INEOS BiChlor 电解槽介绍

1、A member of the INEOS Group BiChlor Coating Production Copyright INEOS Chlor 2004 INEOS BICHLOR 自然循环高电流密度 复极槽 Copyright INEOS Chlor 2004 每个槽架内有90个单元槽，每台电解槽有180个单元槽 单槽在电流密度为6千安培/平方米时，烧碱产量为3.6 万吨/年 膜的面积是每片 2.895 m2 设计达250毫巴的操作压力 BiChlor 尺寸规模尺寸规模 Copyright INEOS Chlor 2004 BICHLOR Electrolyser Copyrigh

2、t INEOS Chlor 2004 DOUBLE PACK 1 双框电解槽 双框的单台电解槽 双框电解槽 双框的单台电解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 BiChlor 独立单元槽式设计单元槽式设计 需更换德单元槽 预先组装 需更换德单元槽 预先组装,测试好的 单元槽 测试好的 单元槽 Copyright INEOS Chlor 2004 使用和发展从其它电槽得来的成功的特征 使用我们有多年经验的系统 (例如电极涂层、衬垫 ) BiChlor 代表了一个成功经验独特的组合代表了一个成功经验独特的组合 BiChlor 是在国际上专利注册的是在国际上专利注册的 BiChl

3、or 设计设计理念 Copyright INEOS Chlor 2004 BiChlor 电解槽电解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 自然循环高电流密度复极槽 单元槽易于维修 全湿膜排除了气体的损害 单元槽的密封采用业已证明了的化合物衬垫和设计 电流路线短，电阻低，电耗低 最佳的电流分布系统 均衡的液体分布及浓度确保离子膜寿命长 关键设计要素关键设计要素 Copyright INEOS Chlor 2004 独立单元槽设计独立单元槽设计 Copyright INEOS Chlor 2004 独立单元槽式的设计独立单元槽式的设计 AnodeCathodeMembrane

4、Gaskets Copyright INEOS Chlor 2004 独立单元槽式的设计独立单元槽式的设计 Copyright INEOS Chlor 2004 工作人员少 维修时间短 独立单元槽式的设计独立单元槽式的设计 Copyright INEOS Chlor 2004 单元槽组装维修单元槽组装维修 Copyright INEOS Chlor 2004 单元槽测压单元槽测压 Copyright INEOS Chlor 2004 存储测试的工作架供单元 槽在未安装进电解槽前测 压及存储 单元槽储存单元槽储存 Copyright INEOS Chlor 2004 单元槽安装单元槽安装 Cop

5、yright INEOS Chlor 2004 独立单元槽特点独立单元槽特点 独立式单元槽式的设计 维修简单 维修及更换单元时间短 维修及更换单元时对其它单元影响小、操作简便 更换单元时对未更换的单元垫圈毫无影响，减少电槽维修过程 中的单元垫圈损坏，降低了维修费用； 维修工作在安全的维修车间进行,不在电解槽现场 单元槽以单元形式与离子膜同时进行储存 在装进电解槽前,单元槽可个别进行测压,储存,可以减少安装中 因离子膜所引起问题的返工。 Copyright INEOS Chlor 2004 完全浸润的离子膜完全浸润的离子膜 碱液/氢气 出口 液位 盐水/氯气 出口 离子膜顶部 液位 Copyri

6、ght INEOS Chlor 2004 全淹没离子膜全淹没离子膜 Copyright INEOS Chlor 2004 完全泡湿的离子膜 单元槽的设计确保操作液位在离子膜顶部之上 顶部离子膜不会干燥,确保最长的离子膜寿命及不影响电解槽的 性能 Copyright INEOS Chlor 2004 离子膜离子膜 垫片垫片 支撑法兰支撑法兰 绝缘绝缘 衬垫在接触液体的 面上有聚四氟乙烯 环保护衬垫。 衬垫在接触液体的 面上有聚四氟乙烯 环保护衬垫。 衬垫在接触液体的 面上有聚四氟乙烯 环保护衬垫。 衬垫在接触液体的 面上有聚四氟乙烯 环保护衬垫。 垫片安装在与离子膜 接触点 垫片安装在与离子膜

7、接触点,加强密封加强密封 垫片安装在与离子膜 接触点 垫片安装在与离子膜 接触点,加强密封加强密封 允许高度的紧密 垫片不轻易损坏,减少 泄漏,产品损失及其他 过早故障 先进的密封先进的密封 Copyright INEOS Chlor 2004 密封密封 Copyright INEOS Chlor 2004 密封密封 Copyright INEOS Chlor 2004 先进的密封 简单的垫片设计, 根据25年电解槽垫片设计经验 垫片是衬PTFE的 EPDM PTFE 部分与液体接触,保护垫片 垫片与膜片接触形成的轮廓- 确保更佳的单元槽密封 减少产品泄漏的危险性 Copyright INEO

8、S Chlor 2004 低槽压设计低槽压设计 阴极板 阴极网 十字导电爪 电接触点 十字导电爪 阳极网 挡板 阳极板 Copyright INEOS Chlor 2004 低槽压设计低槽压设计 酒涡式的电极板设计通过以下达成低电压 阴极板上通电最大限度的利用镍 阳极板上通电最小限度的利用钛 爆炸复合的 Ti/Ni园块允许最佳单元槽与单元槽的接 触 零距离的电极 Copyright INEOS Chlor 2004 均衡的电流分布均衡的电流分布 其他的技术是将电流直接 传导到网上，而 其他的技术是将电流直接 传导到网上，而 BiChlor 的分布技术则是使用的分布技术则是使用4脚 电流分配器。

9、 这是 脚 电流分配器。 这是BiChlor的独特性的独特性, 离子膜充分离子膜充分,平均的利用平均的利用. 128 x 4 导电爪导电爪 其他的技术是将电流直接 传导到网上，而 其他的技术是将电流直接 传导到网上，而 BiChlor 的分布技术则是使用的分布技术则是使用4脚 电流分配器。 这是 脚 电流分配器。 这是BiChlor的独特性的独特性, 离子膜充分离子膜充分,平均的利用平均的利用. 128 x 4 导电爪导电爪 FEP（氟化乙丙烯）绝缘 体使电流改道传过分布架 ，同时保持离子膜稳定， 防止其振动。 共有 （氟化乙丙烯）绝缘 体使电流改道传过分布架 ，同时保持离子膜稳定， 防止其振

10、动。 共有128个支撑点。个支撑点。 FEP（氟化乙丙烯）绝缘 体使电流改道传过分布架 ，同时保持离子膜稳定， 防止其振动。 共有 （氟化乙丙烯）绝缘 体使电流改道传过分布架 ，同时保持离子膜稳定， 防止其振动。 共有128个支撑点。个支撑点。 导致: 佳化产能 减低电费 佳化离子膜寿命 Copyright INEOS Chlor 2004 均衡的电流分布均衡的电流分布 阴极导电爪 阳极 导电爪 阴极网阳极网 电接触点 阴极导电爪 阳极 导电爪 阴极网阳极网 电接触点 Copyright INEOS Chlor 2004 均衡的电流分布均衡的电流分布 阴阳极十字导电爪交错相对阴阳极十字导电爪交

11、错相对,增 强电流分布 增 强电流分布 阴阳极十字导电爪交错相对阴阳极十字导电爪交错相对,增 强电流分布 增 强电流分布 阳极十字导电爪 阴极十字导电爪 阳极十字导电爪 阴极十字导电爪 Copyright INEOS Chlor 2004 阴极板阴极板 Copyright INEOS Chlor 2004 均衡的电流分布 每个电极板有128个导电腿 阴阳极板的每个导电腿带有”十字导电爪”,形成512个电流分布 点 导电腿附带的FEP绝缘罩把电流引导到”十字导电爪”上重新分 配. 绝缘罩同时也轻轻把离子膜固定,防止离子膜片在操作时翼 动 单元与单元之间采用128个杯状结构进行连接、导电。 最大的

12、有效的利用了离子膜的面积 降低电耗量 Copyright INEOS Chlor 2004 自然循环自然循环 Copyright INEOS Chlor 2004 进盐水 液体分布小孔 挡板 进盐水 液体分布小孔 挡板 阳极间隔间阳极间隔间 挡板挡板挡板挡板 盐水 进料口 盐水 进料口 碱液 进料口 碱液 进料口 均衡的进液分布均衡的进液分布,流动和浓度流动和浓度 Copyright INEOS Chlor 2004 分布小孔 进碱液 分布小孔 进碱液 阴极间隔间阴极间隔间 均衡的进液分布均衡的进液分布 Copyright INEOS Chlor 2004 杂散电流控制杂散电流控制 波纹管出口

13、，破 坏液体的流动的 连续性，以防止 发生杂散电流。 波纹管出口，破 坏液体的流动的 连续性，以防止 发生杂散电流。 波纹管出口，破 坏液体的流动的 连续性，以防止 发生杂散电流。 波纹管出口，破 坏液体的流动的 连续性，以防止 发生杂散电流。 进料管的管径和长度进行 了优化设计，以减少杂散 电流。 进料管的管径和长度进行 了优化设计，以减少杂散 电流。 进料管的管径和长度进行 了优化设计，以减少杂散 电流。 进料管的管径和长度进行 了优化设计，以减少杂散 电流。 单元槽与总管隔离确保安全操作 Copyright INEOS Chlor 2004 单槽产能高单槽产能高 对规模超过对规模超过10

14、万吨万吨/年烧碱装置而言，采用单槽产 能高的 年烧碱装置而言，采用单槽产 能高的INEOS复极槽，在不影响高次谐波的前提下 它能降低整个装置的投资，主要是： 复极槽，在不影响高次谐波的前提下 它能降低整个装置的投资，主要是： 减少高压开关柜的数量 减少变压整流器的数量 减少大功率电流表和直流开关的数量 也减少电槽周围的仪表、管道、管件、阀门的投资 。 Copyright INEOS Chlor 2004 BICHLOR 电解槽电解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 BICHLOR 电解槽电解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 BICHLOR 电解槽电

15、解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 BICHLOR 电解槽电解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 BICHLOR 电解槽电解槽 Copyright INEOS Chlor 2004 技术服务技术服务 开车调试 完全称职胜任的技术人员 (包括能以汉言沟通的人员)到现场调试 全面监督电解槽厂房的开车 达到顾客满意的性能测试 Copyright INEOS Chlor 2004 培训 各个方式的操作,维修,分析手册(中英文) 试车期间全面的现场操作维修人员培训 每2年在邀请所有客户参加 INEOS 用户论坛会,交换操作经验 及讨论技术的发展 技术服务技术

16、服务 Copyright INEOS Chlor 2004 近期业绩近期业绩 用户用户国家国家规模规模(吨吨 NaOH 100%)开车开车 Olin Corporation (KOH) Charleston Olin Corporation (KOH) Charleston Kuhne Chemical Co. Ltd. Confidential Al Furat State Co. for Chemicals Wuhan Xianglong (武汉祥龙电业）武汉祥龙电业） Tasnim Chemical Complex Shandong Xinlong (山东新龙集团）山东新龙集团） Glo

17、bal Heavy Chem. (expansion) Siam PVS Luzhou Xinfu (泸州鑫福化工泸州鑫福化工) Xingtai Mining 邢台矿业邢台矿业 Middle East Chemical Leshan Fuhua 乐山福华乐山福华(二期二期) Leshan Fuhua 乐山福华乐山福华 Coogee Chemical Chengdu Chemical 成都化工厂成都化工厂 Jiangsu Suhua 江苏苏化江苏苏化(二期二期) USA 美国美国 USA 美国美国 USA 美国美国 Algeria Iraq 伊拉克伊拉克 China 中国中国 Banglades

18、h 孟加拉孟加拉 China 中国中国 Bangladesh 孟加拉孟加拉 Thailand 泰国泰国 China 中国中国 China 中国中国 Saudi Arabia 沙特阿拉伯沙特阿拉伯 China 中国中国 China 中国中国 Australia 澳大利亚澳大利亚 China 中国中国 China 中国中国 Confidential (KOH) Confidential 28,000 20,000 15,000 100,000 35,000 100,000 5,500 23,000 50,000 17,500 (KOH) 17,000 30,000 120,000 20,000 4

19、5,000 (KOH) 30,000 2012 2012 2012 2012 2011 2011 2011 2010 2010 2010 2010 2009 2010 2010 2009 2009 2009 2008 Riau 金鹰集团日昭浆厂金鹰集团日昭浆厂China 中国中国30,0002008 Xingtai Mining 邢台矿业邢台矿业China 中国中国35,000 (KOH)2008 Jiangsu Suhua 江苏苏化江苏苏化China 中国中国90,0002008 CarisalTrinidad 特立尼达特立尼达100,0002008 ArkemaFrance 法国法国20,0002008 Chlorine Derivative Industry Confidential Tunisia 突尼斯突尼斯 USA 美国美国 6,000 10,000 2007 2007 ConfidentialUSA 美国美国10,0002007 Global Heavy Chem. (Expansion) Allied New Technologies Bangladesh