湿法刻蚀(RENA)作业指导书

1、一、目的建立正确操作湿法刻蚀工序的规范，以保证刻蚀的质量及保护机器和人身安全。二、适用范围RENA 湿法刻蚀工序的所有操作人员 三、职责3.1、工艺技术人员 3.1.1、负责RENA刻蚀工序生产工艺运行的正常性、稳定性。 3.1.2、负责部门内工艺运行原始资料的累积，保管，随时检查工艺运行状态，并记录异常，积极处理工艺异常。 3.1.3、负责应对RENA刻蚀设备常见、突出、重大的工艺异常，制定落实整改措施、预防措施、应急方案。3.2、设备技术人员3.2.1、负责RENA刻蚀设备开关机、故障分析、设备维护及检修。3.2.2、如有工艺需求，积极配合工艺人员调整设备硬件设置。3.3、生产人员 3.3

2、.1、负责依照作业指导书要求，按标准进行生产作业，掌握正确的操作方法，确保操作安全、人身安全。 3.3.2、细心总结操作经验，发现新问题或改善建议，及时向工艺技术员汇报。 3.3.3、负责对RENA刻蚀设备进行标准、规范化操作，并配合、协助设备的日常维护工作。四、湿法刻蚀工段标准作业流程4.1刻蚀目的4.1.1 在扩散过程中，硅片表面和四周都生长一层PN结，若不去除边缘的PN结，制成的电池片因为边缘漏电而无法使用。4.1.2 扩散时硅片表面形成了一层磷硅玻璃，磷硅玻璃不导电，为了形成良好的欧姆接触，减少光的反射，在沉积减反射膜之前，必须把磷硅玻璃腐蚀掉。4.2 生产准备4.2.1 穿上工作服，

3、戴上PVC手套。4.2.2 确保手套没有粘有油脂性物质，使用吸笔上下片，严禁用手直接接触硅片，在生产过程中禁止用手套接触皮肤，如接触过皮肤、头发或者是带有油脂的物品，请更换手套。4.2.3 确认厂务配套各项目是否正常压缩空气:4.3 生产操作过程4.3.1 从扩散与去PSG的传递窗领取硅片，一次限拿两盒，并检查流程单，注意，传递窗不能两边同时打开。4.3.2 检查界面显示，若各模块均为绿色“Ready”和绿色in process，即表示设备进入正常生产状态，如果不在此状态，通知工艺人员进行处理。4.3.3 从载片盒中拿出硅片，注意取片方式，先小心拿出盒盖，将硅片盒竖起抽出硅片。4.3.4 确认

4、设备可正常使用后，把硅片轻放在滚轮上，注意硅片的扩散面，确保扩散面朝上，保证硅片整齐且每片之间的前后距离大于1.0cm。4.3.5 经过一遍刻蚀之后，硅片背场与边缘的PN结全部被刻蚀，下片时使用吸笔将处理好的硅片从滚轮上吸到载片盒内。4.3.6 抽取每批的最后四片进行刻蚀前和刻蚀后称重测量，将所测数据记入规定表格，若减薄量超出工艺控制范围，及时通知工艺人员进行调整。4.3.7 把装满硅片的片盒放入传递窗，流入PEVCD工序。五、注意事项5.1 上片时如果发现碎片、裂纹片或颜色异常的硅片及时挑出，并通知工艺人员进行处理。5.2 生产过程中保持设备门窗关闭。5.3 下片时观察硅片外观，发现有裂纹、碎片、未吹干、带液等情况时及时通知工艺与设备人员进行处理。 5.4 生产过程中，严禁裸手接触硅片、吸笔。5.5 确保手套的洁净度，每400