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文档简介
1、b，1，阵列流程和测试简介，上海天马微电子有限公司，b，2，TFT-LCD简介1。什么是TFT-LCD？tft thin film transistor薄膜晶体管LCDLiquid Crystal Display液晶显示器2。应用：tft-LCD体积小、重量轻、发射率低、功耗低、真彩色等优点，广泛应用于多种显示设备、b、3、数码相机。数码相机，汽车导航显示器，数字音频和视频驱动器，笔记本电脑，台式机显示器，液晶电视，B，4，B，5，B，6，B，7，B，8，B，9，B，11 b，26，b，27，b，28，b，29，使用特定溶液和胶片之间的化学反应的湿分型，将显影后生成的光刻胶图案传输到光电阻下的
2、材料，光刻技术定义的图形形成，用蚀刻，等离子等离子体等离子体等离子体的膜上的光电阻复盖的部分干燥-Si/n-Si wet/dry etch pep 4 sinx dry etch pep 5 ITO wet etch，b，32，干碎气体，反应方程式：Cl2 sfsisi F4 sis 2其他Cl2: cl元素的来源Sf6:用于与a-Si反应以提高蚀刻速度的f元素来源。a-Si的蚀刻，反应方程式：SF6 HeSiN SiF4 SiS2其他SF6: f元素的来源。He:等离子均匀化，2 .SiN的蚀刻，3 .PR灰分，反应方程式：使用PR O2 O2等离子体方法移除PR；O2:对形成锥角有好处；b，33；湿块；m1:mo/alnd m2:mo/al/defect can be reviewed preisely，AOI auto optical inspection，b、4
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