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  • 1984-04-12 颁布
  • 1985-03-01 实施
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UDC621.315.592:621.317.3中华人民共和国国家标准GB4326-84非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法ExtrinsicsemiconductorsingleeCrystals-measurementofHallmobilityandHallcoeffictent1984-04-12发布1985-03-01实施家标准局批准中华人民共和国国家标准UDC621.315非本征半导体单晶霍尔迁移率和.592:621.317.8GB4326-84霍尔系数测量方法ExtrinsicsemiconductorsingleCrystals-measurementofHallmobilityandHallcoerficient本标准适用于在非本征半导体单晶试样中确定载流子霍尔迁移率。为获得霍尔迁移率必须测量电阻率和霍尔系数，因此本标准也分别适用于这些参数的测量。本方法仅在有限的范围内和对错、硅和砷化钦进行了实验室测量，但该方法也可适用于其他半导体单晶材料。所述的测量技术至少适用于室温电阻率高达10Qcm的试样。1术语1.1电阻率1.1.1电阻率是材料中平行于电流的电位梯度与电流密度之比。电阻率应在零磁通下测定。11.1.2电阻率是材料中直接测量的址。在具有单一类型载流子的非本征半导体中，电阻率与材料基本参数的关系如下：p=（neu）-！（1）式中：p一电阻率，.cmi载流子浓度，cm-3电子电荷值，C；-载流子迁移率，cm/Vs。必须指出，对于本征半导体和某些P型半导体如P-Ge（存在两种空穴)，式（1）显然是不适用的，而必须采用如下关系式：P-二（meui）-（2）式中心和4,表示第；种载流子相关的量。1.2蛋尔系数在各向同性的固体上同时加上互相垂直的电场和磁场，1.2.1则载流子在第三个互相垂直的方向上偏转，在试样两侧建立横向电场，称
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