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文档简介
1、第七章 透射电镜的结构,第二篇 材料电子显微分析,Company Logo,透射电子显微镜是利用电子的波动性来观察固体材料内部的各种缺陷和直接观察原子结构的仪器。尽管复杂得多,它在原理上基本模拟了光学显微镜的光路设计,简单化地可将其看成放大倍率高得多的成像仪器。一般光学显微镜放大倍数在数十倍到数百倍,特殊可到数千倍。而透射电镜的放大倍数在数千倍至一百万倍之间,有些甚至可达数百万倍或千万倍。 目前,风行于世界的大型电镜,分辨本领为23,电压为100500kV,放大倍数501200,000倍。由于材料研究强调综合分析,电镜逐渐增加了一些其它专门仪器附件,如扫描电镜、扫描透射电镜、X射线能谱仪、电子
2、能损分析等有关附件,使其成为微观形貌观察、晶体结构分析和成分分析的综合性仪器,即分析电镜。它们能同时提供试样的有关附加信息。 高分辨电镜的设计分为两类:一是为生物工作者设计的,具有最佳分辨本领而没有附件;二是为材料科学工作者设计的,有附件而损失一些分辨能力。另外,也有些设计,在高分辨时采取短焦距,低分辨时采取长焦距。,Company Logo,光学显微镜和透射电镜光路图比较,Company Logo,透射电镜的工作原理,工作原理: 电子枪发射的电子束在阳极加速电压作用下加速,经聚光镜会聚成平行电子束照明样品,穿过样品的电子束携带样品本身的结构信息,经物镜、中间镜、投影镜接力聚焦放大,以图像或衍
3、射谱形式显示于荧光屏。 成像原理与光镜相似,具体差异: 1)光镜用可见光作照明束,电镜以电子束作照明束。 2)光镜用玻璃透镜,电镜用电磁透镜。 3)光镜对组成相形貌分析,电镜兼有组成相形貌和结构分析。,Company Logo,主要内容,Company Logo,7-1透射电子显微镜的结构,右图是透射电镜的外观照片。 通常透射电镜由电子光学系统、电源系统、真空系统、循环冷却系统和控制系统组成,其中电子光学系统是电镜的主要组成部分。,Company Logo,右图是电子光学系统的组成部分示意图。由图可见透射电镜电子光学系统是一种积木式结构,上面是照明系统、中间是成像系统、下面是观察与记录系统。,
4、Company Logo,一、照明系统,照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。 电子枪是发射电子的照明光源。 聚光镜是把电子枪发射出来的电子会聚而成的交叉点进一步会聚后照射到样品上。 照明系统的作用就是提供一束亮度高、照明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明源。,Company Logo,电子枪,电子枪是透射电子显微镜的电子源。 常用的是热阴极三极电子枪,它由发夹形钨丝阴极、栅极帽和阳极组成。 阴极:称灯丝,一般是由0.030.1毫米的钨丝作成V或Y形状。 阳极:加速从阴极发射出的电子。为了安全,一般都是阳极接地,阴极带有负高压。 栅极:称控制极。会聚电子束;控制电子束电流大小,调节象的亮度。 阴极
5、、阳极和控制极决定着电子发射的数目及其动能,因此,人们习惯上把它们通称为“电子枪”。,Company Logo,灯丝,Company Logo,电子枪,图(a)为电子枪的自偏压回路,自偏压回路可以起到限制和稳定束流的作用。 图(b)是电子枪结构原理图。在阴极和阳极之间的某一地点,电子束会集成一个交叉点,这就是通常所说的电子源。交叉点处电子束直径约几十个微米。,Company Logo,聚光镜,聚光镜:由于电子之间的斥力和阳极小孔的发散作用,电子束穿过阳极小孔后,又逐渐变粗,射到试样上仍然过大。聚光镜用来会聚电子枪射出的电子束,以最小的损失照明样品,调节照明强度、孔径角和束斑大小。 一般都采用双
6、聚光镜系统,如图所示。第一聚光镜是强激磁透镜,束斑缩小率为1050倍左右,将电子枪第一交叉点束斑缩小为15m;而第二聚光镜是弱激磁透镜,适焦时放大倍数为2倍左右。结果在样品平面上可获得210m的照明电子束斑。,Company Logo,照明部分示意图,Company Logo,电子枪的类型,电子枪的类型有热发射和场发射两种,热发射大多用钨和六硼化镧材料。一般电子枪的发射原理与普通照明用白炽灯的发光原理基本相同,即通过加热来使整个枪体来发射电子。电子枪的发射体使用的材料有钨和六硼化镧两种。前者比较便宜并对真空要求较低,后者发射效率要高很多,其电流强度大约比前者高一个量级。 热发射的电子枪其主要缺
7、点是枪体的发射表面比较大并且发射电流难以控制。近来越来越被广泛使用的场发射型电子枪则没有这一问题。如图所示,场发射枪的电子发射是通过外加电场将电子从枪尖拉出来实现的。由于越尖锐处枪体的电子脱出能力越大,因此只有枪尖部位才能发射电子。这样就在很大程度上缩小了发射表面。通过调节外加电压可控制发射电流和发射表面。,Company Logo,场发射电子枪及原理示意图,Company Logo,二、成像系统,成像系统主要由物镜、中间镜和投影镜组成。 (一)物镜 物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样的透镜。透射电子显微镜分辨本领的高低主要取决于物镜。因为物镜的任何缺陷都被成像系统中其它透
8、镜进一步放大。欲获得物镜的高分辨率,必须尽可能降低像差。通常采用强激磁,短焦距的物镜。 物镜是一个强激磁短焦距的透镜,它的放大倍数较高,一般为100-300倍。目前,高质量的物镜其分辨率可达0.1nm左右。,Company Logo,物镜,物镜是电镜的最关键的部分,其作用是将来自试样不同点同方向同相位的弹性散射束会聚于其后焦面上,构成含有试样结构信息的散射花样或衍射花样;将来自试样同一点的不同方向的弹性散射束会聚于其象平面上,构成与试样组织相对应的显微象。,Company Logo,物镜,物镜的分辨率主要取决于极靴的形状和加工精度。一般来说,极靴的内孔和上下级之间的距离越小,物镜的分辨率就越高
9、。 为了减少物镜的球差,往往在物镜的后焦面上安放一个物镜光阑。物镜光阑不仅具有减少球差,像散和色差的作用,而且可以提高图像的衬度。 此外,我们在以后的讨论中还可以看到,物镜光阑位于后焦面的位置上时,可以方便的进行暗场及衬度成像的操作。 在用电子显微镜进行图像分析时,物镜和样品之间和距离总是固定不变的,(即物距L1不变)。因此改变物理学镜放大倍数进行成像时,主要是改变物镜的焦距和像距(即f 和 L2)来满足成像条件。,Company Logo,中间镜,中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜,可在0-20倍范围调节。当M1时,用来进一步放大物镜的像;当M1时,用来缩小物镜的像。在电镜操作过程中,主要是
10、利用中间镜的可变倍率来控制电镜的放大倍数。 如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏上得到一幅放大像,这就是电子显微镜中的成像操作,如图(a)所示。如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合,则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样,这就是电子显微镜中的电子衍射操作,如图(b)所示。,Company Logo,投影镜,投影镜的作用是把经中间镜放大(或缩小)的像(电子衍射花样)进一步放大,并投影到荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强磁透镜。投影镜的激磁电流是固定的。 因为成像电子束进入投影镜时孔镜角很小(约10-3rad),因此它的景深和焦长都非常大。即使改变中间镜的放大倍数,使显微镜的总放大
11、倍数有很大的变化,也不会影响图像的清晰度。有时,中间镜的像平面还会出现一定的位移,由于这个位移距离仍处于投影镜的景深范围之内,因此,在荧光屏上的图像仍旧是清晰的。,Company Logo,成像系统,高性能的透射电镜大都采用5级透镜放大,即中间镜和投影镜有两级,分第一中间镜和第二中间镜,第一投影镜和第二投影镜。,Company Logo,三、观察与记录系统,观察和记录装置包括荧光屏和照相机构,在荧光屏下面放置一下可以自动换片的照相暗盒。照相时只要把荧光屏竖起,电子束即可使照相底片曝光。由于透射电子显微镜的焦长很大,虽然荧光屏和底片之间有数十厘米的间距,仍能得到清晰的图像 。,Company L
12、ogo,7-2 透射电镜的主要部件-1样品台,样品台的作用是承载样品,并使样品能作平移、倾斜、旋转,以选择感兴趣的样品区域或位向进行观察分析。透射电镜的样品是放置在物镜的上下极靴之间,由于这里的空间很小,所以透射电镜的样品也很小,通常是直径3mm的薄片。,Company Logo,样品台与试样,Company Logo,透射电镜的主要部件-2电子束倾斜与平移装置,利用电磁偏转器可以使入射电子束平移和倾斜。 右图为电子束平移和倾斜的原理图,图中上、下两个偏转线圈偏转的角度相等但方向相反,电子束会进行平移运动,见图 (a)。如果上偏转线圈使电子束顺时针偏转角,下偏转线圈使电子束逆时针偏转+角,则电
13、子束相对于原来的方向倾斜了角,而入射点的位置不变,见图(b)。利用电子束原位倾斜可以进行所谓中心暗场成像操作。,Company Logo,透射电镜的主要部件-3消像散器,消像散器可以是机械式的,可以是电磁式的。 机械式的是在电磁透镜的磁场周围放置几块位置可以调节的导磁体,用它们来吸引一部分磁场,把固有的椭圆形磁场校正成接近旋转对称的磁场。电磁式的是通过电磁极间的吸引和排斥来校正椭圆形磁场的。,Company Logo,透射电镜的主要部件-4光阑,在透射电子显微镜中有许多固定光阑和可动光阑,它们的作用主要是挡掉发散的电子,保证电子束的相干性和照射区域。其中三种主要的可动光阑是第二聚光镜光阑,物镜
14、光阑和选区光阑。光阑都用无磁性的金属(铂、钼等)制造。,Company Logo,聚光镜光阑,四个一组的光阑孔被安装在一个光阑杆的支架上(如图),使用时,通过光阑杆的分档机构按需要依次插入,使光阑孔中心位于电子束的轴线上(光阑中心和主焦点重合)。 聚光镜光阑的作用是限制照明孔径角。在双聚光镜系统中,安装在第二聚光镜下方的焦点位置。光阑孔的直径为20400m,作一般分析观察时,聚光镜的光阑孔径可用200300m,若作微束分析时,则应采用小孔径光阑。,Company Logo,物镜光阑,物镜光阑又称为衬度光阑,通常它被放在物镜的后焦面上。 常用物镜光阑孔的直径是20120m范围。 电子束通过薄膜样
15、品后产生散射和衍射。散射角(或衍射角)较大的电子被光阑挡住,不能继续进入镜筒成像,从而就会在像平面上形成具有一定衬度的图像。光阑孔越小,被挡去的电子越多,图像的衬度就越大,这就是物镜光阑又叫做衬度光阑的原因。加入物镜光阑使物镜孔径角减小,能减小像差,得到质量较高的显微图像。 物镜光阑的另一个主要作用是在后焦面上套取衍射束的斑点(即副焦点)成像,这就是所谓暗场像。利用明暗场显微照片的对照分析,可以方便地进行物相鉴定和缺陷分析。,Company Logo,选区光阑,选区光阑又称场限光阑或视场光阑。 为了分析样品上的一个微小区域,应该在样品上放一个光阑,使电子束只能通过光阑限定的微区。对这个微区进行
16、衍射分析叫做选区衍射。由于样品上待分析的微区很小,一般是微米数量级。制作这样大小的光阑孔在技术上还有一定的困难,加之小光阑孔极易污染,因此,选区光阑都放在物镜的像平面位置。这样布置达到的效果与光阑放在样品平面处是完全一样的。但光阑孔的直径就可以做的比较大。如果物镜的放大倍数是50倍,则一个直径等于50m的光阑就可以选择样品上直径为1m的区域。 选区光阑同样是用无磁性金属材料制成的,一般选区光阑孔的直径位于20400m范围之间,它可制成大小不同的四孔一组或六孔一组的光阑片,由光阑支架分档推入镜筒。,Company Logo,点分辨本领的测定:将铂、铂-铱或铂-钯等金属或合金,用真空蒸发的方法可以
17、得到粒度为510、间距为210的粒子,将其均匀分布在火棉胶(或碳)支持膜上,在高放大倍数下拍摄这些粒子的像。一般在同样条件下拍摄两张底片,然后经光学放大(5倍左右),从照片上找出粒子间最小间距,除以总放大倍数,即为相应电子显微镜的点分辨本领(如图所示)。,7-3 透射电镜分辨率和放大倍数的测定,Company Logo,晶格分辨本领的测定,利用外延生长方法制得的定向单晶薄膜作为标样,拍摄其晶格像。 这种方法的优点是不需要知道仪器的放大倍数,因为事先可精确地知道样品晶面间距。根据仪器分辨本领的高低,选择晶面间距不同的样品作标样(如图所示)。测定透射电子显微镜晶格分辨本领常用的晶体如表9-1所列。
18、,Company Logo,放大倍数的测定,透射电子显微镜的放大倍数将随样品平面厚度、加速电压、透镜电流而变化。为了保持仪器放大倍数的精度,必须定期进行标定。 最常用的方法是用衍射光栅复型作为标样,在一定条件(加速电压、透镜电流等)下,拍摄试样的放大像。然后在底片上测量光栅条纹像的平均间距,与实际光栅间距之比即为仪器相应条件下的放大倍数(如图所示)。这样进行标定的精度随底片上条纹数的减少而降低。,Company Logo,7-4 透射电镜的发展,从1934年第一台透射电子显微镜诞生以来,70年的时间里它得到了长足的发展。这些发展主要集中在三个方面: 一是透射电子显微镜的功能的扩展; 二是分辨率
19、的不断提高; 三是将计算机和微电子技术应用于控制系统、观察与记录系统等。,Company Logo,功能的扩展,早期的透射电子显微镜功能主要是观察样品形貌,后来发展到可以通过电子衍射原位分析样品的晶体结构。具有能将形貌和晶体结构原位观察的两个功能是其它结构分析仪器(如光镜和X射线衍射仪)所不具备的。 透射电子显微镜增加附件后,其功能可以从原来的样品内部组织形貌观察(TEM)、原位的电子衍射分析(Diff),发展到还可以进行原位的成分分析(能谱仪EDS、特征能量损失谱EELS)、表面形貌观察(二次电子像SED、背散射电子像BED)和透射扫描像(STEM)。,Company Logo,功能的扩展,
20、结合样品台设计成高温台、低温台和拉伸台,透射电子显微镜还可以在加热状态、低温冷却状态和拉伸状态下观察样品动态的组织结构、成分的变化,使得透射电子显微镜的功能进一步的拓宽。 透射电子显微镜功能的拓宽意味着一台仪器在不更换样品的情况下可以进行多种分析,尤其是可以针对同一微区位置进行形貌、晶体结构、成分(价态)的全面分析。,Company Logo,分析型透射电子显微镜,利用电子束与固体样品相互作用产生的物理信号开发的多种分析附件,大大拓展了透射电子显微镜的功能。由此产生了透射电子显微镜的一个分支分析型透射电子显微镜。,Company Logo,分析型透射电子显微镜,Company Logo,分析型
21、透射电子显微镜,Company Logo,高分辨透射电子显微镜,透射电子显微镜发展的另一个表现是分辨率的不断提高。目前200KV透射电子显微镜的分辨率好于0.2nm,1000KV透射电子显微镜的分辨率达到0.1nm。 透射电子显微镜分辨率的提高取决于电磁透镜的制造水平不断提高,球差系数逐渐下降;透射电子显微镜的加速电压不断提高,从80KV、100KV、120KV、200KV、300KV直到1000KV以上;为了获得高亮度且相干性好的照明源,电子枪由早期的发夹式钨灯丝,发展到LaB6单晶灯丝,现在又开发出场发射电子枪。 提高透射电子显微镜分辨率的关键在于物镜制造和上下极靴之间的间隙,舍弃各种分析附件可以使透射电子显微镜的分辨率进一步提高,由此产生了透射电子显微镜的另一个分支高分辨透射电子显微镜(HREM)。 但是近年来随着电子显微镜制造技术的提高,高分辨透射电子显微镜也在增加各种分析附件,完善其分析功能。,Company Logo,超高压电
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