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外文翻译--镁合金化学镀镍的空隙率研究 中文版.doc外文翻译--镁合金化学镀镍的空隙率研究 中文版.doc

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镁合金化学镀镍的空隙率研究李建忠,田燕文,黄镇其,张辛摘要目前论文显示,通过实验可以估计镀层的空隙率,通过调查研究,已经发现镀层对空隙率的影响,而且经过扫描电子显微镜(SEM)和电气化学的偏极化可以研究含磷镀层的空隙率。结果表示,黑色T指示器在镁合金上作为镀层多孔性的一个指示器,这使得镁合金上的多孔性比镁指示器和钠指示器作为多孔性指示器时更优越。根据cor实验显示,镁合金化学镀镍镀层的空隙率很好。由显示可知,在表面和边界上都存在大量的孔隙。镀层空隙率上的镀液叁数日趋被人们所熟知。2005ElsevierB.V.版权所有1前言镁是所有金属中最光亮的,通常被用作合金装配的基础。减轻汽车组成部分重量的这一要求已经重新引起了对镁的进一步研究。此外,近几年,镁合金在其他领域的使用也逐渐稳步增加,例如,在航空宇宙领域,在电子和电传视讯领域。据估计,在以后的10年,将按每年7%的比率增长。然而,镁本质具有高度活跃性,而且镁合金与其他合金相比,通常有较低的抗腐蚀性,实际上这就是镁合金在使用上的最大障碍之一。通常情况下,镁合金化学镀镍-磷合金之所以比电镀合金优越,是因为其超强的抗腐蚀性和在复杂物体上独特的可接触性。使用镁合金上化学镀镍-磷合金是进一步提高抗腐蚀性的最有效方法之一。然而,每个方法都有利有弊。在化学镀镍过程中,有大量的氢气和杂质粒子产生,这可能导致孔隙形成。然而,镍镁系统是在一个基体上负级镀层的古典例子。因此,镀层的空隙率可能长期影响镀镍的镁的腐蚀性。在许多工程材料上,化学镀镍保护能力受镀层空隙率所限制。此外,镀层的密度和有黏性也极大的受到镀层空隙率的影响。详细地调查研究镁合金化学镀镍镀层的空隙率具有极大的现实意义。到目前为止,仍旧仅有少数报告对于如何估计镁合金化学镀镍镀层的空隙率和什么影响了涂料的多孔性参数做出研究。化学镀镍镀层的空隙率的结构如图1所示。图1镀层空隙率的结构图以下是两种类型的孔隙:一种是开口型(D,E),另一种是封闭型(A,B,C)。封闭型洞对于镀层的有效厚度和压力有极大的影响,但是开口型洞对镀层的抗腐蚀性会产生影响。开口型洞D是由基体的不足所引起。这是因为镁合金的不足很容易与镀层表面起化学反应,产生氢气。这将会在镁合金不足之处产生不连续的化学镀层。连续的Ni-P镀层的沉淀导致孔隙的积累,以至于形成开口型E。一个主要的细胞可能通过开口型洞形成于腐蚀处与基
编号:201311171349526367    类型:共享资源    大小:270.00KB    格式:DOC    上传时间:2013-11-17
  
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