薄膜物理与技术

薄膜物理与技术Tag内容描述：<p>1、薄膜物理基础知识大全第一章： 最可几速度：平均速度：均方根速度：平均自由程：每个分子在连续两次碰撞之间的路程称为自由程；其统计平均值成为平均自由程。常用压强单位的换算 1Torr=133.322 Pa 1 Pa=7.510-3 Torr1 mba=100Pa 1atm=1.013*100000Pa真空区域的划分、真空计、各种真空泵粗真空 1105 to 1102 Pa低真空 1102 to 110-1 Pa高真空 110-1 to 110-6 Pa超高真空 <110-6 Pa旋转式机械真空泵油扩散泵复合分子泵 属于气体传输泵，即通过气体吸入并排出真空泵从而达到排气的目的分子筛吸附泵钛升华泵溅射离子泵低温泵属于气体捕获泵，。</p><p>2、薄膜物理与技术 Thin Film Physics and Technologies,李瑞山 兰州理工大学理学院,绪 论,薄膜科学的发展历史 薄膜的分类 薄膜科学的研究内容 薄膜科学的基本概念 本课程的主要内容,参考资料,杨邦朝，王文生. 薄膜物理与技术. 电子科技大学出版社，1997 陈国平. 薄膜物理与技术. 东南大学出版社， 1993 曲喜新，杨邦朝，姜节俭，张怀武编著. 电子薄膜材料. 科学出版社，1997 吴自勤，王兵. 薄膜生长. 科学出版社，2001 薛增泉，吴全德，李浩. 薄膜物理. 电子工业出版社，1991 郑伟涛. 薄膜材料与薄膜技术。 化学工业出版社，2005 唐伟忠. 薄。</p><p>3、薄膜物理与技术课程教学大纲课程编号：c170003适用专业：固体电子学学 时 数：40 学 分 数：2.5先修课程：固体物理考核方式：笔试执 笔 者：杜晓松编写日期：2004-4-30一、 课程性质和任务本课程为专业课，授课对象为微电子与固体电子学院高年级的本科生。薄膜技术是材料科学的一个重要方向。本课程的开设，拟。</p><p>4、薄膜物理与技术,任课老师 李金钗 武汉大学,序言,本课程主要包括三部分： 真空科学与技术 1. 真空的基本知识 2. 真空的获得（各种真空泵原理、结构及应用） 3. 真空的测量原理 4. 真空系统的组成、检漏及流导的计算,二. 薄膜物理 1. 薄膜的各种制备方法及原理 2. 薄膜厚度的测量 3. 薄膜的形成机理、晶体结构、缺陷 4. 薄膜的物理性质 三. 薄膜的掺杂、表面处理及离子束改性 1. 离子束与固体相互作用的基础知识 2. 离子注入的损伤效应及退火效应 3. 离子束材料改性 4. 离子注入设备,三部分之间的联系 大多数薄膜的制备和生长方法都离不开真。</p><p>5、1,7.3薄膜形成过程与生长模式,薄膜生长有三种模式，以岛状生长为主进行讨论。在形成稳定核后，岛状薄膜的形成过程如图:,2,1.岛状阶段透射电子显微镜观察到的最小核的尺寸为23nm。核进一步长大成小岛的过程中，平行于基片表面的生长速度大于垂直方向的生长速度。因为核的长大主要是由于基体表面吸附原子的扩散迁移碰撞结合。对岛的形成可以用宏观物理量来判别。,因为00，所以2<0，则上式满足。薄。</p><p>6、薄膜的性质,薄膜的性质,进入20世纪以来薄膜技术无论在学术上还是在实际应用中都取得了丰硕的成果。其中特别应该指出的是下述三个方面。 第一是以防反射膜、干涉滤波器等为代表的光学薄膜的研究开发及其应用。这种薄膜在学术上有重要意义，同时，具有十分广泛的实用性，对此人们寄予了很大的希望。 第二是在集成电路（IC、LSI）等电子工业中的应用。一个显著成果是外延薄膜生长。特别是随着电路的小型化，薄膜实际。</p><p>7、CH2-3 真空溅射镀膜法Sputtering,主要内容,2.3.1 溅射镀膜概述 2.3.2 等离子体介绍 2.3.3 溅射镀膜的基本原理 2.3.4 溅射镀膜的类型 2.3.5 离子镀技术,2.3.1 溅射镀膜概述,溅射镀膜的概念 溅射镀膜技术的发展历史 溅射镀膜的特点,1. 溅射镀膜的概念,定义： 所谓溅射是指用带有几十电子伏特以上动能的粒子或粒子束照射固体表面，使靠近固体表面的原子获得。</p>