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化学清洗技术

半导体硅片的化学清洗技术。一. 硅片的化学清洗工艺原理。运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μm颗粒。化学清洗安全技术。大化肥设备化学清洗安全技术。化学清洗技术在化肥设备上得到了广泛的应用。

化学清洗技术Tag内容描述:<p>1、半导体硅片的化学清洗技术一. 硅片的化学清洗工艺原理硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类:A. 有机杂质沾污: 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B. 颗粒沾污:运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 0.4 m颗粒,利用兆声波可去除 0.2 m颗粒。C. 金属离子沾污:必须采用化学的方法才能清洗其沾污,硅片表面金属杂质沾污有两大类:a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着(尤如“电镀”)到硅。</p><p>2、仅供参考整理安全管理文书化学清洗安全技术日期:__________________单位:__________________第 1 页 共 3 页化学清洗安全技术前言化学清洗行业是随着一个国家工业化和现代化的进程及社会生产的需要而产生和发展起来的。近十年来,我国的化学清洗以其节能、高效、服务面广的特点,迅速发展成为一门新兴行业,已经有许多企业涉足清洗业,从事化学清洗工作的人员已达数万人。由于化学清洗是采用由一种或几种化学药剂配制而成的清洗剂对设备及装置表面的污垢进行清洗去除的过程。在安全施工方面具有一定的特点:即清洗药剂涉及多种化学品,。</p><p>3、仅供参考整理安全管理文书大化肥设备化学清洗安全技术日期:__________________单位:__________________第 1 页 共 10 页大化肥设备化学清洗安全技术自从70年代我国引进大化肥装置以来,化学清洗技术在化肥设备上得到了广泛的应用,产生了巨大的经济效益和社会效益。但是,如果在清洗过程中不严格遵守安全技术操作规程,那就有可能发生意外事故,给设备带来隐患甚至导致设备损失。1清洗施工准备安全技术1)现场察看设备,查看设备图纸,详细了解清洗内容、设备材质和结垢类型。2)制订清洗技术方案,进行技术交底。3)制订安全清洗方案,做。</p><p>4、电力 安 全 技 术 第1 6 卷 ( 2 0 1 4 年第 l 1 期 ) 化学清洗技术在超超临界机组上的应用 王 磊,王俊杰 ,李海军,陈兰鹏 ( 中电投河南电力有限公司平顶山发电分公司,河南 平顶山4 6 7 0 0 0 ) 摘要介绍 了某电厂 2 1 0 0 0 Mw 超超临界机组的概 况,并根据机组实际情况阐述 了进行 双氧水 + E D T A( 乙二胺四 乙酸) 的化学清洗的范围、过程及清洗效果,总结 了化学清洗过程 中的注 意事项。 关键词超超临界机组 ;化 学清洗 ;双氧水;乙二胺 四乙酸 新建火电机组锅炉设备在投产前必须进行化学 清洗工作 ,以除去锅炉受热面残存的铁。</p><p>5、第3 1 卷 第 2期 2 0 0 9年 2月 华 电技 术 Hu a d i a n Te c h n o l o g y Vo 1 3l No 2 F e b 2 0 o 9 同步化学在 线清洗技术在发 电厂 的应用 Ap p l i c a t i o n o f s y n c h r o n i z e d o n l i n e c h e mi c a l c l e a n i n g t e c h n o l o g y i n p o we r p l a n t 孔庆甫 , 闵智慧 K O N G Q i n g f u , MI N Z h i h u i ( 杭州华 电半山发电有限公司 , 浙江 杭州3 1 0 0 1 5 ) ( H a n g z h o u H u a d i a n B a n s h a n P o w e r G e n e r a t i o n C o r p o r a t i o n L i m i t e d , H。</p>
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