集成电路的版图设计

集成电路的版图设计Tag内容描述：<p>1、第8章 模拟和双极集成电路的版图设计,主要内容 8.1 模拟CMOS集成电路 8.2 铝栅CMOS集成电路 8.3 双极集成电路,8.1 模拟CMOS集成电路 8.1.1模拟集成电路和数字集成电路的比较 8.1.2 MOS器件的对称性 对称是模拟集成电路版图设计的重要技巧之一，包括器件对称、布局布线对称等。常用的匹配规则有： 1) 把匹配器件相互靠近放置 2) 保持器件相同方向 图(c)和(d)的方案更合理。,图8.1 (a)差分对管;(b)M1和M2管的栅极取向不同的版图; (c)栅在一条直线上的版图;(d)栅平行排列的版图,“栅阴影”效应使源区或漏区边缘的扩散产生细微的不对称。,图8.。</p><p>2、第5章 CMOS集成电路的版图设计,主要内容 5.1 MOS 场效应管的版图实现 5.2 版图设计规则 5.3 版图系统的设置 5.4 版图的建立 5.5 版图的编辑 5.6 棍棒图 5.7 版图设计方法概述,5.1 MOS 场效应管的版图实现 5.1.1 单个MOS管的版图实现 1. MOS管的结构和布局 MOS管的四种布局图, 直线形排列的NMOS管,结构图,立体结构和俯视图, 源区、沟道区和漏区合称为MOS管的有源区(Active），而有源区之外的区域定义为场区（Fox)。有源区和场区之和就是整个芯片表面。 Fox + Active = Surface,芯片表面包含有源区和场区两部分, N阱CMOS集成电路使用P型衬底。</p><p>3、1,设计规则的表示方法（p.330）以为单位也叫做“规整格式”：把大多数尺寸（覆盖，出头等等）约定为的倍数与工艺线所具有的工艺分辨率有关，线宽偏离理想特征尺寸的上限以及掩膜版之间的最大套准偏差，一般等于栅长度的一半。优点：版图设计独立于工艺和实际尺寸以微米为单位也叫做“自由格式”：每个尺寸之间没有必然的比例关系，提高每一尺寸的合理度；简化度不高。目前一般双极集成电路的研制和生产，通常采用这类。</p><p>4、1,设计规则的表示方法（p.330）以为单位也叫做“规整格式”：把大多数尺寸（覆盖，出头等等）约定为的倍数与工艺线所具有的工艺分辨率有关，线宽偏离理想特征尺寸的上限以及掩膜版之间的最大套准偏差，一般等于栅长度的一半。优点：版图设计独立于工艺和实际尺寸以微米为单位也叫做“自由格式”：每个尺寸之间没有必然的比例关系，提高每一尺寸的合理度；简化度不高。目前一般双极集成电路的研制和生产，通常采用这类。</p>