Ch2_半导体中的杂质和缺陷能级.ppt

1、理想半导体： 原子严格地周期性排列，晶体具有完整的晶格结构。 晶体中无杂质，无缺陷。 电子在周期场中作共有化运动，形成允带和禁带电子能量只能处在允带中的能级上，禁带中无能级。由本征激发提供载流子,Ch2 半导体中的杂质和缺陷能级,杂质：与组成半导体材料元素不同的其它化学元素。如硅中掺磷、掺硼等 引入杂质和缺陷的意义： 半导体材料独特的性质，取决于杂质影响极微量的杂质和缺陷，能够对半导体材料的理化性质产生决定性的影响（半导体器件的质量）可通过适当掺杂制造形形色色的器件,半导体中的杂质和缺陷起什么样作用？ 为什么会起这样的作用？,杂质和缺陷的存在，所产生的附加势场使严格的周期性势场受到破坏，可能在

2、禁带中引入允许电子具有的能量状态(即能级) ,EC,EV,杂质能级,重点和难点 施主杂质、施主能级、n型半导体； 受主杂质、受主能级、p型半导体； 施主杂质和受主杂质的电离能 杂质的补偿作用； 浅能级杂质和深能级杂质,2.1 Si、 Ge中的杂质能级,根据杂质在半导体中位置不同，可分为： 替位式杂质和间隙式杂质(interstitial),替位式：占据正常 的格点位置 原子的大小与被取代的晶 体原子大小比较相近,2.1.1 替位式杂质 间隙式杂质,杂质浓度：描述杂质的含量多少 1/cm3 引入的杂质能级位于禁带中,2.1.2 施主杂质、施主能级,一、施主杂质：当五价元素磷（或锑）在硅中成为替位

3、式杂质并且电离时，磷原子的最外层有五个价电子，其中四个与相邻的半导体原子形成共价键，必定多出一个电子，这个电子几乎不受束缚，很容易被激发而成为自由电子，这样磷原子就成了不能移动的带正电的离子。,硅中的施主杂质,每个磷原子给出一个电子，称为施主原子。 磷为施主杂质(n型杂质)。 本征半导体掺入施主杂质后成为n型半导体。,磷替代硅，其效果是形成一个正电中心P+和一个多余的价电子。这个多余的价电子就束缚在正电中心P+的周围（弱束缚）。,二、N 型半导体：本征半导体中掺入磷等族元素后，自由电子浓度大大增加的杂质半导体，也称为（电子半导体）。,N 型半导体中的载流子是什么？,1、由施主原子提供的电子，浓

4、度与施主原子相同。,2、本征半导体中成对产生的电子和空穴。,掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度，所以，自由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流子（多子），空穴称为少数载流子（少子）。,三、施主电离,施主杂质释放电子的过程叫施主电离。 未电离时是中性的，称为束缚态或中性态；电离后成为正电中心，称为离化态,杂质电离能,杂质电离能：使多余电子挣脱束缚成为导电电子所需要的能量，ED (Donor),硅、锗晶体中V族杂质的电离能（eV）,族杂质元素在硅、锗中的电离能很小， 在硅中约为0.04-0.05eV，在锗中约为0.01eV, 比硅、锗的禁带宽度Eg小得多Eg(Ge)=0.72eV,四、施

5、主能级和施主电离（1）,问题：该电子的能量？ 比成键电子自由得多 （EDEv） 与导带电子也有差别 （受到P+库伦吸引作用） ED=EC-E库伦 落在禁带中,施主能级： 将被施主杂质束缚的电子的能量状态，ED,施主能级和施主电离（2）,T=0k，束缚态 T0K，电子得到能量ED，从施主的束缚态跃迁到导带成为导电电子，所以电子被施主杂质束缚时的能量比导带底EC低ED 。（离化态） 电离的原因：热激发、远红外光的照射,EDEg， 施主能级离 导带底很近,施主杂质是比较少的，杂质原子间的相互作用可以忽略， 一种杂质的施主能级是具有相同能量的孤立能级 杂质原子用短线表示,2.1.3 受主杂质 受主能级

6、,一、受主杂质：当三价元素，如硼（或铟）在硅中成为替位式杂质并电离时，硼原子的最外层有三个价电子，与相邻半导体原子形成共价键时，产生一个空穴。这个空穴可能吸引束缚电子来填补，使得硼原子成为不能移动的带负电的离子。,硅中的受主杂质,硼原子接受电子，称为受主原子。 B为受主杂质(p型杂质)。 本征半导体掺B后成为p型半导体（空穴半导体）,硼原子接受一个电子后，成为带负电的硼离子，称为负电中心（B- ） 。带负电的硼离子和带正电的空穴间有静电引力作用，这个空穴受到硼离子的束缚，在硼离子附近运动。,但硼离子对这个空穴的束缚是弱束缚，很少的能量就可以使空穴挣脱束缚，成为在晶体的共价键中自由运功的导电空穴

7、。,硼原子成为多了一个价电子的硼离子（B- ）-不能移动的负电中心。,二、 P 型半导体：本征半导体中掺入B等族元素后，空穴浓度大大增加的杂质半导体，也称为（空穴半导体）。,P 型半导体,P 型半导体中空穴是多子，电子是少子。,P型半导体中载流子 是什么？,由受主原子提供的空穴，浓度与受主原子浓度相同,三、受主电离,受主杂质释放空穴的过程叫受主电离。 未电离时是中性的，称为束缚态或中性态；电离后成为负电中心，称为受主离化态,杂质电离能,杂质电离能：使多余空穴挣脱束缚成为导电空穴所需要的能量，EA (Acceptor),硅、锗晶体中族杂质的电离能(eV),族杂质元素在硅、锗晶体中的电离能很小。

8、硅中约为0.045-0.065eV。铟(In)在硅中的电离能为0.16eV，是一例外，在锗中约为0.01eV。比硅、锗晶体的Eg小得多。,四、受主能级和受主电离,把被受主杂质所束缚的空穴的能量状态称为受主能级，EA 。,空穴得到能量EA后，从受主的束缚态跃迁到价带成为导电空穴，在能带图上表示空穴的能量是越向下越高，空穴被受主杂质束缚时的能量比价带顶EV低EA。,EAEg， 受主能级离 价带顶很近,受主能级和受主电离,EAEg，受主能级位于离价带顶很近的禁带中。 一般受主能级也是孤立能级。,纯净半导体中掺入受主杂质后，受主杂质电离，使价带中的导电空穴增多，增强了半导体的导电能力，把主要依靠空穴导

9、电的半导体称为空穴型或p型半导体。,、族杂质在硅、锗晶体中分别是受主和施主杂质，起作用是由于禁带中引入能级;受主能级比价带顶高EA ，施主能级则比导带底低ED .,五、杂质半导体的示意表示法,杂质半导体多子和少子的移动都能形成电流。但由于数量的关系，起导电作用的主要是多子。近似认为多子与杂质浓度相等。,杂质可以处于两种状态，即未电离的中性态或束缚态以及电离后的离化态!,处于离化态时，受主杂质向价带提供空穴而成为负电中心，施主杂质向导带提供电子而成为正电中心.,六 小结,硅、锗中的 、V族杂质的电离能都很小，所以受主能级很接近于价带顶，施主能级很接近于导带底。这些杂质能级称为浅能级，产生浅能级的

10、杂质称为浅能级杂质。,室温下，晶格原子热振动的能量会传递给电子，可使硅、锗中的、族杂质几乎全部离化，称为全电离,七 浅能级杂质,2.1.4 浅能级杂质电离能的简单计算,类氢原子模型的计算 氢原子： 两个修正： a， 00rr(Si)=12 r(Ge)=16.2 b, m0 m* 注意Si, Ge多能谷效应， ED(A) 几十meV,锗、硅的相对介电常数r 分别为16，12。 锗D =0.05mn*/m0 硅ED =0.1mn* /m0 而mn*/m0 ,mn* /m0 小于1.硅锗中杂质电离能 肯定小于0.1eV和0.05eV. 受主杂质讨论相同.显而易见是浅能级杂质.,实测值与理论估算结果

11、具有相同的数量级 Ge ED=0.0064eV Si ED=0.025eV,2.1.5 杂质的补偿作用,在半导体中，若同时存在着施主和受主杂质，施受主杂质之间有互相抵消的作用，通常称为杂质的补偿作用。 空间角度的理解：施主周围有多余的价电子，受主周围缺少价电子，施主多余的价电子正好填充受主周围空缺的价键电子，使价键饱和，使系统能量降低 稳定状态,ND表施主杂质浓度，NA表受主杂质浓度，n表示导带中电子浓度,p表示价带中空穴浓度。 假设施主和受主杂质全部电离时，杂质是如何补偿的。,1.当ND NA时 受主能级低于施主能级，所以施主杂质的电子首先跃迁到NA受主能级后，施主能级上还有ND - NA个

12、电子，在杂质全部电离的条件下，它们跃迁到导带中成为导电电子，这时， n=ND - NA ND ,半导体是n型的.,2.当NA ND 时 施主能级上的全部电子跃迁到受主能级后，受主能级上还有NA ND空穴，它们可以跃迁入价带成为导电空穴， 所以，p= NA ND ,半导体是p型的。,经过补偿之后，半导体中的净杂质浓度称为有效杂质浓度。当ND NA时，则 ND NA为有效施主浓度；当NA ND时，则NA ND为有效受主浓度。,杂质补偿作用是制造各种半导体器件的基础。 如能根据需要用扩散或离子注人方法来改变半导体中某一区域的导电类型，以制成各种器件.,N,问题-控制不当,会出现ND NA的现象。这时

13、，施主电子刚好够填充受主能级，虽然杂质很多，但不能向导带和价带提供电子和空穴,这种现象称为杂质的高度补偿. 这种材料容易被误认高纯半导体，实际上含杂质很多，性能很差， 不能用采制造半导体器件.,2.1.6 深能级杂质,在Si、Ge中掺入非、族杂质后，在Si、Ge禁带中产生的施主能级ED距导带底EC较远，产生的受主能级EA距价带顶EV较远，这种杂质称为深能级，对应的杂质称为深能级杂质。,深能级杂质特点： 深能级杂质能级离带边较远，ED, EA可与Eg相比拟 深能级杂质可以多次电离，每一次电离相应有一个能级。在硅、锗的禁带中往往引入若干个能级。且有的杂质既引入施主能级又引入受主能级（两性杂质）。,

14、讨论： 杂质在硅、锗中的主要存在方式是替代式。分析它们的能级情况，可以从四面体共价键的结构出发。 以金在锗中产生的能级为例来说明。金在锗中产生四个能级，如图：,金在锗中的能级,ED是施主能级，EA1 EA2 EA3是三个受主能级，它们都是深能级。图中Ei是禁带中线位置，禁带中线以上的能级，注明离导带底的距离，禁带中线以下的能级，注意离价带顶的距离。,金是I族元素，中性金原子(Au0 )只有一个价电子，它取代锗晶格中的一个锗原子而位于晶格点上，金比锗少三个价电子，中性金原子的这一个价电子，可以电离而跃迁到导带，这一施主能级为ED。因此，电离能为(ECED )。,因为金的这个价电子被共价键所束缚，

15、电离能很大，略小于锗的禁带宽度，所以，这个施主能级靠近价带顶。,电离以后，中性金原子Au0就成为带一个电子电荷的正电中心Au+ 。,但另一方面，中性金原子还可以和周围的四个锗原子形成共价键。,在形成共价键时，它可以从价带接受三个电子形成EA1 EA2 EA3三个受主能级。金原子Au0接受第一个电子后变为Au- ，相应的受主能级为EA1，其电离能为(EA1EV)。,接受第二个电子后，Au变为Au= ，相应的受主能级为EA2，其电离能为(EA2EV)。接受第三个电子后， Au-变为Au ，相应的受主能级为EA3 ，其电离能为(EA3 Ev)。上述的Au- ， Au= ， Au分别表Au0 成为带一

16、个、两个、三个电子电荷的负电中心。,电子间的库仑排斥作用: 使金从价带接受第二个电子所需要的电离能比接受第一个电子时的大; 接受第三个电子时的电离能比接受第二个电子时的大。, EA3 EA2EA1。EA1离价带顶相对近一些，但是比III族杂质引入的浅能级还是深得多，EA2更深， EA3就几乎靠近导带底了。于是金在锗中一共有Au+ Au0 Au- ， Au= ， Au五种荷电状态，相应地存在着ED EA1 EA2 EA3 四个孤立能级，它们都是深能级。,深能级杂质，一般情况下含量极少 能级较深，它们对半导体中的导电电子浓度、导电空穴浓度(统称为载流子浓度)和导电类型的影响没有浅能级杂质显著，但对

17、于载流子的复合作用比浅能级杂质强，这些杂质也称为复合中心。,金是一种很典型的复合中心，在制造高速开关器件时，常有意地渗入金以提高器件的速度。 如：快恢复二极管,深能级杂质特点,不容易电离，对载流子浓度影响不大 一般会产生多重能级，甚至既产生施主能级也产生受主能级。 能起到复合中心作用，使少数载流子寿命降低（在第五章详细讨论）。 深能级杂质电离后以为带电中心，对载流子起散射作用，使载流子迁移率减少，导电性能下降。,2.2 -族化合物的杂质能级,GaAs中的杂质 替位式杂质：取代III 族、V 族位置 间隙式杂质：处于4 个III 族（V 族）原子围成的正四面体,各族元素在GaAs中的杂质行为(1

18、),1. I 族Ag, Au 受主 2. II 族Be 取代Ga位，少1 个价电子，受主（浅） 3. III 族In 取代Ga位，既不缺少价电子，也不多余价电子-等电子杂质 4. IV 族Si 既可以取代Ga，又可以取代As -两性杂质 对于GaAs中的Si，首先倾向于成为施主，逐渐小部分成为受主,各族元素在GaAs中的杂质行为(2),5. V 族P 取代As 位-等电子杂质 6. VI 族Te 取代As 位，多1 个价电子，施主（浅） O 深施主 p 型GaAs中掺O -半绝缘GaAs（107cm） 7. 过渡族Cr 深受主n 型GaAs中掺Cr - 半绝缘GaAs,2.3 缺陷、位错能级,

19、2.3.1 点缺陷,空位 VC VSi 间隙原子 Ci Sii 反结构缺陷 CSi 各种复合体 VCCSi VC-VSi,如SiC晶体中：,出现在 化合物半导体中,Vo+e V受主 VC VSi Vo-e V+ 施主 VC+ VSi+,弗仑克耳缺陷-晶体内间隙原子和空位是成对出现 肖特基缺陷-晶体内形成空位而无间隙原子 间隙原子缺陷：只有间隙原子而无原子空位 间隙原子和空位-既产生又不断复合达到平衡浓度值,分类：,点缺陷（热缺陷）特点,热缺陷的数目随温度升高而增热 缺陷中以肖特基缺陷为主（即原子空位为主）。原因：三种点缺陷中形成肖特基缺陷需要的能量最小 淬火后可以“冻结”高温下形成的缺陷。 退火可以消除大部分缺陷。半导体器件生产工艺中，经高温加工（如扩散）后的晶片一般都需要进行退火处理。离子注入形成的缺陷也用退火来消除。,缺陷的产生需要一定的能量,可以通过退火消除缺陷，但是也可能产生二次缺