薄膜物理与技术-绪论

薄膜物理与技术-绪论Tag内容描述：<p>1、薄膜物理与技术ThinFilmPhysicsandTechnologies,李瑞山兰州理工大学理学院,绪论,薄膜科学的发展历史薄膜的分类薄膜科学的研究内容薄膜科学的基本概念本课程的主要内容,参考资料,杨邦朝，王文生.薄膜物理与技术.电子科技大学出版社，1997陈国平.薄膜物理与技术.东南大学出版社，1993曲喜新，杨邦朝，姜节俭，张怀武编著.电子薄膜材料.科学出版社，1997吴自勤，王兵.薄膜生长。</p><p>2、薄膜物理与技术 Thin Film Physics and Technologies,李瑞山 兰州理工大学理学院,绪 论,薄膜科学的发展历史 薄膜的分类 薄膜科学的研究内容 薄膜科学的基本概念 本课程的主要内容,参考资料,杨邦朝，王文生. 薄膜物理与技术. 电子科技大学出版社，1997 陈国平. 薄膜物理与技术. 东南大学出版社， 1993 曲喜新，杨邦朝，姜节俭，张怀武编著. 电子薄膜材料. 科学出版社，1997 吴自勤，王兵. 薄膜生长. 科学出版社，2001 薛增泉，吴全德，李浩. 薄膜物理. 电子工业出版社，1991 郑伟涛. 薄膜材料与薄膜技术。 化学工业出版社，2005 唐伟忠. 薄。</p><p>3、薄膜物理与技术 读书报告 班级： 学号： 姓名： 真空薄膜技术发展至今已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。经过一代代探索者的艰辛研究，时至今日大量具有各种不同功能的薄膜得到了广泛的应用，薄膜作为一种重要的材料在材料领域占据着越来越重要的地位，各种材料的薄膜化已经成为一种普遍趋势。其中包括纳米薄膜、量子线、量子点等低维材料，高K值。</p><p>4、一 填空题一 填空题 在离子镀膜成膜过程中 同时存在沉积沉积和溅射溅射作用 只有当前者超过后者时 才能发 生薄膜的沉积 薄膜的形成过程一般分为 凝结过程凝结过程 核形成与生长过程核形成与生长过程 岛形成与结合生长过程岛形成与结合生长过程 薄膜形成与生长的三种模式 层状生长层状生长 岛状生长岛状生长 层状层状 岛状生岛状生长 在气体成分和电极材料一定条件下 起辉电压 V 只与 气体的压强气体的压强。</p><p>5、第一章 真空技术基础 1 膜的定义及分类 答 当固体或液体的一维线性尺度远远小于它的其他二维尺度时 我们将这样的固体或液体称为膜 通常 膜可分为两类 1 厚度大于1mm的膜 称为厚膜 2 厚度小于1mm的膜 称为薄膜 2 人类所接触的真空大体上可分为哪两种 答 1 宇宙空间所存在的真空 称之为 自然真空 2 人们用真空泵抽调容器中的气体所获得的真空 称之为 人为真空 3 何为真空 绝对真空及相对真。</p><p>6、一 填空题 薄膜的形成过程一般分为 凝结过程 核形成与生长过程 岛形成与结合生长过程 薄膜形成与生长的三种模式 层状生长 岛状生长 层状 岛状生长 在气体成分和电极材料一定条件下 起辉电压V只与 气体的压强P 和 电。</p><p>7、1,7.3薄膜形成过程与生长模式,薄膜生长有三种模式，以岛状生长为主进行讨论。在形成稳定核后，岛状薄膜的形成过程如图:,2,1.岛状阶段透射电子显微镜观察到的最小核的尺寸为23nm。核进一步长大成小岛的过程中，平行于基片表面的生长速度大于垂直方向的生长速度。因为核的长大主要是由于基体表面吸附原子的扩散迁移碰撞结合。对岛的形成可以用宏观物理量来判别。,因为00，所以20，则上式满足。薄。</p><p>8、薄膜物理与技术要点总结第一章最可几速率：根据麦克斯韦速率分布规律，可以从理论上推得分子速率在处有极大值，称为最可几速率,Vm速度分布平均速度:，分子运动平均距离均方根速度:平均动能真空的划分：粗真空、低真空、高真空、超高真空。真空计：利用低压强气体的热传导和压强有关； (热偶真空计)利用气体分子电离；（电离真空计）真空泵：机械泵、扩散泵、分子泵、罗茨泵机械泵。</p><p>9、1 真空环境的划分：低真空（ 102Pa）；中真空（102 10-1Pa）；高真空（10-110-5Pa）；超高真空（ 10-5Pa） 真空蒸发沉积：高真空和超高真空（10-1Pa 涡轮分子泵（输运式真空泵）：高速旋转的叶片将动量传给气体分子，并使其向特定方向运动。 10-81Pa 溅射离子泵（捕获式真空泵）：高压下电离的气体分子撞击。</p><p>10、第一章 最可几速率 根据麦克斯韦速率分布规律 可以从理论上推得分子速率在处有极大值 称为最可几速率 Vm速度分布 平均速度 分子运动平均距离 均方根速度 平均动能 真空的划分 粗真空 低真空 高真空 超高真空 真空计。</p><p>11、第一章 真空技术基础 真空 指低于一个大气压的气体状态 托 Torr 1 760atm 133 322Pa 对真空的划分 1 粗真空 105 102Pa 特性和大气差异不大 目的为获得压力差 不要求改变空间性质 真空浸渍工艺 2 低真空 102 10 1Pa 1。</p><p>12、薄膜物理与技术B卷试题参考答案及评分细则 一、名词解释：（本题满分12分，每小题3分） 1、瞬时蒸发法 瞬时蒸发法是指将细小的合金颗粒，逐次送到非常炽热的蒸发器或坩锅中，使一个一个的颗粒实现瞬间完全蒸发。（3分） 2、溅射 溅射是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子（或分子）从表面射出的现象。（3分） 3、活性反应离子镀 活性反应离子镀是指在离子镀过程中，在真空室中导入能和金属蒸气起反应的。</p><p>13、薄膜物理与技术A卷试题参考答案及评分细则 一、名词解释：（本题满分20分，每小题5分） 1、饱和蒸汽压 在一定温度下（1分），真空室内蒸发物质的蒸气与固体或液体平衡过程中（2分）所表现出的压力称为该物质的饱和蒸气压。（2分） 2、溅射 是指荷能粒子轰击固体物质表面（靶），（1分）并在碰撞过程中发生动能与动量的转移，（2分）从而将物质表面原子或分子激发出来的过程。（2分） 3、化学气相沉积 把。</p><p>14、薄膜的性质,薄膜的性质,进入20世纪以来薄膜技术无论在学术上还是在实际应用中都取得了丰硕的成果。其中特别应该指出的是下述三个方面。 第一是以防反射膜、干涉滤波器等为代表的光学薄膜的研究开发及其应用。这种薄膜在学术上有重要意义，同时，具有十分广泛的实用性，对此人们寄予了很大的希望。 第二是在集成电路（IC、LSI）等电子工业中的应用。一个显著成果是外延薄膜生长。特别是随着电路的小型化，薄膜实际。</p>