射率越高越好，23、行业参考#、Photo Spacer标准测定、特性测定：位置精度、膜厚、上下划线宽度、x轴面、y轴面、24、行业参考#、Photo Spacer， CF不良轮廓白缺陷：漏光(RBM缺陷、RGB色剥落、针孔、图案损伤等)黑缺陷：异物(RBM残留、Particle、RGB抗蚀剂异物等) Mura缺陷： Mura (直/横Mura、黑Gap Mura、ITO色、反射光、透射光、26、行业参考#

6、、白缺陷类- RBM框缘针孔、RBM框缘针孔：从反射光看容易看到，从透射光看可以看到遮光层消失，形成漏光现象。反射光、透射光、27、业界参考#、白缺陷类- RBM膜面线刮除、BM膜面线刮除的特征：从反射光来看，从透射光来看，可见遮光层的消失(呈现线种)，形成漏光现象。 反射光、透射光、28、行业参考#、白缺陷类- R光泄漏、r光泄漏的特征：从透射光中，本站的过程遮光层消失，可见光泄漏现象。 反射光、透射光、29、行业参考#、白缺陷类-光晕型色剥离、光晕型色剥离的特征：从反射光中，站工序图呈渐变型光晕状，透过光后出现光泄漏的现象。反射光、透射光、30、业界参考#、白缺陷类- R透明异物、r透明异

7、物的特征：从透射光来看，从透射光来看，由该工艺引起不透明状异物，透过光形成漏光现象。 反射光、透射光、31、行业参考#、黑缺陷类- RBM抗蚀剂异物、BM抗蚀剂异物的特征：从反射光容易看到，从透射光看，开口部可见异物，形成遮光现象。 反射光、透射光、32、行业参考#、黑缺陷类- R抗蚀剂异物、r抗蚀剂异物的特征：从反射光中，从透射光来看，可以看到由该工艺引起的不明异物，形成黑缺陷现象。 反射光、透射光、33、行业参考#、黑缺陷类- Lip抗蚀剂异物、Lip抗蚀剂异物的特征：从反射光中，在本站的工艺模式中可以看到薄、条纹状、带状的异物。 反射光、透射光、34、业界参考#、黑色缺陷类-黑色异物、黑

8、色异物的特征：反射光中，车站工序中出现不明的黑色异物，透射光无法透射，形成遮光现象。 反射光，透射光，35，业界参考#，黑缺陷类-纤维异物，纤维异物的特征：从反射光容易看到，画出线长度不规则的曲线。反射光、透射光、36、业界参考#、散布黑色缺陷类-金属异物、散布金属异物的特征：从反射光中，在开口部看到很多小的粉碎型异物(分析的金属)，透过光无法透过，形成遮光现象。 反射光，透射光，37，业界参考#，Mura，Mura原本是日本的文字，液晶显示器在世界各地发扬光大，成为了全世界通用的文字。 主要是指显示器亮度不均匀而产生各种痕迹的现象。 38、行业参考#、放射状Mura、放射状Mura的特点：在

9、蓝色信号下出现放射状色层的差异，多数基板在减压干燥时受气流和温度的影响，抗蚀剂表面的干燥变得不均匀。 39、行业参考#，丘Mura，丘Mura特征：点不均匀，如蝴蝶翅膀(两个圆形交接)，可能是固定的或不固定的。 常见的固定点经常发生在HP/CP和EXP平台上。 清洁时如果不用无污垢的布擦拭，就可以用滑石清洁。40、行业参考#、Pin Mura、Pin Mura的特征：为了固定点，分为coaterstagepinvcdpinhp/cpstagepin三种，主要是基板上的电阻与pin的温差敏感。41、行业参考#、直Mura、直Mura的特征：沿基板长边的横向长度不均匀，宽度粗，Gap多等间距，边缘

10、没有明显晕影，一般是由于显像机水洗阶段的流量和压力不均匀。 42、行业参考#、横Mura、横Mura的特征：平行贯通AB或CD或EF Panel，不论宽度和位置均为独立的线，定义为横棒Mura。 43、行业参考#、风刀Mura I、风刀Mura的特征：全面的斜向条纹，方向与断面角方向垂直，但通过PS MVA-LINE平行方向(与风刀layout有关)，主要是因风刀闭塞压力异常。 44、行业参考#、风刀Mura II、风刀Mura特征：全面倾斜条纹，方向与风刀吹出方向平行，多与风刀流量不足有关。 45、业界参考#、山水画Mura、山水画Mura的特征：与古代山水画相似，以整体性为主，这与显影液的性能降低有关，多发生在显影液交换时。 46、行业参考#、波浪s型Mura、波浪状s型Mura的特征： 1根或2根s型(细线)多贯通到最后，与显影Nozzle的堵塞有关，因此发生显影不良，用简易Macro气枪清洗后OK。 47、行业为#，振动(短边) Mura，振动(短边) Mura的特征：沿基板短边的纵向长度密集的不均匀，gap等间隔。 一般是Coater Slider的振动引起的。 48、行业参考#、背面轮痕、背面Mura的特征：在基板背面平行地出现几个橡胶状物的轮痕，多与传动机构传动轮的损伤老化有关。 49、业界#、光刻胶