薄膜材料的制备

薄膜材料的制备Tag内容描述：<p>1、先进材料制备技术,化材学院李涓juanli,研究生课程,LOGO,1薄膜材料的制备,1.1薄膜的形成机理1.2物理气相沉积1.3化学气相沉积1.4化学溶液镀膜法1.5液相外延制膜法1.6膜厚的测量与监控,先进材料制备技术,LOGO,1.1薄膜的形成机理,薄膜材料在现代科学技术中应用十分广泛,制膜技术的发展也十分迅速。制膜方法分为物理和化学方法两大类；具体方式上分为干式、湿式和喷涂。</p><p>2、固体薄膜材料的制备,方 亮,重庆大学数理学院 2004年4月20日,2019/5/16,2,主要内容,薄膜的制备方法,含: -真空技术基础 -PVD(真空蒸发、溅射、离子镀膜) -CVD -溶液镀膜法 典型的薄膜材料的制备 -金刚石薄膜 -ZnO薄膜,2019/5/16,3,真空技术基础,真空及真空的常用单位 真空的分类 真空泵 真空的测量,2019/5/16,4,真空及其单位,真空是指低于一个大气压的气体空间。常用“真空度”度量。真空度越高，压强越小。 常用计量单位：Pa, Torr, mmHg, bar, atm.。关系如下： 1mmHg=133.322Pa, 1 Torr=atm/760=133.322Pa1mmHg 1 bar=105Pa,2019/5/16,5,。</p><p>3、1,薄膜材料及其制备,2,概 念,采用一定方法，使处于某种状态一种或几种的物质以物理或化学方式沉积于衬底材料表面，在衬底材料表面形成一层新的物质。,是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维材料。,状态,气态,液态,固态,结晶态,非晶,多晶,单晶,3,组成,金属薄膜,非金属薄膜,物性,硬质薄膜,超导薄膜,金属导电薄膜,介电薄膜,半导体薄膜,光学薄膜,磁学薄膜,4,一、物理气相沉积-蒸发法,1. 物质的热蒸发 利用物质高温下的蒸发现 象，可制备各种薄膜材料。 与溅射法相比，蒸发法显 著特点之一是在较高的真空 度条件下，不仅蒸发出来的 物质原。</p><p>4、第三章薄膜材料的制备 第一节概述第二节物理成膜第三节化学成膜第四节液相反应沉积 第一节概述 薄膜技术在工业上得到广泛应用 特别是在电子材料与元器件工业领域 功能材料领域及超硬化合物薄膜涂覆处理技术领域占有。</p><p>5、薄膜材料的制备,第五章,2,薄膜材料的概况,3,薄膜由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维材料。 即采用一定的方法，使处于某种状态的一种或几种的物质的基团以物理或者化学方法附着于某种物质表面，在衬底材料表面形成一层新的物质，这层新的物质即为薄膜。 薄膜的特征具有二维延展性。,4,薄膜材料在现代科学技术中应用十分广泛，制膜技术的发展也非常迅速。 制膜方法分为物理和化学方法两大类。 具体方式上分为干。</p>